[發(fā)明專利]一種電弧加熱試驗絕對輻射強度測量裝置

在審

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• 申請日: 2021-12-28
• 公開（公告）號: CN114324221A
• 公開（公告）日: 2022-04-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 曾徽
• 申請（專利權(quán)）人: 中國航天空氣動力技術(shù)研究院
• 主分類號: G01N21/33
• 分類號: G01N21/33;G01N21/359;G01N21/3504;G01J3/28;B64G7/00
• 代理公司: 北京八月瓜知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11543
• 代理人: 張兵

1.一種電弧加熱試驗絕對輻射強度測量裝置，其特征在于，包括：

電弧加熱器，用于產(chǎn)生熱電弧，將通入的冷態(tài)空氣介質(zhì)加熱成高溫氣流；

噴管，設(shè)置在所述電弧加熱器出氣端用于將高溫氣流膨脹加速形成高溫、超聲速氣流；

輻射測試系統(tǒng)，用于測量高溫、超聲速氣流產(chǎn)生的激波的波前和波后的輻射強度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電弧加熱試驗絕對輻射強度測量裝置，其特征在于，所述輻射測試系統(tǒng)包括輻射測試件、第一測試機構(gòu)和第二測試機構(gòu)，高溫、超聲速氣流與所述輻射測試件相互作用并產(chǎn)生激波，所述第一測試機構(gòu)用于測試激波波后的輻射強度，所述第二測試機構(gòu)用于測試激波波前的輻射強度，所述第一測試機構(gòu)和第二測試機構(gòu)均與數(shù)據(jù)采集終端連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電弧加熱試驗絕對輻射強度測量裝置，其特征在于，所述輻射測試件上設(shè)有供高溫氣體輻射進(jìn)入的光學(xué)窗口。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電弧加熱試驗絕對輻射強度測量裝置，其特征在于，所述輻射測試件為球錐結(jié)構(gòu)，所述光學(xué)窗口設(shè)置在球錐結(jié)構(gòu)的頂點，所述光學(xué)窗口的半錐角為1.5°-3°。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電弧加熱試驗絕對輻射強度測量裝置，其特征在于，所述第一測試機構(gòu)包括設(shè)置在所述輻射測試件內(nèi)的第一光學(xué)處理機構(gòu)和通過第一光纖與所述第一光學(xué)處理機構(gòu)連接的第一光譜儀，所述第一光譜儀與所述數(shù)據(jù)采集終端連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電弧加熱試驗絕對輻射強度測量裝置，其特征在于，所述第一光學(xué)處理機構(gòu)包括距離所述光學(xué)窗口由近至遠(yuǎn)依次間隔設(shè)置的第一濾光片和第一透鏡。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電弧加熱試驗絕對輻射強度測量裝置，其特征在于，所述第一透鏡通過位移調(diào)節(jié)機構(gòu)調(diào)節(jié)與所述第一濾光片之間的距離。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電弧加熱試驗絕對輻射強度測量裝置，其特征在于，所述第二測試機構(gòu)包括第二光學(xué)處理機構(gòu)和通過第二光纖與所述第二光學(xué)處理機構(gòu)連接的第二光譜儀，所述第二光譜儀與所述數(shù)據(jù)采集終端連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電弧加熱試驗絕對輻射強度測量裝置，其特征在于，所述第二光學(xué)處理機構(gòu)包括距離所述光學(xué)窗口由近至遠(yuǎn)依次間隔設(shè)置的第一狹縫、第二透鏡、第二狹縫、第二濾光片和第三透鏡，所述第一狹縫的開孔直徑大于所述第二狹縫的開孔直徑，所述第二透鏡為長焦透鏡，焦距為1-3m，所述第三透鏡為短焦透鏡，焦距為10-50mm。

10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電弧加熱試驗絕對輻射強度測量裝置，其特征在于，所述輻射測試件設(shè)置在試驗艙內(nèi)，所述試驗艙上連接有抽真空裝置。