[發(fā)明專利]一種電弧加熱試驗(yàn)絕對(duì)輻射強(qiáng)度測(cè)量裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111627979.1 | 申請(qǐng)日: | 2021-12-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114324221A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-04-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曾徽 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)航天空氣動(dòng)力技術(shù)研究院 |
| 主分類號(hào): | G01N21/33 | 分類號(hào): | G01N21/33;G01N21/359;G01N21/3504;G01J3/28;B64G7/00 |
| 代理公司: | 北京八月瓜知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11543 | 代理人: | 張兵 |
| 地址: | 100074 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電弧 加熱 試驗(yàn) 絕對(duì) 輻射強(qiáng)度 測(cè)量 裝置 | ||
本發(fā)明提供了一種電弧加熱試驗(yàn)絕對(duì)輻射強(qiáng)度測(cè)量裝置,包括:電弧加熱器,用于產(chǎn)生熱電弧,將通入的冷態(tài)空氣介質(zhì)加熱成高溫氣流;噴管,設(shè)置在所述電弧加熱器出氣端用于將高溫氣流膨脹加速形成高溫、超聲速氣流;輻射測(cè)試系統(tǒng),用于測(cè)量高溫、超聲速氣流產(chǎn)生的高溫氣體輻射不同波段的輻射強(qiáng)度,本發(fā)明通過(guò)設(shè)置輻射測(cè)試系統(tǒng),測(cè)量高溫、超聲速氣流產(chǎn)生的高溫氣體產(chǎn)生的激波波前和激波波后的輻射強(qiáng)度,對(duì)于開(kāi)展紅外目標(biāo)識(shí)別、高溫輻射特性研究具有重要作用。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及輻射強(qiáng)度測(cè)量裝置技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種電弧加熱試驗(yàn)絕對(duì)輻射強(qiáng)度測(cè)量裝置。
背景技術(shù)
高超聲速飛行器再入大氣過(guò)程中,飛行器與空氣介質(zhì)相互作用產(chǎn)生劇烈的熱力學(xué)、光學(xué)物理現(xiàn)象,高速再入產(chǎn)生的高溫氣體輻射是進(jìn)行目標(biāo)特性探測(cè)、識(shí)別和高溫輻射特性和高溫物理模型研究的重中之重,地面試驗(yàn)常利用電弧加熱設(shè)備、激波風(fēng)洞、膨脹管等試驗(yàn)設(shè)備開(kāi)展對(duì)于高速飛行器再入過(guò)程的模擬,其中大功率電弧風(fēng)洞可以開(kāi)展對(duì)高超聲速飛行器熱結(jié)構(gòu)及熱防護(hù)材料飛行彈道的長(zhǎng)時(shí)間模擬,開(kāi)展對(duì)飛行器再入過(guò)程氣動(dòng)加熱和光輻射特性的研究,但目前缺乏對(duì)電弧加熱試驗(yàn)過(guò)程中氣體輻射的研究,特別是對(duì)高溫氣體輻射的激波波前和激波波后的輻射強(qiáng)度定量測(cè)量非常欠缺。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種電弧加熱試驗(yàn)絕對(duì)輻射強(qiáng)度測(cè)量裝置,該電弧加熱試驗(yàn)絕對(duì)輻射強(qiáng)度測(cè)量裝置能夠解決上述問(wèn)題;
本發(fā)明提供一種電弧加熱試驗(yàn)絕對(duì)輻射強(qiáng)度測(cè)量裝置,包括:
電弧加熱器,用于產(chǎn)生熱電弧,將通入的冷態(tài)空氣介質(zhì)加熱成高溫氣流;
噴管,設(shè)置在所述電弧加熱器出氣端用于將高溫氣流膨脹加速形成高溫、超聲速氣流;
輻射測(cè)試系統(tǒng),用于測(cè)量高溫、超聲速氣流產(chǎn)生的激波的波前和波后的輻射強(qiáng)度。
在優(yōu)選的實(shí)施方案中,所述輻射測(cè)試系統(tǒng)包括輻射測(cè)試件、第一測(cè)試機(jī)構(gòu)和第二測(cè)試機(jī)構(gòu),高溫、超聲速氣流與所述輻射測(cè)試件相互作用并產(chǎn)生激波,所述第一測(cè)試機(jī)構(gòu)用于測(cè)試激波波后的輻射強(qiáng)度,所述第二測(cè)試機(jī)構(gòu)用于測(cè)試激波波前的輻射強(qiáng)度,所述第一測(cè)試機(jī)構(gòu)和第二測(cè)試機(jī)構(gòu)均與數(shù)據(jù)采集終端連接。
在優(yōu)選的實(shí)施方案中,所述輻射測(cè)試件上設(shè)有供高溫氣體輻射進(jìn)入的光學(xué)窗口。
在優(yōu)選的實(shí)施方案中,所述輻射測(cè)試件為球錐結(jié)構(gòu),所述光學(xué)窗口設(shè)置在球錐結(jié)構(gòu)的頂點(diǎn),所述光學(xué)窗口的半錐角為1.5°-3°。
在優(yōu)選的實(shí)施方案中,所述第一測(cè)試機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在所述輻射測(cè)試件內(nèi)的第一光學(xué)處理機(jī)構(gòu)和通過(guò)第一光纖與所述第一光學(xué)處理機(jī)構(gòu)連接的第一光譜儀,所述第一光譜儀與所述數(shù)據(jù)采集終端連接。
在優(yōu)選的實(shí)施方案中,所述第一光學(xué)處理機(jī)構(gòu)包括距離所述光學(xué)窗口由近至遠(yuǎn)依次間隔設(shè)置的第一濾光片和第一透鏡。
在優(yōu)選的實(shí)施方案中,所述第一透鏡通過(guò)位移調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)與所述第一濾光片之間的距離。
在優(yōu)選的實(shí)施方案中,所述第二測(cè)試機(jī)構(gòu)包括第二光學(xué)處理機(jī)構(gòu)和通過(guò)第二光纖與所述第二光學(xué)處理機(jī)構(gòu)連接的第二光譜儀,所述第二光譜儀與所述數(shù)據(jù)采集終端連接。
在優(yōu)選的實(shí)施方案中,所述第二光學(xué)處理機(jī)構(gòu)包括距離所述光學(xué)窗口由近至遠(yuǎn)依次間隔設(shè)置的第一狹縫、第二透鏡、第二狹縫、第二濾光片和第三透鏡,所述第一狹縫的開(kāi)孔直徑大于所述第二狹縫的開(kāi)孔直徑,所述第二透鏡為長(zhǎng)焦透鏡,焦距為1-3m,所述第三透鏡為短焦透鏡,焦距為10-50mm。
在優(yōu)選的實(shí)施方案中,所述輻射測(cè)試件設(shè)置在試驗(yàn)艙內(nèi),所述試驗(yàn)艙上連接有抽真空裝置。
本發(fā)明的技術(shù)方案通過(guò)設(shè)置輻射測(cè)試系統(tǒng),測(cè)量高溫、超聲速氣流產(chǎn)生的高溫氣體產(chǎn)生的激波波前和激波波后的輻射強(qiáng)度,對(duì)于開(kāi)展紅外目標(biāo)識(shí)別、高溫輻射特性研究具有重要作用。
附圖說(shuō)明
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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