[發明專利]陣列基板、陣列基板制備方法及顯示面板

在審

• 申請號: 202111608717.0
• 申請日: 2021-12-27
• 公開（公告）號: CN114361217A
• 公開（公告）日: 2022-04-15
• 發明（設計）人: 孫丹丹;張振宇;張民;王麗娟
• 申請（專利權）人: 云谷（固安）科技有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32
• 代理公司: 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258
• 代理人: 尹紅敏

1.一種陣列基板，其特征在于，包括：

襯底；

薄膜晶體管，設置在所述襯底一側；

信號線，連接至所述薄膜晶體管的源極或漏極；

平坦化層，設于所述薄膜晶體管背離所述襯底一側，所述平坦化層包括若干平坦化部，所述平坦化部具有與所述信號線位置相對應的側表面，所述信號線包括設置于所述側表面上的主體部。

2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述信號線還包括連接部，所述連接部與主體部一體設置，所述連接部與所述薄膜晶體管的源極或漏極相連接；

所述平坦化層還具有與所述襯底相平行的連接面，所述連接部設置于所述連接面；或，

相鄰所述平坦化部間隔設置，所述陣列基板還包括設置在所述平坦化層朝向襯底一側的層間絕緣層，所述層間絕緣層具有與所述襯底相平行的連接面，所述連接部設置于所述連接面。

3.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括位于所述平坦化層背離所述襯底一側的透明掩膜層，所述透明掩膜層具有對應所述平坦化部設置的掩蓋部，所述掩蓋部延伸超出相應的平坦化部。

4.根據權利要求3所述的陣列基板，其特征在于，所述主體部不超出所述掩蓋部，所述信號線還包括設置在所述掩蓋部朝向襯底一側且與所述主體部相連接的延伸部。

5.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述側表面和所述襯底所在平面相互垂直。

6.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述側表面和所述襯底所在平面之間的夾角為45°至75°。

7.一種陣列基板制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供襯底；

在所述襯底一側制備薄膜晶體管；

在所述薄膜晶體管背離所述襯底一側制備平坦化層，所述平坦化層形成有若干平坦化部，所述平坦化部具有側表面；

制備信號線，所述信號線連接至所述薄膜晶體管的源極或漏極，所述信號線包括形成于所述側表面上的主體部。

8.根據權利要求7所述的陣列基板制備方法，其特征在于，在所述制備信號線的步驟中，包括：

在所述平坦化層背離所述襯底一側形成透明掩膜層；

對所述透明掩膜層進行刻蝕，形成若干掩蓋部，所述掩蓋部覆設于所述平坦化部且超出相應的平坦化部，以使得所述掩蓋部下方形成有開槽；

沉積走線材料層；

刻蝕去除所述開槽范圍外的走線材料層，形成所述信號線。

9.一種顯示面板，其特征在于，包括：權利要求1至6任一項所述的陣列基板。

10.根據權利要求9所述的顯示面板，其特征在于，具有第一顯示區和至少部分圍繞所述第一顯示區設置的第二顯示區，所述第一顯示區的透光率大于所述第二顯示區的透光率；

所述信號線延伸經過所述第一顯示區。