[發明專利]一種水下等離子體治理水體污染的裝置與方法有效
| 申請號: | 202111594486.2 | 申請日: | 2021-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN114180659B | 公開(公告)日: | 2023-10-13 |
| 發明(設計)人: | 唐曉;孫昕;柴多生;馬伊華 | 申請(專利權)人: | 西安金山銀山科技有限公司 |
| 主分類號: | C02F1/00 | 分類號: | C02F1/00;C02F1/30;C02F1/46;C02F1/461;C25B1/04 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 水下 等離子體 治理 水體 污染 裝置 方法 | ||
本發明提供一種水下等離子體治理水體污染的裝置與方法,涉及水體污染治理領域。該水下等離子體治理水體污染的裝置,包括殼體,所述殼體的內壁固定連接有隔板,所述隔板的上方為氣室,所述氣室的內部設置有負極板,所述隔板的下方為發生腔室,所述發生腔室的內部設置有正極板,所述發生腔室的內部設置有筒體,所述筒體的外側轉動設置有離心葉輪,所述離心葉輪的外側套接有氣泡石,所述筒體的上頂壁固定連接有離心風扇,所述離心風扇的下方設置有發生器,所述離心風扇的側壁固定連接有若干第二管,所述筒體的內壁上部固定連接有第三管。無需外部氣源的供給,以及可以在不同的深度治理水體。
技術領域
本發明涉及水體污染治理技術領域,具體為一種水下等離子體治理水體污染的裝置與方法。
背景技術
等離子體又叫做電漿,是由部分電子被剝奪后的原子及原子團被電離后產生的正負離子組成的離子化氣體狀物質。等離子體可以應用于冶煉、噴涂、焊接,以及興起的污染治理。通常采用,介質阻擋放電、滑動弧放電和高頻放電的方式產生的等離子體電離有害物質,或者電離的物質氧化還原有害物質。
現有的等離子體水體污染治理設備中,利用等離子體發生裝置,產生N、OH-、O、H2O2、HO2、O3等活性粒子,實現對水中的污染物質進行氧化,實現污染治理。
等離子體水體污染治理設備需要外源的氣體。通常有兩種形式,一種是置等離子體發生裝置于地面,引入空氣或其他氣源,對氣體電離產生等離子體,并將其泵送至水中進行凈化處理,另一種是等離子體發生裝置置于水中,并在電離處泵入氣體,獲取所需等離子體。需要外源的氣體,使得裝置的復雜程度提高,同時裝置可處理的水深有限制。
發明內容
(一)解決的技術問題
針對現有技術的不足,本發明提供了一種水下等離子體治理水體污染的裝置與方法,解決了等離子體水治理設備需要外源的氣體的問題。
(二)技術方案
為實現以上目的,本發明通過以下技術方案予以實現:一種水下等離子體治理水體污染的裝置,包括殼體,所述殼體的內壁固定連接有隔板,所述隔板的上方為氣室,所述氣室的內部設置有負極板,所述隔板的下方為發生腔室,所述發生腔室的內部設置有正極板;
所述發生腔室的內部設置有筒體,所述筒體的外側轉動設置有離心葉輪,所述離心葉輪的外側套接有氣泡石,所述筒體的上頂壁固定連接有離心風扇,所述離心風扇的下方設置有發生器,所述離心風扇的側壁固定連接有若干第二管,所述第二管的另一端延伸至氣泡石的內部,所述筒體的內壁上部固定連接有第三管,所述第三管的另一端向下延伸,并靠近筒體的底部。
優選的,所述發生器包括固定板,所述固定板的邊緣固定與筒體的內壁固定連接,所述固定板的下端中部固定連接有第二電極柱,圍繞所述第二電極柱設置有第一電極柱,所述第一電極柱固定于固定板上。
優選的,所述正極板的中部固定連接有超聲波霧化器,所述正極板位于筒體的下方。
優選的,所述殼體的下端固定連接有驅動電機,所述驅動電機的上端延伸設置有電機軸,且電機軸固定連接有連軸件,所述連軸件的另一端和離心葉輪固定連接。
優選的,所述隔板上固定連接有氣閥,所述氣閥連通氣室和發生腔室。
優選的,所述殼體的下部側壁設置有第一孔,所述第一孔位于連軸件處,所述殼體的下部側壁色合作有第二孔,所述第二孔位于離心葉輪處。
優選的,所述殼體的下部側壁設置有第三孔,所述第三孔位于氣室的下部。
優選的,所述殼體的上端固定連接有線纜,所述線纜上纏繞設置有第一管,所述第一管和氣室連通。
一種水下等離子體治理水體污染的方法,包括以下內容:
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