[發(fā)明專利]Micro LED芯片組件、顯示面板及制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111566794.4 | 申請(qǐng)日: | 2021-12-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114300500A | 公開(公告)日: | 2022-04-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙永超 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | TCL華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/15 | 分類號(hào): | H01L27/15;H01L33/00;H01L33/62 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 王芳芳 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | micro led 芯片 組件 顯示 面板 制造 方法 | ||
1.一種顯示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供外延襯底;
在所述外延襯底上設(shè)置多個(gè)間隔設(shè)置的Micro LED芯片;
在所述Micro LED芯片上設(shè)置錫柱;
去除外延襯底;
采用轉(zhuǎn)移頭夾持錫柱并將Micro LED芯片轉(zhuǎn)移至背板;
采用回流焊工藝將Micro LED芯片和背板上的焊盤焊接,同時(shí)融化錫柱。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述在所述Micro LED芯片上設(shè)置錫柱包括:
采用電鍍光阻工藝在所述Micro LED芯片上形成錫柱,以控制錫柱的高度和寬度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述在所述外延襯底上設(shè)置多個(gè)間隔設(shè)置的Micro LED芯片包括:
在所述外延襯底上依次設(shè)置的第一電極、第一半導(dǎo)體層、多量子阱層、第二半導(dǎo)體層和第二電極,以形成Micro LED芯片。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述采用轉(zhuǎn)移頭夾持錫柱并將Micro LED芯片轉(zhuǎn)移至背板包括:
采用轉(zhuǎn)移頭逐一夾取錫柱,并逐一轉(zhuǎn)移和放置每一個(gè)所述Micro LED芯片至背板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述融化錫柱之后,所述方法還包括:
將融化后的錫柱形成為覆蓋于所述Micro LED芯片的錫膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述外延襯底包括襯底基板和熱解膠薄膜層,所述去除外延襯底包括:
加熱所述熱解膠薄膜層使其融化,以使所述Micro LED芯片與所述襯底基板分離。
7.一種Micro LED芯片組件,其特征在于,包括:
外延襯底,
多個(gè)Micro LED芯片,所述多個(gè)Micro LED芯片間隔設(shè)置在外延襯底上;
錫柱,所述錫柱設(shè)置在所述Micro LED芯片遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè),所述錫柱用于被夾持以將Micro LED芯片轉(zhuǎn)移。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的Micro LED芯片組件,其特征在于,所述外延襯底包括:
襯底基板,
熱解膠薄膜層,設(shè)置于所述襯底基板朝向所述Micro LED芯片一側(cè),所述熱解膠薄膜層用于加熱后融化,以使所述Micro LED芯片與所述襯底基板分離。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的Micro LED芯片組件,其特征在于,所述Micro LED芯片包括沿背離所述外延襯底方向依次設(shè)置的第一電極、第一半導(dǎo)體層、多量子阱層、第二半導(dǎo)體層、第二電極。
10.一種顯示面板,其特征在于,包括:
背板;
多個(gè)焊盤,多個(gè)所述焊盤間隔設(shè)置;
多個(gè)Micro LED芯片,所述多個(gè)Micro LED芯片對(duì)應(yīng)設(shè)置在所述焊盤上;
導(dǎo)電層,所述導(dǎo)電層設(shè)置在所述Micro LED芯片遠(yuǎn)離所述背板的一側(cè),所述導(dǎo)電層由錫柱融化形成,所述錫柱用于被夾持以將Micro LED芯片轉(zhuǎn)移至所述背板。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





