[發(fā)明專(zhuān)利]集成電路版圖布局方法及集成電路版圖布局系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111566687.1 | 申請(qǐng)日: | 2021-12-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114297974A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-04-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張玉杰;姚聰;蒙奕帆 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 上海安路信息科技股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G06F30/392 | 分類(lèi)號(hào): | G06F30/392;G06T7/70 |
| 代理公司: | 上海恒銳佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31286 | 代理人: | 黃海霞 |
| 地址: | 200434 上海市*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 集成電路 版圖 布局 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種集成電路版圖布局方法,其特征在于,包括:
獲取模塊在版圖中的相對(duì)位置信息;
根據(jù)所述模塊的相對(duì)位置信息和所述模塊的尺寸計(jì)算所述模塊的布局位置信息;
通過(guò)集成電路設(shè)計(jì)工具調(diào)用所述模塊的布局位置信息和所述模塊的地址信息實(shí)現(xiàn)集成電路版圖布局。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成電路版圖布局方法,其特征在于,所述獲取模塊在版圖中的相對(duì)位置信息,包括:
獲取所述模塊所在行和列,然后將所述模塊所在行和列作為所述模塊在所述版圖中的相對(duì)位置信息。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的集成電路版圖布局方法,其特征在于,所述根據(jù)所述模塊的相對(duì)位置信息和所述模塊的尺寸計(jì)算所述模塊的布局位置信息,包括:
以所述版圖的原點(diǎn)位置作為坐標(biāo)原點(diǎn),將所述坐標(biāo)原點(diǎn)作為位于所述版圖原點(diǎn)位置的模塊的布局位置信息,其中,沿所述版圖的最外邊緣繪制矩形,所述矩形任意一角的位置為所述原點(diǎn)位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的集成電路版圖布局方法,其特征在于,所述模塊的尺寸包括高度和寬度,所述布局位置信息包括橫坐標(biāo)和縱坐標(biāo),所述根據(jù)所述模塊的相對(duì)位置信息和所述模塊的尺寸計(jì)算所述模塊的布局位置信息,包括:
以位于所述原點(diǎn)位置的模塊所在列為第一列,以位于所述原點(diǎn)位置的模塊所在行為第一行;
同一列所述模塊中,將任意模塊作為目標(biāo)模塊,獲取所述目標(biāo)模塊到第一行模塊之間所有模塊的高度之和,以得到目標(biāo)模塊的縱坐標(biāo);
同一行所述模塊中,將任意模塊作為目標(biāo)模塊,獲取所述目標(biāo)模塊到第一列模塊之間所有模塊的寬度之和,以得到目標(biāo)模塊的橫坐標(biāo)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的集成電路版圖布局方法,其特征在于,所述根據(jù)所述模塊的相對(duì)位置信息和所述模塊的尺寸計(jì)算所述模塊的布局位置信息,還包括:
獲取所述模塊在版圖中的間隔。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的集成電路版圖布局方法,其特征在于,所述模塊的尺寸包括高度和寬度,所述布局位置信息包括橫坐標(biāo)和縱坐標(biāo),所述根據(jù)所述模塊的相對(duì)位置信息和所述模塊的尺寸計(jì)算所述模塊的布局位置信息,包括:
以位于所述原點(diǎn)位置的模塊所在列為第一列,以位于所述原點(diǎn)位置的模塊所在行為第一行;
同一列所述模塊中,將任意模塊作為目標(biāo)模塊,獲取所述目標(biāo)模塊到第一行模塊之間所有模塊的高度及所有所述間隔的高度之和,以得到目標(biāo)模塊的縱坐標(biāo);
同一行所述模塊中,將任意模塊作為目標(biāo)模塊,獲取所述目標(biāo)模塊到第一列模塊之間所有模塊的寬度及所有所述間隔的寬度之和,以得到目標(biāo)模塊的橫坐標(biāo)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成電路版圖布局方法,其特征在于,所述模塊的地址信息包括一級(jí)目錄信息和二級(jí)目錄信息,所述二級(jí)目錄信息為所述一級(jí)目錄信息的下級(jí)地址信息。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成電路版圖布局方法,其特征在于,還包括:構(gòu)建數(shù)據(jù)庫(kù),所述數(shù)據(jù)庫(kù)包括所述模塊的地址信息和所述模塊的尺寸。
9.一種集成電路版圖布局系統(tǒng),其特征在于,用于實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1~8任意一項(xiàng)所述的集成電路版圖布局方法,所述集成電路版圖布局系統(tǒng)包括獲取單元、計(jì)算單元和布局單元,所述獲取單元用于獲取模塊在版圖中的相對(duì)位置信息,所述計(jì)算單元用于根據(jù)所述模塊的相對(duì)位置信息和所述模塊的尺寸計(jì)算所述模塊的布局位置信息,所述布局單元用于通過(guò)集成電路設(shè)計(jì)工具調(diào)用所述模塊的布局位置信息和所述模塊的地址信息實(shí)現(xiàn)集成電路版圖布局。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的集成電路版圖布局系統(tǒng),其特征在于,還包括存儲(chǔ)單元,用于存儲(chǔ)數(shù)據(jù)庫(kù)。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的集成電路版圖布局系統(tǒng),其特征在于,還包括數(shù)據(jù)庫(kù)構(gòu)建單元,用于構(gòu)建數(shù)據(jù)庫(kù)。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于上海安路信息科技股份有限公司,未經(jīng)上海安路信息科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202111566687.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 相變存儲(chǔ)器芯片版圖結(jié)構(gòu)
- 一種溫度補(bǔ)償時(shí)鐘芯片的版圖結(jié)構(gòu)
- 一種溫度補(bǔ)償時(shí)鐘芯片的版圖結(jié)構(gòu)
- 一種采用PNP晶體管實(shí)現(xiàn)的高精度測(cè)溫芯片版圖結(jié)構(gòu)
- 光掩膜數(shù)據(jù)檢測(cè)方法、監(jiān)測(cè)結(jié)構(gòu)以及掩膜版
- 一種高速SPI接口安全芯片的版圖結(jié)構(gòu)
- 一種高靈敏度大容量射頻標(biāo)簽芯片的版圖結(jié)構(gòu)及射頻標(biāo)簽芯片
- 一種高靈敏度大容量射頻標(biāo)簽芯片的版圖結(jié)構(gòu)及射頻標(biāo)簽芯片
- 一種環(huán)形壓控振蕩器的版圖結(jié)構(gòu)
- 遮光帶版圖繪制方法、光罩版圖繪制方法及光罩版圖
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





