[發明專利]LPCVD石英舟的清洗方法

在審

• 申請號: 202111505989.8
• 申請日: 2021-12-10
• 公開（公告）號: CN114192489A
• 公開（公告）日: 2022-03-18
• 發明（設計）人: 許禮;張中建;高榮剛;龔琴赟;其他發明人請求不公開姓名
• 申請（專利權）人: 中節能太陽能科技（鎮江）有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/10;B08B3/04;B08B13/00
• 代理公司: 北京創賦致遠知識產權代理有限公司 11972
• 代理人: 湯磊

1.一種LPCVD石英舟的清洗方法，其特征在于包括如下步驟：

步驟一：將石英舟放置在石英舟清洗機的清洗槽內；

步驟二：清洗槽內加堿洗液，將石英舟完全浸沒，堿洗液為氫氧化物的水溶液；

步驟三：開啟清洗機，對石英舟充分堿洗；

步驟四：排放清洗機中的堿洗液，加純水循環置換對石英舟水洗；

步驟五：檢測水洗后的石英舟表面酸堿度，如為中性，則石英舟表面無殘留堿洗液，水洗符合要求，如為堿性，則返回步驟四繼續水洗；

步驟六：取出水洗符合要求的石英舟，吹干表面即可。

2.根據權利要求1所述的LPCVD石英舟的清洗方法，其特征在于：步驟二中，堿洗液為氫氧化鈉溶液或氫氧化鉀溶液。

3.根據權利要求1所述的LPCVD石英舟的清洗方法，其特征在于：步驟二中，氫氧化物的質量E×F≥H×ABCCDG×10^-18，其中：LPCVD非晶硅制備時，每次的非晶硅層鍍膜膜厚為Anm，每個石英舟使用次數為B次，硅片尺寸為C mm，每個石英舟放置D個小舟，系數H是與每個石英舟及其中放置的D個小舟的總表面積相關的估算偏差，系數H為0.62～3.73，氫氧化物的摩爾質量為G g/mol，氫氧化物的體積為E L，氫氧化物的質量濃度為F。

4.根據權利要求3所述的LPCVD石英舟的清洗方法，其特征在于：步驟三中，氫氧化物的質量濃度F為35％～100％。

5.根據權利要求1所述的LPCVD石英舟的清洗方法，其特征在于：步驟三中，堿洗時對堿洗液加熱，加熱溫度60～70℃。

6.根據權利要求1所述的LPCVD石英舟的清洗方法，其特征在于：步驟五中，檢測水洗后的石英舟表面酸堿度的方法為：使用pH試紙或使用濃度分析測試儀，檢測水洗后的石英舟表面的水珠的酸堿度。