[發明專利]一種用于光刻機的壓緊裝置在審
| 申請號: | 202111503136.0 | 申請日: | 2021-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN114047674A | 公開(公告)日: | 2022-02-15 |
| 發明(設計)人: | 王華;甘泉 | 申請(專利權)人: | 廣東科視光學技術股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 東莞市中正知識產權事務所(普通合伙) 44231 | 代理人: | 成偉 |
| 地址: | 523000 廣東省東莞*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 光刻 壓緊 裝置 | ||
本發明公開了一種用于光刻機的壓緊裝置,涉及光刻機技術領域,包括壓邊升降機構、水平位移機構、壓邊滾輪和滾輪定位機構,水平位移機構可帶動壓邊升降機構水平位移,壓邊升降機構可帶動水平位移機構和滾輪定位機構做升降運動;壓邊升降機構包括升降氣缸和升降座,升降氣缸可驅動升降座做升降運動;水平位移機構包括位移馬達和位移絲桿,位移馬達可驅動位移絲桿水平移動;滾輪定位機構包括滾輪定位支架和滾輪定位座。本發明壓緊裝置的壓邊升降機構和水平位移機構聯動工作,使滾輪定位座和壓邊滾輪能夠做升降、水平運動,壓邊滾輪能夠將PCB在豎直方向壓平,保證PCB的穩定性,從而能夠保證光刻加工的質量。
技術領域
本發明涉及光刻機技術領域,具體是一種用于光刻機的壓緊裝置。
背景技術
光刻機稱為掩膜對準曝光機,常用的光刻機是采用掩膜對準光刻,一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等多道工序,高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機這兩種,分辨率通常在七納米至幾微米之間。
PCB中文名稱是印制電路板,又稱為印刷線路板,是非常重要的電子部件,是電子元器件的支撐體,也是是電子元器件電氣連接的載體。幾乎每種電子設備,小到電子手表、計算器、遙控器,大到計算機、通信電子設備、機床、軍用武器系統,只要有集成電路等電子元件,為了使各個元件之間的電氣互連,都要使用印制板,由于它是采用電子印刷術制作的,故被稱為“印刷”電路板。
現有技術中,光刻機吸盤是光刻機的重要組成部分。吸盤的大小、平面度、吸附方式和吸附力大小等因素對PCB制版的實際生產制造有著重要影響。現有的光刻機吸盤吸附比較薄的PCB時,尚且能將PCB吸附平整,具有一定的穩定性。但是當PCB比較厚時,由于吸盤的吸附力不夠,不足以使得PCB吸附平整,無法保證PCB的穩定性,PCB的位置容易發生松動偏移,從而不能保證光刻加工的質量。
發明內容
本發明的目的在于提供一種用于光刻機的壓緊裝置,具有壓邊滾輪能夠將PCB在豎直方向壓平,保證PCB的穩定性,能夠保證光刻加工的質量的有益效果,以解決上述背景技術中提出的問題。
為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:
一種用于光刻機的壓緊裝置,包括壓邊升降機構、水平位移機構、壓邊滾輪和滾輪定位機構,所述水平位移機構設于所述壓邊升降機構之間,并與所述壓邊升降機構連接,所述水平位移機構可帶動壓邊升降機構水平位移,所述壓邊升降機構可帶動所述水平位移機構做升降運動,所述壓邊滾輪與所述滾輪定位機構連接,所述滾輪定位機構設于所述壓邊升降機構底部,并與所述壓邊升降機構連接,所述壓邊升降機構可帶動所述滾輪定位機構做升降運動;
所述壓邊升降機構包括升降氣缸和升降座,所述升降氣缸設于所述升降座頂側,所述升降氣缸與所述升降座連接,所述升降氣缸可驅動所述升降座做升降運動;
所述水平位移機構包括位移馬達和位移絲桿,所述位移絲桿設于所述位移馬達輸出端,并與位移馬達連接,所述位移馬達可驅動所述位移絲桿水平移動;
所述滾輪定位機構包括滾輪定位支架和滾輪定位座,所述壓邊滾輪連接于所述滾輪定位支架上,所述滾輪定位支架設于所述滾輪定位座上,并與所述滾輪定位座連接。
作為本發明再進一步的方案:所述壓邊升降機構設有兩個,分別設于所述滾輪定位座的兩端,并與所述滾輪定位座固定連接。
作為本發明再進一步的方案:所述壓邊升降機構還包括氣缸固定塊、升降滑軌和升降滑塊,所述氣缸固定塊、升降滑軌、升降滑塊依次設置、連接,所述氣缸固定塊底部與所述水平位移機構固定連接,所述升降氣缸連接于所述氣缸固定塊的頂部,所述升降滑軌固定連接于所述氣缸固定塊側面,所述升降滑塊可滑動地連接于所述升降滑軌上,所述升降滑塊與所述升降座固定連接。
作為本發明再進一步的方案:所述滾輪定位座設于所述升降座之間,所述滾輪定位座端部與所述升降座固定連接。
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