[發明專利]一種半導體低VOCs清洗劑在審
| 申請號： | 202111497412.7 | 申請日： | 2021-12-09 |
| 公開（公告）號： | CN114149869A | 公開（公告）日： | 2022-03-08 |
| 發明（設計）人： | 吳愛平 | 申請（專利權）人： | 蘇州德韜科技有限公司 |
| 主分類號： | C11D1/66 | 分類號： | C11D1/66;C11D3/20;C11D3/43;C11D3/60 |
| 代理公司： | 蘇州佳捷天誠知識產權代理事務所(普通合伙) 32516 | 代理人： | 石俊飛 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州市*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 半導體 vocs 洗劑 | ||
【權利要求書】：
1.一種半導體低VOCs清洗劑，其特征在于：包括如下組分：表面活性劑、二乙二醇丁醚、助溶劑、緩蝕劑和去離子水。
2.如權利要求1所述的一種半導體清洗劑，其特征在于：包括質量份數為10-20份的表面活性劑、3-5份的二乙二醇丁醚、3-5份的助溶劑、0.5份的緩蝕劑和余量的去離子水。
3.如權利要求2所述的一種半導體清洗劑，其特征在于：所述助溶劑為醇醚溶劑。
4.如權利要求2所述的一種半導體清洗劑，其特征在于：所述表面活性劑為非離子表面活性劑。
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