[發明專利]一種可測結構精度的納米壓印設備及壓印方法有效
| 申請號: | 202111487129.6 | 申請日: | 2021-12-07 |
| 公開(公告)號: | CN114253066B | 公開(公告)日: | 2023-07-11 |
| 發明(設計)人: | 冀然 | 申請(專利權)人: | 青島天仁微納科技有限責任公司 |
| 主分類號: | G03F7/00 | 分類號: | G03F7/00 |
| 代理公司: | 山東重諾律師事務所 37228 | 代理人: | 王鵬里 |
| 地址: | 266000 山東省青島市城陽區城*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 結構 精度 納米 壓印 設備 方法 | ||
本發明提出一種可測結構精度的納米壓印設備及壓印方法,包括腔體和位于腔體上的左側門、右側門,還包括壓印單元,檢測單元和傳輸單元;檢測單元位于腔體右側,與右側門相鄰,包括晶圓托盤,XY軸位移平臺,膜厚檢測探頭;傳輸單元位于壓印單元和檢測單元之間,簡化測試流程,提高工作效率,避免遺漏缺陷,實現檢測自動化節約人力物力。
技術領域
本發明涉及納米壓印技術領域,尤其涉及一種可測結構精度的納米壓印設備及壓印方法。
背景技術
納米壓印技術是通過光刻膠輔助,將模板上的微納結構轉移到待加工材料上的技術。隨著納米壓印技術的飛速發展,納米壓印產品尺寸越來越大,但元件的臨界尺寸越來越小,肉眼很難分辨出產品中存在的缺陷,如果壓印產品結構精度與原始模具偏差超出容差值,那么該產品無法用于刻蝕流程,傳統的測試只能做到抽檢,且時間長,效率低。
發明內容
本發明的目的在于克服以上技術缺陷,提出一種可測結構精度的納米壓印設備及壓印方法,簡化測試流程,提高工作效率。
本發明為實現其技術目的所采取的技術方案是:一種可測結構精度的納米壓印設備,包括腔體和位于所述腔體上的左側門、右側門,還包括壓印單元,檢測單元和傳輸單元;
所述壓印單元位于所述腔體左側,與所述左側門相鄰,所述壓印單元包括上下兩部分,上部分包括壓板和夾具,在所述壓板和夾具之間還設有軟模具,所述軟模具依靠真空吸附在所述壓板上,所述夾具依靠磁力吸附固定在所述壓板上,所述夾具將所述軟模具夾緊固定;
所述壓板通過支架固定在所述腔體頂部,在所述腔體頂部、所述壓板正上方還設有紫外燈,所述壓板中間設有用于通過紫外線的透明部分,所述夾具中間設置鏤空部分;
所述壓印單元下部分包括上下移動裝置,在所述上下移動裝置上方安裝有加熱裝置和托盤,在所述托盤上方通過真空吸附有基片;
所述檢測單元位于所述腔體右側,與所述右側門相鄰,包括晶圓托盤,位移平臺,檢測探頭;所述傳輸單元位于壓印單元和檢測單元之間,包括機械手,真空吸附基板。
優選的,所述壓板中間的透明部分寬度與所述托盤寬度一致。
優選的,所述夾具中間的鏤空部分寬度大于所述托盤寬度。
優選的,所述位移平臺為XY軸位移平臺,所述檢測探頭為膜厚檢測探頭。
一種可測結構精度的納米壓印設備,其壓印方法包括如下步驟:
A、右側門打開,原始模具放入檢測單元晶圓托盤;
B、膜厚檢測探頭根據設定好的路徑,在XY軸位移平臺上移動,測試多點結構深度,并實時傳輸到電腦上;
C、機械手臂運動,真空吸附原始模具,然后移動到壓印單元內托盤上,機械手臂回到原位;
D、壓印單元執行復制流程,左側門打開,固定PET,然后點膠,托盤緩慢向上移動;
E、直至膠均勻覆蓋在原始模具表面,隨后紫外燈對膠進行固化;
F、固化完成后脫模,脫模后將原始模具從左側門取出;
G、左側門關閉,右側門開啟,壓印基片放入檢測單元托盤,膜厚檢測探頭按程序測試相同點位基片厚度,并實時傳輸到電腦上,保證基片平整度符合壓印要求;
H、機械手臂運動,真空吸附基片,然后移動到壓印單元內托盤上,機械手臂回到原位;
I、壓印單元執行復制流程,左側門打開,固定PET,然后點膠,托盤緩慢向上移動;
J、直至膠均勻覆蓋在原始模具表面,隨后紫外燈對膠進行固化;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于青島天仁微納科技有限責任公司,未經青島天仁微納科技有限責任公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202111487129.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





