[發(fā)明專利]具有隱形效應(yīng)的全息防偽標識貼膜及其制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111482749.0 | 申請日: | 2021-12-07 |
| 公開(公告)號: | CN114120799B | 公開(公告)日: | 2022-09-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 姚競;謝菲;姚立武 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳永豐吉科技有限公司 |
| 主分類號: | G09F3/02 | 分類號: | G09F3/02 |
| 代理公司: | 深圳深知通專利代理事務(wù)所(普通合伙) 44783 | 代理人: | 鄒圣姬 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市福田區(qū)福田街道福*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 隱形 效應(yīng) 全息 防偽 標識 及其 制作方法 | ||
1.一種具有隱形效應(yīng)的全息防偽標識貼膜,其特征在于,包括底層、防偽信息層和保護層;其中,
所述底層采用聚對苯二甲酸乙二醇酯材料;
所述防偽信息層包括附著在底層的隱形編碼,所述隱形編碼為以離散的點陣形成的隱形的設(shè)定圖像,所述設(shè)定圖像經(jīng)激光反射形成可解讀的光信號;
所述保護層覆蓋于防偽信息層外,用于避免防偽信息層被損壞;
所述點陣的各點設(shè)置設(shè)定角度的光柵膜片,所述光柵膜片采用隱形材料制作;
光柵膜片采用激光光刻制作,在制作光柵膜片時,采集環(huán)境溫度和濕度;
通過分光裝置將激光分成兩束,兩束激光平行射入同一凸透鏡后,以設(shè)定角度作為光刻激光入射角度,在通孔填充的隱形材料上形成干涉;
考慮空氣影響,對光刻激光入射到隱形材料的入射角度進行調(diào)整,采用以下公式計算空氣對入射角度的影響系數(shù):
上式中,表示空氣對入射角度的影響系數(shù),表示環(huán)境溫度,表示激光波長,表示空氣濕度,表示空氣的定壓比熱,取值為1.01,表示水蒸氣的定壓比熱,取值為1.84,表示普朗克常數(shù),是光速;
根據(jù)影響系數(shù)對入射角度進行相應(yīng)調(diào)整,采用調(diào)整后的入射角度進行激光光刻。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有隱形效應(yīng)的全息防偽標識貼膜,其特征在于,所述點陣的不同點設(shè)置相同設(shè)定角度或者不同設(shè)定角度的光柵膜片。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有隱形效應(yīng)的全息防偽標識貼膜,其特征在于,將所述點陣的各點進行分組,同一分組不同點設(shè)置不同設(shè)定角度的光柵膜片且在采用激光反射時形成相互干涉的可解讀光信號。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有隱形效應(yīng)的全息防偽標識貼膜,其特征在于,所述防偽信息層采用金屬材料制作;所述保護層為聚酯光透材料。
5.一種具有隱形效應(yīng)的全息防偽標識貼膜的制作方法,其特征在于,包括以下步驟:
S100制作至少一面具有激光全息效果的膜片,該膜片包括底層和承載層,底層采用聚對苯二甲酸乙二醇酯材料;
S200通過圖形工藝,根據(jù)隱形編碼在承載層形成離散點陣的通孔,所述離散點陣構(gòu)成設(shè)定圖像;
S300對通孔填充隱形材料,并進行平整處理后,所述承載層成為帶有隱形的設(shè)定圖像的防偽信息層;
在平整處理后,采用設(shè)定角度的激光進行光刻,將通孔內(nèi)填充的隱形材料制作成設(shè)定角度的光柵膜片;
激光光刻制作光柵膜片時,采集環(huán)境溫度和濕度;
通過分光裝置將激光分成兩束,兩束激光平行射入同一凸透鏡后,以設(shè)定角度作為光刻激光入射角度,在通孔填充的隱形材料上形成干涉;
考慮空氣影響,對光刻激光入射到隱形材料的入射角度進行調(diào)整,采用以下公式計算空氣對入射角度的影響系數(shù):
上式中,表示空氣對入射角度的影響系數(shù),表示環(huán)境溫度,表示激光波長,表示空氣濕度,表示空氣的定壓比熱,取值為1.01,表示水蒸氣的定壓比熱,取值為1.84,表示普朗克常數(shù),是光速;
根據(jù)影響系數(shù)對入射角度進行相應(yīng)調(diào)整,采用調(diào)整后的入射角度進行激光光刻;
S400通過沉積工藝,在防偽信息層表面形成保護層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的具有隱形效應(yīng)的全息防偽標識貼膜的制作方法,其特征在于,在S200步驟中,所述圖形工藝如下:
S210以防偽信息構(gòu)建隱形編碼,根據(jù)隱形編碼進行圖形設(shè)計;
S220根據(jù)圖形設(shè)計在承載層表面設(shè)置掩膜;
S230將承載層朝下固定,通過蝕刻在承載層形成離散點陣的通孔。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的具有隱形效應(yīng)的全息防偽標識貼膜的制作方法,其特征在于,在S400步驟中,所述沉積工藝包括:
在預(yù)定溫度下,噴射聚酯光透材料至防偽信息層表面形成保護層;
在達到設(shè)定的基礎(chǔ)噴射時長后,檢測保護層厚度,若未達到設(shè)定的基準厚度,則以厚度偏差計算補充噴射時長,并以補充噴射時長控制進行補充噴射;
將補充噴射時長增加入基礎(chǔ)噴射時長。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的具有隱形效應(yīng)的全息防偽標識貼膜的制作方法,其特征在于,在S300步驟中,平整處理采用化學(xué)機械拋光方式。
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