[發明專利]具有隱形效應的全息防偽標識貼膜及其制作方法有效
| 申請號: | 202111482749.0 | 申請日: | 2021-12-07 |
| 公開(公告)號: | CN114120799B | 公開(公告)日: | 2022-09-09 |
| 發明(設計)人: | 姚競;謝菲;姚立武 | 申請(專利權)人: | 深圳永豐吉科技有限公司 |
| 主分類號: | G09F3/02 | 分類號: | G09F3/02 |
| 代理公司: | 深圳深知通專利代理事務所(普通合伙) 44783 | 代理人: | 鄒圣姬 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市福田區福田街道福*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 隱形 效應 全息 防偽 標識 及其 制作方法 | ||
本發明提供了一種具有隱形效應的全息防偽標識貼膜及其制作方法,貼膜包括底層、信息層和保護層;底層采用聚對苯二甲酸乙二醇酯材料;防偽信息層包括附著在底層的隱形編碼,隱形編碼為以離散的點陣形成的隱形的設定圖像,設定圖像經激光反射形成可解讀的光信號;保護層覆蓋于防偽信息層外,用于避免防偽信息層被損壞。制作方法包括:制作至少一面具有激光全息效果的膜片,該膜片包括底層和承載層,底層采用聚對苯二甲酸乙二醇酯材料;通過圖形工藝,根據隱形編碼在承載層形成離散點陣的通孔,所述離散點陣構成設定圖像;對通孔填充隱形材料,進行平整處理后承載層成為帶有隱形的設定圖像的防偽信息層;通過沉積工藝,在防偽信息層表面形成保護層。
技術領域
本發明涉及防偽信息與標識技術領域,特別涉及一種具有隱形效應的全息防偽標識貼膜及其制作方法。
背景技術
全息技術利用光波干涉原理,以光波記錄信息,在激光輻照下,形成漫射式的物光束;再將參考光束照射至全息底片,參考光束與物光束相互干涉,將位相和振幅轉換成空間變化強度,全息技術可采用各種形式的波動,例如如微波、X射線、聲波和電子波等,只要在形成干涉時,波動具有足夠的相干性。光學全息技術在電視、立體電影、展覽、顯微術、干涉度量學、光刻、軍事和探測等各個方面應用廣泛。在防偽標識方面,全息技術也得到了開發和應用,如圖1所示的全息防偽標識貼膜,帶有全息防偽標識,可用于各種產品防偽。
現有的全息防偽標識貼膜無法隱藏,容易辯認,從而仍然有較大的假冒風險,導致其防偽效果并不理想。
發明內容
為了解決上述技術問題,本發明提供了一種具有隱形效應的全息防偽標識貼膜,包括底層、信息層和保護層;其中,
所述底層采用聚對苯二甲酸乙二醇酯材料;
所述防偽信息層包括附著在底層的隱形編碼,所述隱形編碼為以離散的點陣形成的隱形的設定圖像,所述設定圖像經激光反射形成可解讀的光信號;
所述保護層覆蓋于防偽信息層外,用于避免防偽信息層被損壞。
可選的,所述點陣的各點設置設定角度的光柵膜片,所述光柵膜片采用隱形材料制作。
可選的,所述點陣的不同點設置相同設定角度或者不同設定角度的光柵膜片。
可選的,將所述點陣的各點進行分組,同一分組不同點設置不同設定角度的光柵膜片且在采用激光反射時形成相互干涉的可解讀光信號。
可選的,所述防偽信息層采用金屬材料制作;所述保護層為聚酯光透材料。
本發明還提供了一種具有隱形效應的全息防偽標識貼膜的制作方法,包括以下步驟:
S100制作至少一面具有激光全息效果的膜片,該膜片包括底層和承載層,底層采用聚對苯二甲酸乙二醇酯材料;
S200通過圖形工藝,根據隱形編碼在承載層形成離散點陣的通孔,所述離散點陣構成設定圖像;
S300對通孔填充隱形材料,并進行平整處理后,所述承載層成為帶有隱形的設定圖像的防偽信息層;
S400通過沉積工藝,在防偽信息層表面形成保護層。
可選的,在S200步驟中,所述圖形工藝如下:
S210以防偽信息構建隱形編碼,根據隱形編碼進行圖形設計;
S220根據圖形設計在承載層表面設置掩膜;
S230將承載層朝下固定,通過蝕刻在承載層形成離散點陣的通孔。
可選的,在S300步驟中,在平整處理后,采用設定角度的激光進行光刻,將通孔內填充的隱形材料制作成設定角度的光柵膜片。
可選的,在S400步驟中,所述沉積工藝包括:
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