[發(fā)明專利]限定磁道軌跡以減小AC磁道壓縮的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111473910.8
• 申請(qǐng)日: 2020-03-24
• 公開（公告）號(hào): CN114141273A
• 公開（公告）日: 2022-03-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: H·艾德;T·濱口;M·池田;N·伊藤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西部數(shù)據(jù)技術(shù)公司
• 主分類號(hào): G11B5/596
• 分類號(hào): G11B5/596
• 代理公司: 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245
• 代理人: 袁策

本申請(qǐng)涉及限定磁道軌跡以減小AC磁道壓縮的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置，并公開一種數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置，其包括在磁盤上方致動(dòng)的磁頭，所述磁盤包括用于限定多個(gè)數(shù)據(jù)磁道的伺服數(shù)據(jù)，其中每一數(shù)據(jù)磁道包括多個(gè)數(shù)據(jù)段。將第一數(shù)據(jù)寫入到第一數(shù)據(jù)磁道的第一數(shù)據(jù)段，且將第二數(shù)據(jù)寫入到第二數(shù)據(jù)磁道的第二數(shù)據(jù)段。在寫入所述第二數(shù)據(jù)之后，針對(duì)所述第一數(shù)據(jù)段的至少兩個(gè)偏離磁道偏移測量質(zhì)量度量。基于所述質(zhì)量度量估計(jì)所述第一數(shù)據(jù)段與所述第二數(shù)據(jù)段之間的磁道間距，且基于所估計(jì)磁道間距生成所述第二數(shù)據(jù)段的磁道軌跡。基于所述磁道軌跡將第三數(shù)據(jù)寫入到所述第二數(shù)據(jù)段。

本申請(qǐng)是于2020年3月24日提交的名稱為“限定磁道軌跡以減小AC磁道壓縮的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置”的中國專利申請(qǐng)202010212652.7的分案申請(qǐng)。

背景技術(shù)

例如磁盤驅(qū)動(dòng)器的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置包括磁盤和連接到致動(dòng)器臂的遠(yuǎn)端的磁頭，所述致動(dòng)器臂由音圈電機(jī)(VCM)繞樞軸旋轉(zhuǎn)以將磁頭徑向地定位在磁盤上方。磁盤包括用于記錄用戶數(shù)據(jù)扇區(qū)和伺服扇區(qū)的多個(gè)徑向間隔的同心磁道。伺服扇區(qū)包括磁頭定位信息(例如，磁道地址)，其由磁頭讀取并由伺服控制系統(tǒng)進(jìn)行處理，以在致動(dòng)器臂在磁道之間搜尋時(shí)控制致動(dòng)器臂。

磁盤驅(qū)動(dòng)器通常包括各自具有由相應(yīng)磁頭存取的頂部和底部表面的多個(gè)磁盤。也就是說，VCM通常繞樞軸旋轉(zhuǎn)數(shù)個(gè)致動(dòng)器臂，以便基于每一磁盤表面上記錄的伺服數(shù)據(jù)同時(shí)將數(shù)個(gè)磁頭定位在相應(yīng)磁盤表面上方。圖1將現(xiàn)有技術(shù)磁盤格式2展示為包括數(shù)個(gè)伺服磁道4，其由在每一伺服磁道的圓周周圍記錄的伺服扇區(qū)6₀到6_N限定。每一伺服扇區(qū)6_i包括前同步碼8，其用于存儲(chǔ)允許讀取信號(hào)的適當(dāng)增益調(diào)整和時(shí)序同步的周期性模式，和同步標(biāo)記10，其用于存儲(chǔ)用于符號(hào)同步到伺服數(shù)據(jù)字段12的特殊模式。伺服數(shù)據(jù)字段12存儲(chǔ)用于在搜尋操作期間將磁頭定位在目標(biāo)數(shù)據(jù)磁道上方的粗略磁頭定位信息，例如伺服磁道地址。每一伺服扇區(qū)6_i進(jìn)一步包括多組伺服脈沖14(例如，N和Q伺服脈沖)，其以相對(duì)于彼此且相對(duì)于伺服磁道中心線的預(yù)定相位記錄。基于相位的伺服脈沖14在寫入/讀取操作期間存取數(shù)據(jù)磁道時(shí)提供用于中心線跟蹤的精細(xì)磁頭位置信息。通過讀取伺服脈沖14生成位置誤差信號(hào)(PES)，其中PES表示磁頭相對(duì)于目標(biāo)伺服磁道的中心線的所測量位置。伺服控制器處理PES以生成施加到磁頭致動(dòng)器(例如，音圈電機(jī))的控制信號(hào)，以便在減小PES的方向上在磁盤上方徑向地致動(dòng)磁頭。

附圖說明

圖1展示包括由伺服扇區(qū)限定的多個(gè)伺服磁道的現(xiàn)有技術(shù)磁盤格式。

圖2A展示根據(jù)實(shí)施例的呈磁盤驅(qū)動(dòng)器形式的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置，其包括在磁盤上方致動(dòng)的磁頭。

圖2B為根據(jù)實(shí)施例的流程圖，其中基于數(shù)據(jù)段的所測量磁道間距生成目標(biāo)數(shù)據(jù)磁道的磁道軌跡。

圖2C展示其中以稱為疊瓦式記錄的技術(shù)重疊地寫入數(shù)據(jù)磁道的實(shí)施例。

圖2D展示其中通過測量目標(biāo)數(shù)據(jù)磁道周圍的多個(gè)數(shù)據(jù)段的所測量磁道間距與目標(biāo)磁道間距之間的增量(Δ)來生成目標(biāo)數(shù)據(jù)磁道的磁道軌跡的實(shí)施例。

圖2E和2F展示其中數(shù)據(jù)段的所測量磁道間距與目標(biāo)磁道間距之間的增量(Δ)可以為負(fù)(意指所測量磁道間距大于目標(biāo)磁道間距)的實(shí)施例。

圖3A和3B展示其中生成目標(biāo)數(shù)據(jù)磁道的每一數(shù)據(jù)段的交叉磁道輪廓，并將其用于測量每一數(shù)據(jù)段處的磁道間距的實(shí)施例。

圖4A到4E展示其中用于生成交叉磁道輪廓的質(zhì)量度量為數(shù)據(jù)段的誤差率的實(shí)施例。

圖5A和5B展示用于生成目標(biāo)數(shù)據(jù)磁道的磁道軌跡的實(shí)施例。

圖6A到6F展示其中用于生成交叉磁道輪廓的質(zhì)量度量為數(shù)據(jù)段的信噪比(SNR)的實(shí)施例。

圖7A展示其中通過曲線擬合在數(shù)據(jù)段的兩個(gè)偏離磁道偏移處所測量的質(zhì)量度量來估計(jì)交叉磁道輪廓的拐點(diǎn)的實(shí)施例。