[發(fā)明專(zhuān)利]限定磁道軌跡以減小AC磁道壓縮的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111473910.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-03-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114141273A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-03-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | H·艾德;T·濱口;M·池田;N·伊藤 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 西部數(shù)據(jù)技術(shù)公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G11B5/596 | 分類(lèi)號(hào): | G11B5/596 |
| 代理公司: | 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245 | 代理人: | 袁策 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 限定 磁道 軌跡 減小 ac 壓縮 數(shù)據(jù) 存儲(chǔ) 裝置 | ||
1.一種數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置,其包括:
磁盤(pán),其包括用于限定多個(gè)數(shù)據(jù)磁道的伺服數(shù)據(jù),其中每一數(shù)據(jù)磁道包括多個(gè)數(shù)據(jù)段;
磁頭,其在所述磁盤(pán)上方致動(dòng);以及
控制電路,其配置成:
將第一數(shù)據(jù)寫(xiě)入到第一數(shù)據(jù)磁道的數(shù)據(jù)段;
將第二數(shù)據(jù)寫(xiě)入到第二數(shù)據(jù)磁道的數(shù)據(jù)段;
在寫(xiě)入所述第二數(shù)據(jù)之后,在所述第一數(shù)據(jù)磁道的多個(gè)偏離磁道偏移處讀取所述第一數(shù)據(jù),以測(cè)量所述第一數(shù)據(jù)磁道的平均偏離磁道讀取能力(OTRC);
生成所述第一數(shù)據(jù)磁道的第一數(shù)據(jù)段的交叉磁道輪廓;以及
使所述交叉磁道輪廓的至少部分與所測(cè)量平均OTRC相關(guān)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置,其中所述第二數(shù)據(jù)磁道至少部分地與所述第一數(shù)據(jù)磁道重疊。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置,其中所述控制電路進(jìn)一步配置成:
基于所述交叉磁道輪廓與所述所測(cè)量平均OTRC的相關(guān)性,生成第三數(shù)據(jù)磁道的磁道軌跡;以及
基于所述磁道軌跡將第三數(shù)據(jù)寫(xiě)入到所述第三數(shù)據(jù)磁道的所述數(shù)據(jù)段。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置,其中所述控制電路進(jìn)一步配置成基于所述第三數(shù)據(jù)磁道的交叉磁道輪廓的至少部分,生成所述第三數(shù)據(jù)磁道的所述磁道軌跡。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置,其中所述控制電路進(jìn)一步配置成基于所述第三數(shù)據(jù)磁道的交叉磁道輪廓的拐點(diǎn),生成所述第三數(shù)據(jù)磁道的所述磁道軌跡。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置,其中所述控制電路進(jìn)一步配置成:
針對(duì)所述第一數(shù)據(jù)磁道的多個(gè)磁道間距中的每一個(gè)測(cè)量所述第一數(shù)據(jù)磁道的所述平均OTRC;
在每一磁道間距處生成所述第一數(shù)據(jù)磁道的所述第一數(shù)據(jù)段的所述交叉磁道輪廓;以及
在每一磁道間距處使每一交叉磁道輪廓的至少部分與所述所測(cè)量平均OTRC相關(guān)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置,其中所述控制電路進(jìn)一步配置成生成磁道軌跡,以實(shí)現(xiàn)第三數(shù)據(jù)磁道的目標(biāo)磁道間距。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置,其中當(dāng)在多個(gè)偏離磁道偏移處對(duì)所述第一數(shù)據(jù)段進(jìn)行讀取時(shí),基于所測(cè)量的質(zhì)量度量來(lái)生成所述交叉磁道輪廓。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置,其中所述質(zhì)量度量包括所述第一數(shù)據(jù)段的誤差率。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置,其中:
所述第一數(shù)據(jù)由第一周期性模式組成,所述第一周期性模式由第一轉(zhuǎn)變頻率組成;
所述第二數(shù)據(jù)由第二周期性模式組成,所述第二周期性模式由第二轉(zhuǎn)變頻率組成;且
所述質(zhì)量度量包括信噪比(SNR)測(cè)量值。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置,其中所述控制電路進(jìn)一步配置成基于所述第一數(shù)據(jù)磁道的扇區(qū)故障率,生成所述第一數(shù)據(jù)磁道的所述平均OTRC。
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