[發明專利]圖形渲染的方法、裝置、存儲介質以及電子設備在審
| 申請號： | 202111470500.8 | 申請日： | 2021-12-03 |
| 公開（公告）號： | CN114299210A | 公開（公告）日： | 2022-04-08 |
| 發明（設計）人： | 袁曉輝 | 申請（專利權）人： | 網易(杭州)網絡有限公司 |
| 主分類號： | G06T15/00 | 分類號： | G06T15/00;G06T13/20 |
| 代理公司： | 北京博浩百睿知識產權代理有限責任公司 11134 | 代理人： | 趙昀彬;謝湘寧 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 圖形 渲染 方法 裝置 存儲 介質 以及 電子設備 | ||
1.一種圖形渲染的方法，其特征在于，包括：
獲取由多個繪制元素組成的繪制隊列；
按照所述繪制隊列中各繪制元素的繪制順序對所述多個繪制元素進行碰撞測試，所述碰撞測試用于確定所述多個繪制元素中互相之間不交叉且材質相同的目標繪制元素；
當所述多個繪制元素中存在所述目標繪制元素時，對所述目標繪制元素進行合批渲染。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述按照所述繪制隊列中各繪制元素的繪制順序對所述多個繪制元素進行碰撞測試，包括：
從所述多個繪制元素中選取第一繪制元素；
按照所述繪制順序，依次比較所述第一繪制元素的材質與后續繪制元素的材質是否相同；
當在所述后續繪制元素中查找到第二繪制元素時，將所述第一繪制元素與所述第二繪制元素之間的中間繪制元素依次分別與所述第一繪制元素以及所述第二繪制元素進行碰撞測試，其中，所述第一繪制元素的材質與所述第二繪制元素的材質相同；
當存在中間繪制元素同時與所述第一繪制元素和所述第二繪制元素發生碰撞時，則確定所述第一繪制元素與所述第二繪制元素之間存在交叉；
當不存在中間繪制元素同時與所述第一繪制元素和所述第二繪制元素發生碰撞時，則確定所述第一繪制元素與所述第二繪制元素之間不存在交叉。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，按照所述繪制隊列中各繪制元素的繪制順序對所述多個繪制元素進行碰撞測試，包括：
從所述多個繪制元素中選取第一繪制元素；
按照所述繪制順序，依次比較所述第一繪制元素的材質與后續繪制元素的材質是否相同；
當在所述后續繪制元素中查找到第二繪制元素時，將所述第一繪制元素與所述第二繪制元素之間的中間繪制元素與所述第二繪制元素進行碰撞測試，其中，所述第一繪制元素的材質與所述第二繪制元素的材質相同；
當存在中間繪制元素與所述第二繪制元素發生碰撞時，則確定所述第一繪制元素與所述第二繪制元素之間存在交叉；
當不存在中間繪制元素與所述第二繪制元素發生碰撞時，則確定所述第一繪制元素與所述第二繪制元素之間不存在交叉。
4.根據權利要求2或權利要求3所述的方法，其特征在于，所述中間繪制元素為所述第一繪制元素與所述第二繪制元素之間的繪制元素中的前m個繪制元素，其中，所述m為正整數。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述對所述目標繪制元素進行合批渲染，包括：
對所述多個繪制元素進行合圖操作，得到目標圖形；
對所述目標圖形進行渲染。
6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述對所述多個繪制元素進行合圖操作，得到目標圖形，包括：
對待合圖的繪制元素的周圍分別增加預設數量的透明像素；
將增加透明像素后的繪制元素進行合圖操作，得到目標圖形。
7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述對待合圖的繪制元素的周圍分別增加預設數量的透明像素之前，所述方法還包括：
確定所述待合圖的繪制元素的尺寸滿足預設條件；
若所述待合圖的繪制元素的尺寸不滿足預設條件，在所述待合圖的繪制元素的周圍填充透明像素，直到所述待合圖的繪制元素的尺寸滿足所述預設條件。
8.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：
根據所述增加透明像素后的繪制元素對所述目標圖形的紋理坐標進行更新。
9.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述對所述多個繪制元素進行合圖操作，包括：
對壓縮格式的所述多個繪制元素進行合圖操作。
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