[發(fā)明專利]一種局部鍍膜散熱片加工方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111451934.3
• 申請(qǐng)日: 2021-12-01
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114134474A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-03-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張于光;郭明哲;胡瑋;吳玉紅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 聯(lián)德電子科技（常熟）有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/04;C23C14/16;C23C14/24;C23C14/32
• 代理公司: 北京化育知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11833
• 代理人: 閆露露

本發(fā)明提供一種局部鍍膜散熱片加工方法，包括以下步驟：步驟(1).將需要鍍膜的金屬產(chǎn)品放置在氣密箱內(nèi)；步驟(2).通過(guò)電子在電場(chǎng)作用下跟氬原子發(fā)生碰撞產(chǎn)生的正離子和新電子，氬正離子以高能量抨擊靶表面，將指定的金屬鍍材并從其表面分離出金屬鍍材的原子或分子，抨擊散射出的靶沉積在散熱片表面形成的薄膜；步驟(3).在金屬鍍膜空間外側(cè)設(shè)有位置控制磁場(chǎng)，控制鍍膜方向和位置。本發(fā)明方法純機(jī)器操作過(guò)程方便控制，鍍膜速率連續(xù)穩(wěn)定，鍍膜方向可調(diào)整具有指向性，需要哪面電鍍就可哪面電鍍，沒(méi)有廢氣廢水產(chǎn)生。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及金屬鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種局部鍍膜散熱片加工方法。

背景技術(shù)

電鍍?cè)诂F(xiàn)代工業(yè)中是必不可少的，為了提高產(chǎn)品的可焊性、耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、抗腐蝕性(硫酸銅等)及增進(jìn)美觀等作用，對(duì)塑膠和金屬表面做一層電鍍。常用的電鍍處理都是專業(yè)設(shè)備用浸泡的方式，這種方式整個(gè)產(chǎn)品就全部被電鍍了。一來(lái)對(duì)于散熱行業(yè)的散熱片來(lái)說(shuō)，只需電鍍接觸面即可，其它地方電鍍顯然浪費(fèi)；二來(lái)電鍍產(chǎn)生的廢水、廢氣對(duì)人體和環(huán)境的危害極大浸泡式整體電鍍的方式既費(fèi)時(shí)費(fèi)力，又不環(huán)保。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所解決的技術(shù)問(wèn)題在于提供一種局部鍍膜散熱片加工方法，以解決上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。

本發(fā)明所解決的技術(shù)問(wèn)題采用以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)：一種局部鍍膜散熱片加工方法，包括以下步驟：

步驟(1).將需要鍍膜的金屬產(chǎn)品放置在氣密箱內(nèi)，抽真空通氬氣；

步驟(2).通過(guò)電子在電場(chǎng)作用下跟氬原子發(fā)生碰撞產(chǎn)生的正離子和新電子，氬正離子以高能量抨擊靶表面，將指定的金屬鍍材并從其表面分離出金屬鍍材的原子或分子，抨擊散射出的靶沉積在散熱片表面形成的薄膜；

步驟(3).在金屬鍍膜空間外側(cè)設(shè)有位置控制磁場(chǎng)，控制鍍膜方向和位置。

所述需要鍍膜的金屬產(chǎn)品材質(zhì)為銅、鐵、鋁、鎂、不銹鋼及其合金中的一種。

所述金屬鍍材為銅鋅、錫、鎳、銀、金中的一種。

所述分離方式為蒸發(fā)鍍、離子鍍、磁控濺射中的一種。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明方法純機(jī)器操作過(guò)程方便控制，鍍膜速率連續(xù)穩(wěn)定，鍍膜方向可調(diào)整具有指向性，需要哪面電鍍就可哪面電鍍，沒(méi)有廢氣廢水產(chǎn)生。

具體實(shí)施方式

為了使本發(fā)明的實(shí)現(xiàn)技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白了解，進(jìn)一步闡述本發(fā)明，在本發(fā)明的描述中，需要說(shuō)明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“安裝”、“連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連，可以兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。

實(shí)施例1

一種局部鍍膜散熱片加工方法，包括以下步驟：

步驟(1).將需要鍍膜的金屬產(chǎn)品放置在氣密箱內(nèi)，抽真空通氬氣；

步驟(2).通過(guò)電子在電場(chǎng)作用下跟氬原子發(fā)生碰撞產(chǎn)生的正離子和新電子，氬正離子以高能量抨擊靶表面，將指定的金屬鍍材并從其表面分離出金屬鍍材的原子或分子，抨擊散射出的靶沉積在散熱片表面形成的薄膜；

步驟(3).在金屬鍍膜空間外側(cè)設(shè)有位置控制磁場(chǎng)，控制鍍膜方向和位置。

所述需要鍍膜的金屬產(chǎn)品材質(zhì)為銅、鐵，所述金屬鍍材為銅、鋅。

實(shí)施例2

一種局部鍍膜散熱片加工方法，包括以下步驟：

步驟(1).將需要鍍膜的金屬產(chǎn)品放置在氣密箱內(nèi)，抽真空，通氬氣；