[發(fā)明專利]一種羽化掩膜模板及其生成方法、裝置、可讀存儲介質(zhì)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202111451781.2
• 申請日: 2021-12-01
• 公開（公告）號: CN114283146A
• 公開（公告）日: 2022-04-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 不公告發(fā)明人
• 申請（專利權(quán)）人: 廈門漢印電子技術(shù)有限公司
• 主分類號: G06T7/10
• 分類號: G06T7/10
• 代理公司: 廈門智慧呈睿知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 35222
• 代理人: 鄭擁軍

本發(fā)明提供了一種羽化掩膜模板及其生成方法、裝置、可讀存儲介質(zhì)，包括：獲取待處理的掩膜圖像；獲取預(yù)設(shè)的S型曲線函數(shù)，所述S型曲線為灰階值關(guān)于階調(diào)的非線性單調(diào)函數(shù)；根據(jù)預(yù)設(shè)的非線性S型曲線函數(shù)對所述掩膜圖像上的每個像素點(diǎn)的階調(diào)進(jìn)行計(jì)算得到對應(yīng)的灰階值，以生成灰階漸變圖；利用半色調(diào)算法對所述灰階漸變圖進(jìn)行計(jì)算，生成羽化掩膜模板。旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中線性灰階漸變圖案的羽化掩膜模板生成方法存在羽化效果不佳的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及圖像處理領(lǐng)域，具體涉及一種羽化掩膜模板及其生成方法、裝置、可讀存儲介質(zhì)。

背景技術(shù)

數(shù)碼噴印技術(shù)中的羽化方法是一種用于模糊由于導(dǎo)帶運(yùn)動誤差而產(chǎn)生的圖像打印中拼接不連續(xù)或拼接重疊的圖像處理技術(shù)，羽化方法通常是生成一個由實(shí)到虛的掩膜模板對第一次打印數(shù)據(jù)的羽化區(qū)域進(jìn)行相與計(jì)算，而后在第二次打印時使用與當(dāng)前羽化膜板相反的膜板對上次打印數(shù)據(jù)的羽化區(qū)域進(jìn)行相與計(jì)算，這樣兩次打印相互拼接時將能夠較好的模糊過硬的打印拼接區(qū)域，保證圖像不會嚴(yán)重失真。

因此，羽化掩膜模板的生成方法決定了對打印拼接區(qū)域處理效果的好壞，一種好的羽化掩膜模板應(yīng)使拼接區(qū)域不易被人眼所查覺。現(xiàn)有技術(shù)中的羽化掩膜模板生成方法通常是采用基于誤差擴(kuò)散算法對指定高度的灰階漸變圖案進(jìn)行半色調(diào)計(jì)算來生成一個二值點(diǎn)陣的掩膜矩陣，這種使用線性灰階漸變圖案的羽化掩膜模板生成方法存在羽化效果不佳的問題。

有鑒于此，提出本申請。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種羽化掩膜模板及其生成方法、裝置、可讀存儲介質(zhì)，能夠有效解決現(xiàn)有技術(shù)中線性灰階漸變圖案的羽化掩膜模板生成方法存在羽化效果不佳的問題。

本發(fā)明公開了一種羽化掩膜模板生成方法，包括：

獲取待處理的掩膜圖像；

獲取預(yù)設(shè)的S型曲線函數(shù)，所述S型曲線為灰階值關(guān)于階調(diào)的非線性單調(diào)函數(shù)；

根據(jù)預(yù)設(shè)的非線性S型曲線函數(shù)對所述掩膜圖像上的每個像素點(diǎn)的階調(diào)進(jìn)行計(jì)算得到對應(yīng)的灰階值，以生成灰階漸變圖；

利用半色調(diào)算法對所述灰階漸變圖進(jìn)行計(jì)算，生成羽化掩膜模板。

優(yōu)選地，所述S型曲線函數(shù)的X軸為所述掩膜圖像的階調(diào)，所述S型曲線函數(shù)的Y軸為所述灰階漸變圖的灰階值，所述S型曲線函數(shù)包括第一曲線部分以及第二曲線部分，所述第一曲線部分為開口向上且斜率沿著X軸方向呈遞增趨走向的曲線，所述第二曲線部分為開口向下且斜率沿著X軸方向呈遞減趨走向的曲線，且所述第一曲線部分與所述第二曲線部分的形狀相同。

優(yōu)選地，所述第一曲線部分與所述第二曲線部分的連接點(diǎn)為曲線分割點(diǎn)P，所述曲線分割點(diǎn)的橫坐標(biāo)設(shè)置為所述掩膜圖像階調(diào)最小值和階調(diào)最大值區(qū)間內(nèi)的中間值。

優(yōu)選地，當(dāng)所述掩膜圖像的像素點(diǎn)的階調(diào)小于所述曲線分割點(diǎn)P的橫坐標(biāo)時，其對應(yīng)的所述灰階漸變圖上的像素點(diǎn)的灰階值由公式G＝R-(sqrt(R*R-L*L))計(jì)算得到，其中，L是所述掩膜圖像的像素點(diǎn)的階調(diào)，R是所述S型曲線函數(shù)的曲線半徑，所述曲線半徑R為R＝P-1，G是對應(yīng)的所述灰階漸變圖上的像素點(diǎn)的灰階值。

優(yōu)選地，當(dāng)所述掩膜圖像像素點(diǎn)的階調(diào)大于等于所述曲線分割點(diǎn)P的橫坐標(biāo)時，其對應(yīng)所述灰階漸變圖上的像素點(diǎn)的灰階值由公式G＝R+(sqrt(R*R-(255-L)*(255-L)))計(jì)算得到，其中，L是所述掩膜圖像的像素點(diǎn)的階調(diào)，R是所述S型曲線函數(shù)的曲線半徑，所述曲線半徑R為R＝255-P，G是對應(yīng)的所述灰階漸變圖上的像素點(diǎn)的灰階值。

優(yōu)選地，所述半色調(diào)算法為藍(lán)噪聲閾值模板半色調(diào)算法。

優(yōu)選地，所述藍(lán)噪聲閾值模板半色調(diào)算法采用VOID AND CLUSTER算法預(yù)生成。

本發(fā)明還提供了一種羽化掩膜模板生成裝置，包括：