[發明專利]一種羽化掩膜模板及其生成方法、裝置、可讀存儲介質

在審

• 申請號: 202111451781.2
• 申請日: 2021-12-01
• 公開（公告）號: CN114283146A
• 公開（公告）日: 2022-04-05
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 廈門漢印電子技術有限公司
• 主分類號: G06T7/10
• 分類號: G06T7/10
• 代理公司: 廈門智慧呈睿知識產權代理事務所(普通合伙) 35222
• 代理人: 鄭擁軍

本發明提供了一種羽化掩膜模板及其生成方法、裝置、可讀存儲介質，包括：獲取待處理的掩膜圖像；獲取預設的S型曲線函數，所述S型曲線為灰階值關于階調的非線性單調函數；根據預設的非線性S型曲線函數對所述掩膜圖像上的每個像素點的階調進行計算得到對應的灰階值，以生成灰階漸變圖；利用半色調算法對所述灰階漸變圖進行計算，生成羽化掩膜模板。旨在解決現有技術中線性灰階漸變圖案的羽化掩膜模板生成方法存在羽化效果不佳的問題。

技術領域

本發明涉及圖像處理領域，具體涉及一種羽化掩膜模板及其生成方法、裝置、可讀存儲介質。

背景技術

數碼噴印技術中的羽化方法是一種用于模糊由于導帶運動誤差而產生的圖像打印中拼接不連續或拼接重疊的圖像處理技術，羽化方法通常是生成一個由實到虛的掩膜模板對第一次打印數據的羽化區域進行相與計算，而后在第二次打印時使用與當前羽化膜板相反的膜板對上次打印數據的羽化區域進行相與計算，這樣兩次打印相互拼接時將能夠較好的模糊過硬的打印拼接區域，保證圖像不會嚴重失真。

因此，羽化掩膜模板的生成方法決定了對打印拼接區域處理效果的好壞，一種好的羽化掩膜模板應使拼接區域不易被人眼所查覺。現有技術中的羽化掩膜模板生成方法通常是采用基于誤差擴散算法對指定高度的灰階漸變圖案進行半色調計算來生成一個二值點陣的掩膜矩陣，這種使用線性灰階漸變圖案的羽化掩膜模板生成方法存在羽化效果不佳的問題。

有鑒于此，提出本申請。

發明內容

有鑒于此，本發明的目的在于提供一種羽化掩膜模板及其生成方法、裝置、可讀存儲介質，能夠有效解決現有技術中線性灰階漸變圖案的羽化掩膜模板生成方法存在羽化效果不佳的問題。

本發明公開了一種羽化掩膜模板生成方法，包括：

獲取待處理的掩膜圖像；

獲取預設的S型曲線函數，所述S型曲線為灰階值關于階調的非線性單調函數；

根據預設的非線性S型曲線函數對所述掩膜圖像上的每個像素點的階調進行計算得到對應的灰階值，以生成灰階漸變圖；

利用半色調算法對所述灰階漸變圖進行計算，生成羽化掩膜模板。

優選地，所述S型曲線函數的X軸為所述掩膜圖像的階調，所述S型曲線函數的Y軸為所述灰階漸變圖的灰階值，所述S型曲線函數包括第一曲線部分以及第二曲線部分，所述第一曲線部分為開口向上且斜率沿著X軸方向呈遞增趨走向的曲線，所述第二曲線部分為開口向下且斜率沿著X軸方向呈遞減趨走向的曲線，且所述第一曲線部分與所述第二曲線部分的形狀相同。

優選地，所述第一曲線部分與所述第二曲線部分的連接點為曲線分割點P，所述曲線分割點的橫坐標設置為所述掩膜圖像階調最小值和階調最大值區間內的中間值。

優選地，當所述掩膜圖像的像素點的階調小于所述曲線分割點P的橫坐標時，其對應的所述灰階漸變圖上的像素點的灰階值由公式G＝R-(sqrt(R*R-L*L))計算得到，其中，L是所述掩膜圖像的像素點的階調，R是所述S型曲線函數的曲線半徑，所述曲線半徑R為R＝P-1，G是對應的所述灰階漸變圖上的像素點的灰階值。

優選地，當所述掩膜圖像像素點的階調大于等于所述曲線分割點P的橫坐標時，其對應所述灰階漸變圖上的像素點的灰階值由公式G＝R+(sqrt(R*R-(255-L)*(255-L)))計算得到，其中，L是所述掩膜圖像的像素點的階調，R是所述S型曲線函數的曲線半徑，所述曲線半徑R為R＝255-P，G是對應的所述灰階漸變圖上的像素點的灰階值。

優選地，所述半色調算法為藍噪聲閾值模板半色調算法。

優選地，所述藍噪聲閾值模板半色調算法采用VOID AND CLUSTER算法預生成。

本發明還提供了一種羽化掩膜模板生成裝置，包括：