[發(fā)明專利]一種羽化掩膜模板及其生成方法、裝置、可讀存儲(chǔ)介質(zhì)

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111451781.2
• 申請(qǐng)日: 2021-12-01
• 公開（公告）號(hào): CN114283146A
• 公開（公告）日: 2022-04-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 不公告發(fā)明人
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廈門漢印電子技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G06T7/10
• 分類號(hào): G06T7/10
• 代理公司: 廈門智慧呈睿知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 35222
• 代理人: 鄭擁軍

1.一種羽化掩膜模板生成方法,其特征在于，包括：

獲取待處理的掩膜圖像；

獲取預(yù)設(shè)的S型曲線函數(shù)，所述S型曲線為灰階值關(guān)于階調(diào)的非線性單調(diào)函數(shù)；

根據(jù)預(yù)設(shè)的非線性S型曲線函數(shù)對(duì)所述掩膜圖像上的每個(gè)像素點(diǎn)的階調(diào)進(jìn)行計(jì)算得到對(duì)應(yīng)的灰階值，以生成灰階漸變圖；

利用半色調(diào)算法對(duì)所述灰階漸變圖進(jìn)行計(jì)算，生成羽化掩膜模板。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種羽化掩膜模板生成方法，其特征在于，所述S型曲線函數(shù)的X軸為所述掩膜圖像的階調(diào)，所述S型曲線函數(shù)的Y軸為所述灰階漸變圖的灰階值，所述S型曲線函數(shù)包括第一曲線部分以及第二曲線部分，所述第一曲線部分為開口向上且斜率沿著X軸方向呈遞增趨走向的曲線，所述第二曲線部分為開口向下且斜率沿著X軸方向呈遞減趨走向的曲線，且所述第一曲線部分與所述第二曲線部分的形狀相同。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的羽化掩膜模板生成方法，其特征在于，所述第一曲線部分與所述第二曲線部分的連接點(diǎn)為曲線分割點(diǎn)P，所述曲線分割點(diǎn)的橫坐標(biāo)設(shè)置為所述掩膜圖像階調(diào)最小值和階調(diào)最大值區(qū)間內(nèi)的中間值。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種羽化掩膜模板生成方法，其特征在于，當(dāng)所述掩膜圖像的像素點(diǎn)的階調(diào)小于所述曲線分割點(diǎn)P的橫坐標(biāo)時(shí)，其對(duì)應(yīng)的所述灰階漸變圖上的像素點(diǎn)的灰階值由公式G＝R-(sqrt(R*R-L*L))計(jì)算得到，其中，L是所述掩膜圖像的像素點(diǎn)的階調(diào)，R是所述S型曲線函數(shù)的曲線半徑，所述曲線半徑R為R＝P-1，G是對(duì)應(yīng)的所述灰階漸變圖上的像素點(diǎn)的灰階值。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種羽化掩膜模板生成方法，其特征在于，當(dāng)所述掩膜圖像像素點(diǎn)的階調(diào)大于等于所述曲線分割點(diǎn)P的橫坐標(biāo)時(shí)，其對(duì)應(yīng)所述灰階漸變圖上的像素點(diǎn)的灰階值由公式G＝R+(sqrt(R*R-(255-L)*(255-L)))計(jì)算得到，其中，L是所述掩膜圖像的像素點(diǎn)的階調(diào)，R是所述S型曲線函數(shù)的曲線半徑，所述曲線半徑R為R＝255-P，G是對(duì)應(yīng)的所述灰階漸變圖上的像素點(diǎn)的灰階值。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種羽化掩膜模板生成方法，其特征在于，所述半色調(diào)算法為藍(lán)噪聲閾值模板半色調(diào)算法。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種羽化掩膜模板生成方法，其特征在于，所述藍(lán)噪聲閾值模板半色調(diào)算法采用VOID AND CLUSTER算法預(yù)生成。

8.一種羽化掩膜模板生成裝置，其特征在于，包括：

圖像獲取單元，用于獲取待處理的掩膜圖像；

S型曲線函數(shù)生成單元，用于獲取預(yù)設(shè)的S型曲線函數(shù)，所述S型曲線為灰階值關(guān)于階調(diào)的非線性單調(diào)函數(shù)；

灰階漸變圖處理單元，用于根據(jù)預(yù)設(shè)的非線性S型曲線函數(shù)對(duì)所述掩膜圖像上的每個(gè)像素點(diǎn)的階調(diào)進(jìn)行計(jì)算得到對(duì)應(yīng)的灰階值，以生成灰階漸變圖；

羽化掩膜模板生成單元，用于利用半色調(diào)算法對(duì)所述灰階漸變圖進(jìn)行計(jì)算，生成羽化掩膜模板。

9.一種羽化掩膜模板生成設(shè)備，其特征在于，包括處理器、存儲(chǔ)器以及存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器中且被配置由所述處理器執(zhí)行的計(jì)算機(jī)程序，所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至7任意一項(xiàng)所述的一種羽化掩膜模板生成方法。

10.一種可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其特征在于，存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，所述計(jì)算機(jī)程序能夠被該存儲(chǔ)介質(zhì)所在設(shè)備的處理器執(zhí)行，以實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至7任意一項(xiàng)所述的一種羽化掩膜模板生成方法。