[發(fā)明專利]一種硬盤驅(qū)動器的軸承的鍍膜方法

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• 申請日: 2021-11-29
• 公開（公告）號: CN116180024A
• 公開（公告）日: 2023-05-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊理
• 申請（專利權(quán)）人: 東莞新科技術(shù)研究開發(fā)有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/14
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫

本發(fā)明公開了一種硬盤驅(qū)動器的軸承的鍍膜方法，所述方法包括：將待鍍膜的硬盤驅(qū)動器的軸承放置在鍍膜夾具上，并置于真空室內(nèi)；將真空室內(nèi)的真空度抽至8.0×10supgt;?4/supgt;Pa，向真空室內(nèi)通入氬氣，使真空度保持在0.5Pa，對所述軸承的表面進行預(yù)清洗處理；將真空室內(nèi)的真空度抽至5.0×10supgt;?6/supgt;Pa，向真空室內(nèi)通入乙炔，使真空度保持在9.0Pa～10.0Pa，通過離子濺射在所述軸承的表面沉積形成金屬層。采用本發(fā)明的技術(shù)方案能夠有效減少硬盤驅(qū)動器內(nèi)的金屬粉塵的產(chǎn)生，從而防止金屬粉塵掉落在硬盤上造成硬盤的劃傷。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種硬盤驅(qū)動器的軸承的鍍膜方法。

背景技術(shù)

硬盤驅(qū)動器在封裝的時候，需要無塵的環(huán)境，如果有灰塵被封裝在硬盤驅(qū)動器中，就會在實際使用時造成硬盤的劃傷。此外，由于硬盤驅(qū)動器內(nèi)部的音圈馬達帶動磁頭的懸臂件，使磁頭進行讀寫，金屬粉塵極易通過摩擦而產(chǎn)生，如果掉落在硬盤上，同樣會造成硬盤的劃傷。

但是，在傳統(tǒng)的磁盤驅(qū)動器的封裝過程中，過多的著眼點在于如何防止環(huán)境中的灰塵的影響，卻忽視了硬盤內(nèi)部很多零部件的摩擦也能產(chǎn)生大量的金屬粉塵。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實施例所要解決的技術(shù)問題在于，提供一種硬盤驅(qū)動器的軸承的鍍膜方法，能夠有效減少硬盤驅(qū)動器內(nèi)的金屬粉塵的產(chǎn)生，從而防止金屬粉塵掉落在硬盤上造成硬盤的劃傷。

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明實施例提供了一種硬盤驅(qū)動器的軸承的鍍膜方法，包括：

將待鍍膜的硬盤驅(qū)動器的軸承放置在鍍膜夾具上，并置于真空室內(nèi)；

將真空室內(nèi)的真空度抽至8.0×10^-4Pa，向真空室內(nèi)通入氬氣，使真空度保持在0.5Pa，對所述軸承的表面進行預(yù)清洗處理；

將真空室內(nèi)的真空度抽至5.0×10^-6Pa，向真空室內(nèi)通入乙炔，使真空度保持在9.0Pa～10.0Pa，通過離子濺射在所述軸承的表面沉積形成金屬層。

進一步地，所述對所述軸承的表面進行預(yù)清洗處理，具體為：

通過射頻磁控濺射儀對所述軸承的表面進行預(yù)清洗處理，其中，所述射頻磁控濺射儀的頻率為15MHz，功率為2.5kW。

進一步地，所述通過離子濺射在所述軸承的表面沉積形成金屬層，具體為：

通過偏壓電源向所述軸承施加1000V～1500V的負(fù)電壓；

通過100mA～120mA的直流電源產(chǎn)生輝光放電，以將金屬靶材原子通過濺射沉積于所述軸承的表面，形成所述金屬層。

進一步地，所述偏壓電源為高頻脈沖電源，電壓為-5kV，頻率為800kHz～1000kHz。

進一步地，所述金屬層的濺射時間為60min，所述金屬層的厚度為2μm～3μm。

進一步地，所述金屬靶材的材質(zhì)為鎳，所述金屬層為鎳層。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實施例提供了一種硬盤驅(qū)動器的軸承的鍍膜方法，首先，將待鍍膜的硬盤驅(qū)動器的軸承放置在鍍膜夾具上，并置于真空室內(nèi)；接著，將真空室內(nèi)的真空度抽至8.0×10^-4Pa，向真空室內(nèi)通入氬氣，使真空度保持在0.5Pa，對所述軸承的表面進行預(yù)清洗處理；最后，將真空室內(nèi)的真空度抽至5.0×10^-6Pa，向真空室內(nèi)通入乙炔，使真空度保持在9.0Pa～10.0Pa，通過離子濺射在所述軸承的表面沉積形成金屬層；通過在硬盤驅(qū)動器的軸承的表面鍍一層金屬層，相應(yīng)增加其硬度，能夠有效減少硬盤驅(qū)動器內(nèi)的金屬粉塵的產(chǎn)生，從而防止金屬粉塵掉落在硬盤上造成硬盤的劃傷，進而延長了硬盤的使用壽命。

附圖說明