[發(fā)明專(zhuān)利]液處理方法和液處理裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111394120.0
• 申請(qǐng)日: 2021-11-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114570556A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-06-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宮窪祐允;高橋哲平
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): B05B13/02
• 分類(lèi)號(hào): B05B13/02;B05B12/08;H01L21/67
• 代理公司: 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;劉芃茜

1.一種液處理方法，其特征在于，包括：

將涂敷液供給到基片的正面的步驟；和

使所述基片旋轉(zhuǎn)而使所供給的所述涂敷液在所述基片的正面上擴(kuò)散，在該正面上形成涂敷膜的步驟，

在所述形成涂敷膜的步驟中，從所述涂敷液到達(dá)所述基片的正面的周緣部前起，開(kāi)始從溶劑供給部向所述周緣部連續(xù)供給所述涂敷液的溶劑，并至少持續(xù)至所述形成涂敷膜的步驟結(jié)束。

2.如權(quán)利要求1所述的液處理方法，其特征在于：

以從所述溶劑供給部釋放的所述溶劑形成的液柱與所述周緣部的邊緣傾斜部接觸的方式，從所述溶劑供給部向所述周緣部連續(xù)供給所述溶劑。

3.如權(quán)利要求1或2所述的液處理方法，其特征在于：

在所述形成涂敷膜的步驟中，包括使所述基片旋轉(zhuǎn)而使所述涂敷膜干燥的步驟，

在所述干燥的步驟中，也繼續(xù)從所述溶劑供給部向所述周緣部連續(xù)供給所述溶劑。

4.如權(quán)利要求3所述的液處理方法，其特征在于：

包括如下步驟：在所述干燥的步驟后，利用來(lái)自所述溶劑供給部的所述溶劑，將所述基片的所述正面中的、周緣側(cè)的預(yù)先決定的區(qū)域內(nèi)的所述涂敷液除去的步驟。

5.如權(quán)利要求4所述的液處理方法，其特征在于：

在從所述溶劑供給部向所述周緣部連續(xù)供給所述溶劑時(shí)，從所述溶劑供給部向在所述除去的步驟中被除去所述涂敷液的所述區(qū)域內(nèi)供給所述溶劑。

6.如權(quán)利要求4或5所述的液處理方法，其特征在于：

在從所述溶劑供給部向所述周緣部連續(xù)供給所述溶劑之后接著進(jìn)行所述除去的步驟，不中斷地繼續(xù)從所述溶劑供給部釋放所述溶劑。

7.一種液處理裝置，其特征在于，包括：

保持基片并使其旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)保持部；

向被所述旋轉(zhuǎn)保持部保持的所述基片的正面供給涂敷液的涂敷液供給部；

向被所述旋轉(zhuǎn)保持部保持的所述基片的正面供給所述涂敷液的溶劑的溶劑供給部；和

控制部，

所述控制部執(zhí)行以下步驟：

從所述涂敷液供給部將涂敷液供給到基片的正面的步驟；和

使所述基片旋轉(zhuǎn)而使所供給的所述涂敷液在所述基片的正面上擴(kuò)散，在該正面上形成涂敷膜的步驟，

在所述形成涂敷膜的步驟中，輸出控制信號(hào)，以使得從所述涂敷液到達(dá)所述基片的正面的周緣部前起，開(kāi)始從所述溶劑供給部向所述周緣部連續(xù)供給所述溶劑，并至少持續(xù)至所述形成涂敷膜的步驟結(jié)束。