[發明專利]一種采用射頻磁控濺射法制備二氧化釩薄膜的方法有效
| 申請號： | 202111370877.6 | 申請日： | 2021-11-18 |
| 公開（公告）號： | CN114059032B | 公開（公告）日： | 2022-09-13 |
| 發明（設計）人： | 田宏偉;劉鴻旭;楊俊;于陜升 | 申請（專利權）人： | 吉林大學 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/02;C23C14/08;C23C14/54;C23C14/58 |
| 代理公司： | 北京高沃律師事務所 11569 | 代理人： | 霍苗 |
| 地址： | 130012 吉林*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 采用 射頻 磁控濺射 法制 氧化 薄膜 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種二氧化釩薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
在真空反應室中，采用射頻磁控濺射法，在基底表面濺射二氧化釩后，升高基底溫度進行原位退火，得到二氧化釩薄膜；所述基底和二氧化釩薄膜之間不設置緩沖層；
所述射頻磁控濺射的條件為：所述基底的溫度為250～300℃；氬氣通入反應室的流速為0.8sccm；氧氣通入反應室的流速為40sccm；反應室的氣壓為0.8Pa；濺射時間為15～20min；濺射功率為95W；
所述原位退火的溫度為460～520℃，保溫時間為200s；
升溫至所述原位退火的溫度的時間≤7s；
進行所述濺射前，對所述基底進行清洗；
所述清洗包括在超聲條件下，依次用丙酮、無水乙醇和水進行清洗；
所述濺射采用的靶材為純度為99.9％的釩靶；
進行所述濺射前，對所述靶材進行預濺射；
進行所述濺射時，所述基底與靶材的距離為80mm，所述基底的轉速為25rad/s。
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