[發明專利]顯示裝置及其制造方法

有效

• 申請號: 202111367982.4
• 申請日: 2021-11-18
• 公開（公告）號: CN114122220B
• 公開（公告）日: 2023-10-03
• 發明（設計）人: 鄭玄宗;施景耀;王錚亮
• 申請（專利權）人: 友達光電股份有限公司
• 主分類號: H01L33/44
• 分類號: H01L33/44;H01L25/075;H01L33/00
• 代理公司: 北京市立康律師事務所 11805
• 代理人: 梁揮;孟超

1.一種顯示裝置，其特征在于，包括：

電路基板；

二氧化硅圖案，位于所述電路基板上，且具有多個第一開口；以及

多個發光元件，位于所述電路基板上，且電性連接所述電路基板，其中所述多個發光元件分別位于所述多個第一開口中，且鄰接所述二氧化硅圖案。

2.如權利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，還包括離型層，其中所述二氧化硅圖案及所述發光元件位于所述電路基板與所述離型層之間。

3.如權利要求2所述的顯示裝置，其特征在于，還包括隔離結構，其中所述離型層位于所述隔離結構與所述二氧化硅圖案之間。

4.如權利要求3所述的顯示裝置，其特征在于，還包括色轉換結構，位于所述隔離結構之間。

5.如權利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述發光元件的頂面面積與底面面積不同。

6.如權利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述電路基板具有多個凹槽，且所述二氧化硅圖案位于所述多個凹槽中。

7.如權利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，還包括光吸收圖案，其中所述二氧化硅圖案覆蓋所述光吸收圖案。

8.如權利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，還包括反射圖案，其中所述二氧化硅圖案覆蓋所述反射圖案。

9.如權利要求8所述的顯示裝置，其特征在于，所述反射圖案靠近所述離型層側的寬度小于所述反射圖案遠離所述離型層側的寬度。

10.一種顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括：

提供生長基板；

形成離型層于所述生長基板上；

形成二氧化硅圖案于所述離型層上，且所述二氧化硅圖案具有多個第一開口；以及

形成多個發光元件于所述離型層上，且所述多個發光元件分別位于所述多個第一開口中。

11.如權利要求10所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，還包括提供電路基板，且將所述發光元件與所述電路基板電性連接。

12.如權利要求10所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，還包括移除所述生長基板，以露出所述離型層。

13.如權利要求12所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，還包括形成隔離結構于所述離型層上。

14.如權利要求13所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，還包括形成色轉換結構于所述隔離結構之間。

15.如權利要求10所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述形成二氧化硅圖案于所述離型層上的步驟包括：

形成光吸收圖案于所述離型層上，且所述光吸收圖案具有多個第二開口；以及

形成所述二氧化硅圖案覆蓋所述光吸收圖案。

16.如權利要求10所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述形成二氧化硅圖案于所述離型層上的步驟包括：

形成反射圖案于所述離型層上，且所述反射圖案具有多個第三開口；以及

形成所述二氧化硅圖案覆蓋所述反射圖案。