[發明專利]掩膜組件及沉積裝置

在審

• 申請號: 202111359892.0
• 申請日: 2021-11-17
• 公開（公告）號: CN114032524A
• 公開（公告）日: 2022-02-11
• 發明（設計）人: 陳靜
• 申請（專利權）人: 合肥維信諾科技有限公司
• 主分類號: C23C16/04
• 分類號: C23C16/04
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 邱婧雯;臧建明

1.一種掩膜組件，其特征在于，包括掩膜版和設置于所述掩膜版上的遮蔽板，所述掩膜版設置有多個第一開口，所述遮蔽板設置有多個第二開口，每個所述第二開口在所述掩膜版上的投影覆蓋至少一個所述第一開口。

2.根據權利要求1所述的掩膜組件，其特征在于，所述第二開口的數量與所述第一開口的數量相同，每個所述第二開口在所述掩膜版上的投影覆蓋對應的一個所述第一開口。

3.根據權利要求1所述的掩膜組件，其特征在于，所述遮蔽板包括方形框架和多個支撐條，多個所述支撐條在所述方形框架內橫縱交錯設置，以與所述方形框架圍設成多個所述第二開口。

4.根據權利要求1所述的掩膜組件，其特征在于，所述遮蔽板包括板狀主體，所述板狀主體上設置有多個通孔，所述通孔形成所述第二開口。

5.根據權利要求1-4任一項所述的掩膜組件，其特征在于，在垂直于所述掩膜版的方向上，所述遮蔽板的厚度為1-3mm。

6.根據權利要求1-4任一項所述的掩膜組件，其特征在于，所述遮蔽板的周向邊緣設置有多個支撐腳，多個所述支撐腳用于支撐所述遮蔽板。

7.一種沉積裝置，其特征在于，包括沉積腔室及位于所述沉積腔室內如權利要求1-6任一項所述的掩膜組件。

8.根據權利要求7所述的沉積裝置，其特征在于，所述沉積腔室的側壁上設置有多個支撐柱，多個所述支撐柱沿所述掩膜組件的遮蔽板周向間隔設置，多個所述支撐柱用于支撐所述遮蔽板的周向邊緣。

9.根據權利要求8所述的沉積裝置，其特征在于，多個所述支撐柱均位于所述遮蔽板的下方，各所述支撐柱的第一端均與所述沉積腔室的側壁連接，各所述支撐柱的第二端均抵頂所述遮蔽板的周向邊緣。

10.根據權利要求8所述的沉積裝置，其特征在于，所述遮蔽板的周向邊緣設置有多個豎向的通槽，各所述支撐柱的第二端插設在一個所述通槽內，所述通槽的槽壁和槽底抵頂所述支撐柱的第二端。