[發(fā)明專利]一種電路板沉銅工序除膠方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111358020.2 | 申請(qǐng)日: | 2021-11-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114206003B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-07-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 游昆;李朋;何立發(fā);葉婉秋;肖玉珍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 龍南駿亞電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H05K3/00 | 分類號(hào): | H05K3/00;H05K3/42 |
| 代理公司: | 北京盛凡佳華專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11947 | 代理人: | 蔡浩 |
| 地址: | 341700 江西省贛州市龍*** | 國(guó)省代碼: | 江西;36 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電路板 工序 方法 | ||
1.一種電路板沉銅工序除膠方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、將完成鉆孔和恒溫烤板后的高TG印刷電路板進(jìn)行板材確認(rèn);
S2、對(duì)高TG印刷電路板進(jìn)行除膠前處理磨刷,去除印刷電路板上的表面銅;
S3、將步驟S2中的高TG印刷電路板進(jìn)行烘烤處理,所述高TG印刷電路板的烘烤溫度為140-160℃,烘烤時(shí)間為50-70分鐘;
S4、將烘干后的高TG印刷電路板放入等離子清洗設(shè)備中;
S5、等離子清洗設(shè)備中電離化的氣體分子撞擊高TG印刷電路板并與高TG印刷電路板的材料分子反應(yīng),抽真空把氣體排出;
S6、利用四氟化碳、氧氣、氮?dú)庖约皻鍤馑a(chǎn)生腐蝕性的氣體咬蝕高TG印刷電路板的孔壁膠跡,進(jìn)行除膠處理,增強(qiáng)孔壁粗糙度,四氟化碳的純度為99.999%、氧氣的純度為99.6%、氮?dú)獾募兌葹?9.99%、氬氣的純度為99.99%;
其中,除膠處理的時(shí)間為60分鐘,除膠包括以下具體步序:
A1、只通入氧氣1000份,反應(yīng)時(shí)間為5分鐘;
A2、繼續(xù)通入氧氣800份,同時(shí)通入氮?dú)?00份,反應(yīng)時(shí)間為50分鐘;
A3、繼續(xù)通入氧氣200份、停止氮?dú)獾耐ㄈ耄瑫r(shí)通入四氟化碳250份以及氬氣800份,反應(yīng)時(shí)間為5分鐘;
其中,所述除膠處理的溫度控制在60±5℃的范圍內(nèi),等離子清洗設(shè)備的功率設(shè)置為4000W;
S7、除膠完成后,對(duì)高TG印刷電路板進(jìn)行8小時(shí)的管控處理;
S8、管控結(jié)束后,對(duì)高TG印刷電路板的等離子除膠進(jìn)行生產(chǎn)確認(rèn),生產(chǎn)確認(rèn)包括確認(rèn)除膠速率以及切片確認(rèn)孔壁的咬蝕距離是否符合要求,孔壁的咬蝕距離要在8-20um的范圍內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電路板沉銅工序除膠方法,其特征在于,所述S1中,所述高TG印刷電路板的TG值≥170℃。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電路板沉銅工序除膠方法,其特征在于,所述S4中,所述等離子清洗設(shè)備為千層架式,共26層,最上下兩層需放銅板,一次生產(chǎn)可放置24片高TG印刷電路板,且承載盤為無(wú)鋼網(wǎng)載盤,高TG印刷電路板平放于無(wú)鋼網(wǎng)載盤上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種電路板沉銅工序除膠方法,其特征在于,所述等離子清洗設(shè)備在放板時(shí),高TG印刷電路板放置于載盤中央,板邊不可靠邊;等離子清洗設(shè)備放置的高TG印刷電路板最大尺寸為600*500mm,距邊保留30mm。
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