[發(fā)明專利]光阻層的加工方法、顯示面板的制作方法以及顯示面板

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202111350222.2
• 申請日: 2021-11-15
• 公開（公告）號: CN114122090B
• 公開（公告）日: 2023-08-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳建榮
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: H10K59/123
• 分類號: H10K59/123;H10K59/122;H10K59/121;H10K59/131;H10K71/00
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 黃銳

本申請實(shí)施例公開了一種光阻層的加工方法、顯示面板的制作方法以及顯示面板，通過對負(fù)性光阻層的第一曝光區(qū)域進(jìn)行第一次曝光處理；對負(fù)性光阻層的第二曝光區(qū)域進(jìn)行第二次曝光處理，第二曝光區(qū)域至少具有設(shè)于第一曝光區(qū)域的一側(cè)且與第一曝光區(qū)域連接的部分，第一次曝光處理的曝光量大于第二次曝光處理的曝光量；對負(fù)性光阻層進(jìn)行顯影處理，去除未進(jìn)行光反應(yīng)的負(fù)性光阻層；對剩余的負(fù)性光阻層進(jìn)行加熱固化處理，得到底切結(jié)構(gòu)。本申請通過對負(fù)性光阻層進(jìn)行兩次曝光處理和一次顯影處理，即可制得底切結(jié)構(gòu)，有效簡化了底切結(jié)構(gòu)的制作工藝，從而提高了生產(chǎn)效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及顯示領(lǐng)域，具體涉及一種光阻層的加工方法、顯示面板的制作方法以及顯示面板。

背景技術(shù)

自主發(fā)光的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(Organic?Light-Emitting?Diode，OLED)具有響應(yīng)速度快、對比度高、視角廣等優(yōu)點(diǎn)，并且容易實(shí)現(xiàn)柔性顯示，因而被普遍應(yīng)用。OLED顯示器極有可能成為下一代顯示技術(shù)的主流產(chǎn)品。OLED顯示面板結(jié)構(gòu)包括透明陽極層，發(fā)光層和金屬陰極層。為了增大頂發(fā)射的透過率，金屬陰極的厚度較薄，造成方阻較大，電流壓降(IR?drop)嚴(yán)重，導(dǎo)致顯示面板有明顯的亮度不均勻現(xiàn)象，嚴(yán)重影響了OLED顯示裝置的顯示效果。為改善面板顯示亮度的不均勻性，可以架設(shè)輔助電極層，與較薄的金屬陰極相連。由于輔助電極層的電阻較小，電流壓降減小，通電時，使面板的陰極的阻抗和電流壓降得到減小，亮度均勻性得到一定的改善。

對于如何實(shí)現(xiàn)輔助電極層和金屬陰極搭接，通常采用在陰極和輔助電極層之間設(shè)置底切結(jié)構(gòu)，底切結(jié)構(gòu)通常需要通過兩道黃光制程(曝光和顯影)制得，制作工藝復(fù)雜，降低生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容

本申請實(shí)施例提供一種光阻層的加工方法、顯示面板的制作方法以及顯示面板，可以解決底切結(jié)構(gòu)的制作工藝復(fù)雜和生產(chǎn)效率低的技術(shù)問題。

本申請實(shí)施例提供一種光阻層的加工方法，包括：

步驟B1、形成負(fù)性光阻層；

步驟B2、對所述負(fù)性光阻層的第一曝光區(qū)域進(jìn)行第一次曝光處理；

步驟B3、對所述負(fù)性光阻層的第二曝光區(qū)域進(jìn)行第二次曝光處理，所述第二曝光區(qū)域至少具有設(shè)于所述第一曝光區(qū)域的一側(cè)且與所述第一曝光區(qū)域連接的部分，所述第一次曝光處理的曝光量大于所述第二次曝光處理的曝光量；

步驟B4、對所述負(fù)性光阻層進(jìn)行顯影處理，去除未進(jìn)行光反應(yīng)的所述負(fù)性光阻層；

步驟B5、對剩余的所述負(fù)性光阻層進(jìn)行加熱固化處理，得到底切結(jié)構(gòu)。

可選的，在本申請的一些實(shí)施例中，所述第一曝光區(qū)域設(shè)于所述第二曝光區(qū)域內(nèi)，所述第二曝光區(qū)域的面積大于所述第一曝光區(qū)域的面積。

可選的，在本申請的一些實(shí)施例中，所述第一曝光區(qū)域和所述第二曝光區(qū)域部分重疊。

可選的，在本申請的一些實(shí)施例中，所述第二曝光區(qū)域設(shè)于所述第一曝光區(qū)域的側(cè)面，且所述第二曝光區(qū)域與所述第一曝光區(qū)域連接。

可選的，在本申請的一些實(shí)施例中，所述第一次曝光處理的曝光時間大于所述第二次曝光處理的曝光時間。

可選的，在本申請的一些實(shí)施例中，在所述步驟B2中，還對所述負(fù)性光阻層的第三曝光區(qū)域進(jìn)行第一次曝光處理，所述第一曝光區(qū)域和所述第三曝光區(qū)域間隔設(shè)置，所述第二曝光區(qū)域和所述第三曝光區(qū)域間隔設(shè)置；

在所述步驟B5中，所述負(fù)性光阻層對應(yīng)所述第一曝光區(qū)域和所述第二曝光區(qū)域的部分形成所述底切結(jié)構(gòu)，所述負(fù)性光阻層對應(yīng)所述第三曝光區(qū)域的部分形成凸臺結(jié)構(gòu)。

可選的，在本申請的一些實(shí)施例中，所述底切結(jié)構(gòu)具有負(fù)坡度角，所述凸臺結(jié)構(gòu)具有正坡度角。

本申請實(shí)施例還提供一種顯示面板的制作方法，包括：