[發明專利]蝕刻液組合物及顯示面板

在審

• 申請號: 202111330687.1
• 申請日: 2021-11-11
• 公開（公告）號: CN114106835A
• 公開（公告）日: 2022-03-01
• 發明（設計）人: 李恩慶;康明倫
• 申請（專利權）人: TCL華星光電技術有限公司
• 主分類號: C09K13/12
• 分類號: C09K13/12;H01L21/3213
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 熊恒定

本發明公開了一種蝕刻液組合物及顯示面板。蝕刻液組合物包括氧化劑、膜層損傷防止劑以及蝕刻調整劑，其中，氧化劑的重量分數為8％～25％，且氧化劑包括硫酸和硝酸。本發明提供的蝕刻液組合物中采用硫酸和硝酸作為氧化劑，在提高蝕刻液組合物的蝕刻性能的同時，還可以降低蝕刻液對被蝕刻物的損傷，以提高蝕刻良率。

技術領域

本發明涉及顯示制程技術領域，尤其涉及一種蝕刻液組合物及采用該蝕刻液組合物制得的顯示面板。

背景技術

液晶顯示裝置(liquid crystal display device,LCD device)具有根據出色的分辨率提供清晰影像、低耗電、使顯示屏面板薄化的特性，在平板顯示裝置中最受關注。作為驅動這種液晶顯示裝置的電子回路，最具代表性的是薄膜晶體管(thin filmtransistor,TFT)電路，由典型的薄膜晶體管液晶顯示(TFT-LCD)器件構成了顯示畫面的像素(pixel)。在TFT-LCD器件中，作為開關器件作用的TFT是在以矩陣形態排列的TFT用基板和與其基板相對的彩色過濾膜基板之間填充液晶而制作成的。TFT-LCD整體制造工藝大致分為TFT基板制造工藝、彩色過濾膜工藝、cell工藝和模組工藝，為了顯示精準而清晰的影像，TFT基板和彩色過濾膜制造工藝尤其重要。

TFT-LCD裝置的像素顯示電極制造需要具有透明光學特性，并且導電性強的物質薄膜，目前以氧化銦(Indium Oxide)為基礎的氧化銦錫(Indium Tin Oxide,ITO)和氧化銦鋅(Indium Zinc Oxide,IZO)作為透明導電膜的材料而使用。要想在像素顯示的電極上體現出所希望的電路線路，就需要按照電路紋路將薄膜層蝕刻(Etching)的過程。

目前，常用王水(aqua regia,HCl+CH3COOH+HNO3)、鹽酸二價鐵(III)的鹽酸溶液(FeCl3/HCl)、磷酸(H3PO4)或氫溴酸(HBr)作為透明導電膜的濕式蝕刻液，若使用王水系蝕刻液或鹽酸二價鐵的鹽酸溶液來蝕刻ITO膜，雖然價格低廉，但線路的側面更容易被蝕刻，會導致形貌不良，且作為主要成分的鹽酸或硝酸易揮發，隨著時間的流逝，蝕刻液組成物的變化幅度較大。另外，磷酸具有鋁腐蝕和高粘性、高單價的問題；氫溴酸具有高單價和劇毒性的問題。也有利用蓚酸(Oxalic Acid)蝕刻非晶體ITO(amorphous Indium Tin Oxide)的情況，但這種情況下，ITO膜周圍容易發生殘留，而且在低溫時蓚酸的溶解度較低，會有析出物掉出，可能會導致蝕刻設備出現故障。

發明內容

本發明實施例提供一種蝕刻液組合物及顯示面板，能夠提高蝕刻液組合物的蝕刻良率。

本發明實施例提供一種蝕刻液組合物，所述蝕刻液組合物包括氧化劑、膜層損傷防止劑以及蝕刻調整劑，其中，所述氧化劑的重量分數為8％～25％，且所述氧化劑包括硫酸和硝酸。

在本發明的一種實施例中，所述硫酸為主氧化劑，且所述硫酸的重量分數為5％～15％，所述硝酸為輔助氧化劑，且所述硝酸的重量分數為3％～10％。

在本發明的一種實施例中，所述膜層損傷防止劑包括環狀胺類化合物，且所述膜層損傷防止劑的重量分數為0.01％～1％。

在本發明的一種實施例中，所述膜層損傷防止劑包括取代或未取代的吡咯、取代或未取代的吡唑、取代或未取代的咪唑、取代或未取代的三唑、取代或未取代的四唑、取代或未取代的五唑、取代或未取代的噁唑、取代或未取代的異唑、取代或未取代的噻唑以及取代或未取代的異噻唑中的至少一者。

在本發明的一種實施例中，所述膜層損傷防止劑為甲基苯并三氮唑鈉。

在本發明的一種實施例中，所述蝕刻調整劑包括含有銨離子的化合物，且所述蝕刻調整劑的重量分數為0.1％～5％。

在本發明的一種實施例中，所述蝕刻調整劑包括硝酸銨、乙酸銨、檸檬酸銨、硫酸銨、磷酸銨以及氯化銨中的至少一者。