[發明專利]蝕刻液組合物及顯示面板

在審

• 申請號: 202111330687.1
• 申請日: 2021-11-11
• 公開（公告）號: CN114106835A
• 公開（公告）日: 2022-03-01
• 發明（設計）人: 李恩慶;康明倫
• 申請（專利權）人: TCL華星光電技術有限公司
• 主分類號: C09K13/12
• 分類號: C09K13/12;H01L21/3213
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 熊恒定

1.一種蝕刻液組合物，其特征在于，所述蝕刻液組合物包括氧化劑、膜層損傷防止劑以及蝕刻調整劑，其中，所述氧化劑的重量分數為8％～25％，且所述氧化劑包括硫酸和硝酸。

2.根據權利要求1所述的蝕刻液組合物，其特征在于，所述硫酸為主氧化劑，且所述硫酸的重量分數為5％～15％，所述硝酸為輔助氧化劑，且所述硝酸的重量分數為3％～10％。

3.根據權利要求1所述的蝕刻液組合物，其特征在于，所述膜層損傷防止劑包括環狀胺類化合物，且所述膜層損傷防止劑的重量分數為0.01％～1％。

4.根據權利要求3所述的蝕刻液組合物，其特征在于，所述膜層損傷防止劑包括取代或未取代的吡咯、取代或未取代的吡唑、取代或未取代的咪唑、取代或未取代的三唑、取代或未取代的四唑、取代或未取代的五唑、取代或未取代的噁唑、取代或未取代的異唑、取代或未取代的噻唑以及取代或未取代的異噻唑中的至少一者。

5.根據權利要求4所述的蝕刻液組合物，其特征在于，所述膜層損傷防止劑為甲基苯并三氮唑鈉。

6.根據權利要求1所述的蝕刻液組合物，其特征在于，所述蝕刻調整劑包括含有銨離子的化合物，且所述蝕刻調整劑的重量分數為0.1％～5％。

7.根據權利要求6所述的蝕刻液組合物，其特征在于，所述蝕刻調整劑包括硝酸銨、乙酸銨、檸檬酸銨、硫酸銨、磷酸銨以及氯化銨中的至少一者。

8.根據權利要求1所述的蝕刻液組合物，其特征在于，所述蝕刻液組合物還包括去離子水。

9.一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括圖案化金屬層，且所述圖案化金屬層采用如權利要求1至8任一項所述的蝕刻液組合物制得。

10.根據權利要求9所述的顯示面板，其特征在于，所述圖案化金屬層的材料包括氧化銦類化合物。