[發(fā)明專利]一種發(fā)光測(cè)試控制電路以及顯示面板在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111328720.7 | 申請(qǐng)日: | 2021-11-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114068521A | 公開(公告)日: | 2022-02-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 喬盼盼;高琳華;何國冰;馬志麗;朱正勇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/02 | 分類號(hào): | H01L27/02 |
| 代理公司: | 北京遠(yuǎn)智匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11659 | 代理人: | 范坤坤 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 發(fā)光 測(cè)試 控制電路 以及 顯示 面板 | ||
1.一種發(fā)光測(cè)試控制電路,其特征在于,包括:
晶體管以及與所述晶體管對(duì)應(yīng)連接的靜電泄放單元,所述晶體管包括第一極、第二極和第三極;
靜電泄放單元包括半導(dǎo)體電阻層和離子注入阻擋層的疊層,所述離子注入阻擋層用于阻止離子注入至所述半導(dǎo)體電阻層內(nèi),所述半導(dǎo)體電阻層用于連接所述第三極和所述第一極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光測(cè)試控制電路,其特征在于,所述晶體管還包括半導(dǎo)體有源層,所述半導(dǎo)體電阻層和所述半導(dǎo)體有源層位于同一層,所述離子注入阻擋層用于阻擋所述半導(dǎo)體有源層摻雜的離子注入至所述半導(dǎo)體電阻層內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光測(cè)試控制電路,其特征在于,所述離子注入阻擋層和所述第三極位于同一層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光測(cè)試控制電路,其特征在于,所述離子注入阻擋層部分覆蓋或者全部覆蓋所述半導(dǎo)體電阻層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光測(cè)試控制電路,其特征在于,所述靜電泄放單元還包括絕緣間隔層,所述絕緣間隔層位于所述半導(dǎo)體電阻層和離子注入阻擋層之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的發(fā)光測(cè)試控制電路,其特征在于,所述離子注入阻擋層包括導(dǎo)電層;
所述離子注入阻擋層用于通過導(dǎo)電連接端輸入電位控制信號(hào)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光測(cè)試控制電路,其特征在于,還包括第三極連接層,所述第三極連接層連接所述第三極和所述半導(dǎo)體電阻層;
所述第三極連接層的電阻率小于所述第三極的電阻率;
優(yōu)選地,所述第三極連接層和所述第一極位于同一層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光測(cè)試控制電路,其特征在于,還包括第一極連接層,所述第一極連接層用于連接所述第一極和所述半導(dǎo)體電阻層;
優(yōu)選地,所述第一極連接層和所述第一極位于同一層。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一所述的發(fā)光測(cè)試控制電路,其特征在于,所述第一極為源極,所述第二極為漏極,所述第三極為柵極。
10.一種顯示面板,其特征在于,包括權(quán)利要求1-9任一所述的發(fā)光測(cè)試控制電路。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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