[發(fā)明專利]金屬化膜和金屬化膜電容器

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202111315515.7
• 申請日: 2021-11-08
• 公開（公告）號: CN114141538A
• 公開（公告）日: 2022-03-04
• 發(fā)明（設計）人: 鄭建林;賴敏杰;陳淵偉
• 申請（專利權(quán)）人: 廈門法拉電子股份有限公司
• 主分類號: H01G4/33
• 分類號: H01G4/33;H01G4/018;H01G4/005;H01G2/16
• 代理公司: 廈門創(chuàng)象知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 35232
• 代理人: 王鳳玲;尤懷成

1.一種金屬化膜，其特征在于，包括：電介質(zhì)膜、設置在所述電介質(zhì)膜上的蒸鍍電極和無金屬留邊；

所述蒸鍍電極沿著金屬化膜的長度方向排列有多個第一無金屬帶、沿著金屬化膜的寬度方向排列有多個第二無金屬帶，以將所述蒸鍍電極分割而形成多個分割電極塊，相鄰的兩分割電極塊通過0～1根保險絲連接；

沿著金屬化膜的寬度方向，所述蒸鍍電極通過所述第二無金屬帶隔開排列出N列的分割電極部，N≥2，其中，第一列分割電極部臨近所述無金屬留邊，第N列分割電極部最遠離所述無金屬留邊；當N＝2時，兩相鄰列的第一無金屬帶錯開設置；當N＞2時，相鄰三列的第一無金屬帶至少有兩相鄰列的第一無金屬帶錯開設置；

第N列分割電極部的分割電極塊上布置有2～3根的所述保險絲，其余列分割電極部的分割電極塊上布置有3～4根的所述保險絲。

2.如權(quán)利要求1所述的金屬化膜，其特征在于，所述第一列分割電極部的第一無金屬帶處布置有0～1根所述保險絲，其余列分割電極部的第一無金屬帶不設置所述保險絲。

3.如權(quán)利要求1所述的金屬化膜，其特征在于，當N≥2時，所述第N列分割電極部與所述第N-1列分割電極部之間的第二無金屬帶處對應每個所述分割電極塊的第二無金屬帶均布置有1～2根所述保險絲。

4.如權(quán)利要求1所述的金屬化膜，其特征在于，多個所述第一無金屬帶等間距。

5.一種金屬化膜電容器，其特征在于，將金屬化膜進行卷繞或?qū)盈B而形成電容器元件，并對所述電容器元件的兩端面連接了電極引出用的噴鍍金屬，所述金屬化膜為權(quán)利要求1-4中任一項所述的金屬化膜。

6.如權(quán)利要求5所述的金屬化膜電容器，其特征在于，包括第一金屬化膜和第二金屬化膜，所述第一金屬化膜在電介質(zhì)膜的第一面上設有所述蒸鍍電極，所述第二金屬化膜在電介質(zhì)膜的第一面上設有所述蒸鍍電極，所述第一金屬化膜和所述第二金屬化膜部分重疊設置且第一金屬化膜的無金屬留邊與第二金屬化膜的無金屬留邊一一對應地布置在金屬化膜寬度方向的兩側(cè)。

7.如權(quán)利要求5所述的金屬化膜電容器，其特征在于，所述金屬化膜在電介質(zhì)膜的第一面上設有第一蒸鍍電極，在第二面上設有第二蒸鍍電極，所述第一蒸鍍電極的無金屬留邊與第二蒸鍍電極的無金屬留邊一一對應地布置在金屬化膜寬度方向的兩側(cè)。