[發明專利]一種元器件缺陷檢測的方法及裝置在審
| 申請號: | 202111314595.4 | 申請日: | 2021-11-08 |
| 公開(公告)號: | CN114155197A | 公開(公告)日: | 2022-03-08 |
| 發明(設計)人: | 張海明;唐章東;李璇;王征;范曉明;辛奇;王雪生;王賀;劉敏;范壯壯;高華興 | 申請(專利權)人: | 中國空間技術研究院 |
| 主分類號: | G06T7/00 | 分類號: | G06T7/00;G06T7/10;G06T7/194;G06T7/73;G01N23/04;G06V10/74;G06T5/00;G06T5/10 |
| 代理公司: | 中國航天科技專利中心 11009 | 代理人: | 胡健男 |
| 地址: | 100194 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 元器件 缺陷 檢測 方法 裝置 | ||
1.一種元器件缺陷檢測方法,其特征在于,所述方法包括:
獲取目標元器件的X射線圖像,并對所述X射線圖像進行降噪處理,得到第一圖像;
消除所述第一圖像的非均勻光照背景,得到第二圖像;
基于模板匹配定位所述第二圖像中待檢測的目標元器件圖像;
通過預設圖像分割算法,將目標元器件圖像從所述第二圖像中分割出來;
基于局部信息熵結合區域生長算法,對所述X射線圖像中的多余物進行檢測,以檢測到所述目標元器件的缺陷。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述獲取目標元器件的X射線圖像,并對所述X射線圖像進行降噪處理,得到第一圖像的步驟,包括:
獲取目標元器件的X射線圖像;
基于小波閾值算法,對所述X射線圖像進行降噪處理,得到第一圖像。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,消除所述第一圖像的非均勻光照背景,得到第二圖像的步驟,包括:
基于二維伽馬函數的自適應亮度校正方法,對所述第一圖像進行處理,得到消除非均勻光照背景的第二圖像。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,基于模板匹配定位所述第二圖像中待檢測的目標元器件圖像的步驟,包括:
采用歸一化相關系數匹配法,將模板與所述第二圖像進行比對,定位到第二圖像中的目標元器件圖像。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述預設圖像分割算法為Grabcut算法。
6.一種元器件缺陷檢測裝置,其特征在于,所述裝置包括:
降噪模塊,用于獲取目標元器件的X射線圖像,并對所述X射線圖像進行降噪處理,得到第一圖像;
消除模塊,用于消除所述第一圖像的非均勻光照背景,得到第二圖像;
定位模塊,用于基于模板匹配定位所述第二圖像中待檢測的目標元器件圖像;
分割模塊,用于通過預設圖像分割算法,將目標元器件圖像從所述第二圖像中分割出來;
異物檢測模塊,用于基于局部信息熵結合區域生長算法,對所述X射線圖像中的多余物進行檢測,以檢測到所述目標元器件的缺陷。
7.根據權利要求6所述的裝置,其特征在于,所述降噪模塊包括:
第一子模塊,用于獲取目標元器件的X射線圖像;
第二子模塊,用于基于小波閾值算法,對所述X射線圖像進行降噪處理,得到第一圖像。
8.根據權利要求6所述的裝置,其特征在于,所述消除模塊具體用于:
基于二維伽馬函數的自適應亮度校正方法,對所述第一圖像進行處理,得到消除非均勻光照背景的第二圖像。
9.根據權利要求6所述的裝置,其特征在于,所述定位模塊具體用于:
采用歸一化相關系數匹配法,將模板與所述第二圖像進行比對,定位到第二圖像中的目標元器件圖像。
10.根據權利要求6所述的裝置,其特征在于,所述預設圖像分割算法為Grabcut算法。
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