[發(fā)明專利]一種硅片拋光裝置及其使用方法

在審

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• 申請日: 2021-11-04
• 公開（公告）號: CN114131492A
• 公開（公告）日: 2022-03-04
• 發(fā)明（設計）人: 楊陽;楊振華;季富華;管家輝
• 申請（專利權）人: 無錫上機數(shù)控股份有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;B24B41/02;B24B41/06;B24B55/00;B08B1/04
• 代理公司: 北京睿博行遠知識產(chǎn)權代理有限公司 11297
• 代理人: 張燕平

本發(fā)明涉及硅片加工技術領域，尤其涉及一種硅片拋光裝置及其使用方法。一種硅片拋光裝置及其使用方法，包括加工外殼，加工外殼的兩端均固定有立柱，兩個立柱的頂端裝配有一個固定下壓機構，固定下壓機構用于固定硅片并帶動硅片進行移動，加工外殼內(nèi)部中心處固定有電動機一。本發(fā)明通過除膠組件的結構設計，使得裝置在更換拋光墊的時候能夠方便快捷的對固定底盤上殘留的膠體進行清洗，避免影響更換后的拋光墊的牢固度，也避免因為殘留膠體導致更換的拋光墊會有凸起影響拋光；通過清理組件的結構設計，使得裝置在清洗因拋光液殘留物形成的沉淀物時，較為方便快捷。

技術領域

本發(fā)明涉及硅片加工技術領域，尤其涉及一種硅片拋光裝置及其使用方法。

背景技術

硅片的表面拋光是半導體、微機電系統(tǒng)、微光電等器件制備過程中非常重要的工藝步驟。拋光后硅片的表面非常平整如鏡面，滿足微納器件制備的需要。傳統(tǒng)上的硅片拋光是一種使用拋光液進行拋光的多步工藝過程，拋光液是由磨粒和化學液(例如酸)組成。硅片被安全固定在可旋轉的轉動臺上，用壓片、毛刷或海綿制成的拋光頭壓在旋轉硅片的表面進行拋光。這種拋光方式被稱作化學機械拋光，或“CMP”，已廣泛應用三十多年；

在硅片拋光裝置長時間使用后需要對其拋光墊進行更換，而拋光墊通常是與固定底盤通過膠粘固定，每次更換拋光墊時需要人工將固定底盤上殘留的膠體進行清理，避免影響新的拋光墊的固定，另一方面，在硅片拋光過程中需要持續(xù)添加拋光液輔助硅片的拋光，多余的拋光液會從加工外殼與固定底盤之間的縫隙流入加工外殼內(nèi)部，拋光液含有的化學液會通過管道或排污口進行排出，但其中的磨粒會形成沉淀物粘在加工外殼的內(nèi)部，在人工清洗時較為不便。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明專利的目的在于提供一種硅片拋光裝置及其使用方法，以解決了現(xiàn)有的問題：在硅片拋光裝置長時間使用后需要對其拋光墊進行更換，而拋光墊通常是與固定底盤通過膠粘固定，每次更換拋光墊時需要人工將固定底盤上殘留的膠體進行清理，避免影響新的拋光墊的固定。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用了如下技術方案：

一種硅片拋光裝置，包括加工外殼，所述加工外殼的兩端均固定有立柱，兩個所述立柱的頂端裝配有一個固定下壓機構，所述固定下壓機構用于固定硅片并帶動硅片進行移動，所述加工外殼內(nèi)部中心處固定有電動機一，所述電動機一的頂端固定有固定底盤，所述固定底盤的上端膠粘固定有拋光墊；

還包括除膠組件，所述除膠組件用于清理固定底盤表面殘留的膠體；

還包括清理組件，所述清理組件用于清理加工外殼內(nèi)側殘留的沉淀物。

優(yōu)選的，所述除膠組件包括橫向移動組件和縱向移動組件。

優(yōu)選的，所述橫向移動組件包括固定架、光桿一、螺桿一和驅(qū)動電機一，兩個所述立柱的兩側均固定有固定架，位于兩個所述立柱一側的兩個固定架之間固定有一個光桿一，兩個所述立柱另一側的兩個固定架之間轉動連接有螺桿一，其中一個與所述螺桿一相連固定架外側固定有驅(qū)動電機一，所述驅(qū)動電機一的輸出端與螺桿一固定。

優(yōu)選的，所述縱向移動組件包括移動架一、光桿二、螺桿二和驅(qū)動電機二，所述螺桿一和光桿一的外側均連接有移動架一，所述移動架一與螺桿一為螺紋連接，兩個所述移動架一之間連接有光桿二和螺桿二，所述光桿二的兩端與移動架一固定，所述螺桿二的兩端與移動架一轉動連接，其中一個所述移動架一的外側固定有驅(qū)動電機二，所述驅(qū)動電機二的輸出端與螺桿二固定。

優(yōu)選的，所述除膠組件還包括移動架二、驅(qū)動電機三和除膠盤，所述移動架二的一端與光桿二滑動連接，所述移動架二的另一端與螺桿二螺紋連接，所述移動架二的頂端固定有驅(qū)動電機三，所述驅(qū)動電機三的輸出端且位于移動架二下端的位置處固定有除膠盤。