[發明專利]一種硅片拋光裝置及其使用方法在審
| 申請號: | 202111298164.3 | 申請日: | 2021-11-04 |
| 公開(公告)號: | CN114131492A | 公開(公告)日: | 2022-03-04 |
| 發明(設計)人: | 楊陽;楊振華;季富華;管家輝 | 申請(專利權)人: | 無錫上機數控股份有限公司 |
| 主分類號: | B24B29/02 | 分類號: | B24B29/02;B24B41/02;B24B41/06;B24B55/00;B08B1/04 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 硅片 拋光 裝置 及其 使用方法 | ||
1.一種硅片拋光裝置,包括加工外殼(1),其特征在于,所述加工外殼(1)的兩端均固定有立柱(3),兩個所述立柱(3)的頂端裝配有一個固定下壓機構(2),所述固定下壓機構(2)用于固定硅片并帶動硅片進行移動,所述加工外殼(1)內部中心處固定有電動機一(15),所述電動機一(15)的頂端固定有固定底盤(16),所述固定底盤(16)的上端膠粘固定有拋光墊;
還包括除膠組件,所述除膠組件用于清理固定底盤(16)表面殘留的膠體;
還包括清理組件,所述清理組件用于清理加工外殼(1)內側殘留的沉淀物。
2.根據權利要求1所述的一種硅片拋光裝置,其特征在于,所述除膠組件包括橫向移動組件和縱向移動組件。
3.根據權利要求2所述的一種硅片拋光裝置,其特征在于,所述橫向移動組件包括固定架(4)、光桿一(5)、螺桿一(6)和驅動電機一(11),兩個所述立柱(3)的兩側均固定有固定架(4),位于兩個所述立柱(3)一側的兩個固定架(4)之間固定有一個光桿一(5),兩個所述立柱(3)另一側的兩個固定架(4)之間轉動連接有螺桿一(6),其中一個與所述螺桿一(6)相連固定架(4)外側固定有驅動電機一(11),所述驅動電機一(11)的輸出端與螺桿一(6)固定。
4.根據權利要求3所述的一種硅片拋光裝置,其特征在于,所述縱向移動組件包括移動架一(7)、光桿二(8)、螺桿二(9)和驅動電機二(12),所述螺桿一(6)和光桿一(5)的外側均連接有移動架一(7),所述移動架一(7)與螺桿一(6)為螺紋連接,兩個所述移動架一(7)之間連接有光桿二(8)和螺桿二(9),所述光桿二(8)的兩端與移動架一(7)固定,所述螺桿二(9)的兩端與移動架一(7)轉動連接,其中一個所述移動架一(7)的外側固定有驅動電機二(12),所述驅動電機二(12)的輸出端與螺桿二(9)固定。
5.根據權利要求4所述的一種硅片拋光裝置,其特征在于,所述除膠組件還包括移動架二(10)、驅動電機三(13)和除膠盤(14),所述移動架二(10)的一端與光桿二(8)滑動連接,所述移動架二(10)的另一端與螺桿二(9)螺紋連接,所述移動架二(10)的頂端固定有驅動電機三(13),所述驅動電機三(13)的輸出端且位于移動架二(10)下端的位置處固定有除膠盤(14)。
6.根據權利要求1所述的一種硅片拋光裝置,其特征在于,所述清理組件包括電動機二(17)、阻隔板(18)、轉動環(19)、轉動支架(20)和齒輪(22),所述加工外殼(1)內部還固定有阻隔板(18),所述阻隔板(18)的上端轉動連接有轉動環(19),所述加工外殼(1)內部底端還固定有電動機二(17),所述電動機二(17)的輸出端固定有齒輪(22),所述齒輪(22)與轉動環(19)為嚙合連接,所述轉動環(19)的周側面均勻固定有多個轉動支架(20)。
7.根據權利要求6所述的一種硅片拋光裝置,其特征在于,所述阻隔板(18)的頂端開設有限位槽(21),所述轉動環(19)的底端固定有限位環,所述限位環位于限位槽(21)內部。
8.根據權利要求6所述的一種硅片拋光裝置,其特征在于,所述轉動支架(20)的底端均固定有U形刮板,所述U形刮板的一側與加工外殼(1)內壁緊密相貼,所述U形刮板的另一側與阻隔板(18)的外側緊密相貼,所述U形刮板的底端與加工外殼(1)內部底端且位于阻隔板(18)與加工外殼(1)之間的位置處緊密相貼。
9.根據權利要求1所述的一種硅片拋光裝置,其特征在于,所述加工外殼(1)的外側還開設有排污口,所述排污口用于將清理組件清理掉的沉淀物方便排出。
10.一種硅片拋光裝置的使用方法,用于權利要求1-9任意一項所述的一種硅片拋光裝置,其特征在于,步驟如下:
S1:將硅片與固定下壓機構(2)進行固定,再通過固定下壓機構(2)帶動硅片向下移動與固定底盤(16)上端固定的拋光墊接觸;
S2:通過啟動電動機一(15)帶動固定底盤(16)進行轉動,通過轉動的固定底盤(16)對與其接觸的硅片進行拋光;
S3:在更換拋光墊時,通過除膠組件的橫向移動組件與縱向移動組件的配合帶動驅動電機三(13)進行移動,再通過驅動電機三(13)輸出端的除膠盤(14)對固定底盤(16)表面殘留的膠體進行清理;
S4:在拋光結束時,通過電動機二(17)、轉動環(19)和齒輪(22)的配合,帶動轉動支架(20)在加工外殼(1)內部進行移動,通過移動的轉動支架(20)對加工外殼(1)內部殘留的沉淀物進行清理,最后從排污口排出。
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