[發(fā)明專(zhuān)利]模體和模體在掃描設(shè)備中的應(yīng)用方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111295704.2
• 申請(qǐng)日: 2021-11-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114041811A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-02-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉謙;徐探;許文挺
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 海南大學(xué);武漢聯(lián)影生命科學(xué)儀器有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): A61B6/00
• 分類(lèi)號(hào): A61B6/00
• 代理公司: 北京華進(jìn)京聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11606
• 代理人: 唐德君

本申請(qǐng)涉及一種模體和模體在掃描設(shè)備中的應(yīng)用方法。該模體包括：主模體和設(shè)置于主模體內(nèi)的多個(gè)子模體，主模體的尺寸大于各子模體的尺寸，各子模體的尺寸不同且彼此間隔設(shè)置，多個(gè)子模體中除去尺寸最大的第一子模體后的第一其它子模體均位于主模體和第一子模體之間，從而使得模體中的不同子模體能夠進(jìn)行組合，以實(shí)現(xiàn)譜畸變校正和基物質(zhì)分解兩種功能，避免了CT系統(tǒng)平行束照射的局限性，使得模體的通用性更廣泛，功能變得更強(qiáng)大，實(shí)用性更高。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及醫(yī)學(xué)領(lǐng)域，特別是涉及一種模體和模體在掃描設(shè)備中的應(yīng)用方法。

背景技術(shù)

為了標(biāo)定或校正CT系統(tǒng)中探測(cè)器譜響應(yīng)的不均勻性和研究能譜相關(guān)的高級(jí)應(yīng)用，需要采用相對(duì)應(yīng)的模體進(jìn)行處理。

傳統(tǒng)技術(shù)中，假設(shè)CT系統(tǒng)的X射線(xiàn)照射方式為平行束，并通過(guò)組合不同厚度和多種材料設(shè)計(jì)平板或階梯模體。但是，通常CT系統(tǒng)所采用的X射線(xiàn)照射方式為扇束或者錐束，從而使得傳統(tǒng)技術(shù)設(shè)計(jì)的模體過(guò)于理想化，以致于設(shè)計(jì)的模體存在實(shí)用性不強(qiáng)等缺陷。

發(fā)明內(nèi)容

基于此，有必要針對(duì)上述技術(shù)問(wèn)題，提供一種模體和模體在掃描設(shè)備中的應(yīng)用方法。

一種模體，所述模體包括：主模體和設(shè)置于所述主模體內(nèi)的多個(gè)子模體；

其中，所述主模體的尺寸大于各所述子模體的尺寸，各所述子模體的尺寸各不同且彼此間隔設(shè)置，所述多個(gè)子模體中除去尺寸最大的第一子模體后的第一其它子模體均位于所述主模體和所述第一子模體之間。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一子模體與所述主模體的中心軸相互重合。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一其它子模體的中心軸均相切于以所述主模體或所述第一子模體的中心軸上任一點(diǎn)為圓心的同一圓周上。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一其它子模體的尺寸依次減小。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述子模體為N個(gè)，其中，第N個(gè)子模體和第N-1個(gè)子模體的尺寸之和小于第N-2個(gè)子模體的尺寸，N大于等于3。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述主模體和各所述子模體之間的尺寸依次相差預(yù)設(shè)倍數(shù)。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述多個(gè)子模體中尺寸較大的第二子模體的中心軸與所述多個(gè)子模體中除去所述第二子模體后的第二其它子模體的外壁構(gòu)成的切面與所述第二其它子模體的外壁不相交，所述第二子模體的尺寸僅次于所述第一子模體的尺寸。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述多個(gè)子模體的材料相同或不同。

本實(shí)施例提供的模體包括主模體和設(shè)置于主模體內(nèi)的多個(gè)子模體，且主模體的尺寸大于各子模體的尺寸，各子模體的尺寸不同且彼此間隔設(shè)置，多個(gè)子模體中除去尺寸最大的第一子模體后的第一其它子模體均位于主模體和第一子模體之間，從而使得模體中的不同子模體能夠進(jìn)行組合，以實(shí)現(xiàn)譜畸變校正和基物質(zhì)分解兩種功能，避免了CT系統(tǒng)平行束照射的局限性，使得模體的通用性更廣泛，功能變得更強(qiáng)大，實(shí)用性更高。

一種模體在掃描設(shè)備中的應(yīng)用方法，所述方法包括：

獲取掃描模體后探測(cè)器測(cè)量得到的第一標(biāo)定數(shù)據(jù)，所述模體為上述任一實(shí)施例中所述的模體；

將所述第一標(biāo)定數(shù)據(jù)、所述模體的理論投影值進(jìn)行擬合，得到所述第一標(biāo)定數(shù)據(jù)與所述理論投影值之間的映射關(guān)系；

獲取掃描目標(biāo)對(duì)象后所述探測(cè)器測(cè)量得到的第二標(biāo)定數(shù)據(jù)；

通過(guò)所述第二標(biāo)定數(shù)據(jù)和所述映射關(guān)系，確定目標(biāo)投影值。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述獲取掃描模體后探測(cè)器測(cè)量得到的第一標(biāo)定數(shù)據(jù)，包括：

獲取掃描模體中多個(gè)組合子模體后探測(cè)器測(cè)量得到的所述第一標(biāo)定數(shù)據(jù)；