[發(fā)明專利]模體和模體在掃描設(shè)備中的應(yīng)用方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111295704.2
• 申請(qǐng)日: 2021-11-03
• 公開（公告）號(hào): CN114041811A
• 公開（公告）日: 2022-02-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉謙;徐探;許文挺
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 海南大學(xué);武漢聯(lián)影生命科學(xué)儀器有限公司
• 主分類號(hào): A61B6/00
• 分類號(hào): A61B6/00
• 代理公司: 北京華進(jìn)京聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11606
• 代理人: 唐德君

1.一種模體，其特征在于，所述模體包括：主模體和設(shè)置于所述主模體內(nèi)的多個(gè)子模體；

其中，所述主模體的尺寸大于各所述子模體的尺寸，各所述子模體的尺寸各不同且彼此間隔設(shè)置，所述多個(gè)子模體中除去尺寸最大的第一子模體后的第一其它子模體均位于所述主模體和所述第一子模體之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模體，其特征在于，所述第一子模體與所述主模體的中心軸相互重合。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的模體，其特征在于，所述第一其它子模體的中心軸均相切于以所述主模體或所述第一子模體的中心軸上任一點(diǎn)為圓心的同一圓周上。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的模體，其特征在于，所述第一其它子模體的尺寸依次減小。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的模體，其特征在于，所述子模體為N個(gè)，其中，第N個(gè)子模體和第N-1個(gè)子模體的尺寸之和小于第N-2個(gè)子模體的尺寸，N大于等于3。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的模體，其特征在于，所述主模體和各所述子模體之間的尺寸依次相差預(yù)設(shè)倍數(shù)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模體，其特征在于，所述多個(gè)子模體中尺寸較大的第二子模體的中心軸與所述多個(gè)子模體中除去所述第二子模體后的第二其它子模體的外壁構(gòu)成的切面與所述第二其它子模體的外壁不相交，所述第二子模體的尺寸僅次于所述第一子模體的尺寸。

8.根據(jù)權(quán)利要求1、2或7所述的模體，其特征在于，所述多個(gè)子模體的材料相同或不同。

9.一種模體在掃描設(shè)備中的應(yīng)用方法，其特征在于，所述方法包括：

獲取掃描模體后探測(cè)器測(cè)量得到的第一標(biāo)定數(shù)據(jù)，所述模體為上述權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的模體；

將所述第一標(biāo)定數(shù)據(jù)、所述模體的理論投影值進(jìn)行擬合，得到所述第一標(biāo)定數(shù)據(jù)與所述理論投影值之間的映射關(guān)系；

獲取掃描目標(biāo)對(duì)象后所述探測(cè)器測(cè)量得到的第二標(biāo)定數(shù)據(jù)；

通過(guò)所述第二標(biāo)定數(shù)據(jù)和所述映射關(guān)系，確定目標(biāo)投影值。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述獲取掃描模體后探測(cè)器測(cè)量得到的第一標(biāo)定數(shù)據(jù)，包括：

獲取掃描模體中多個(gè)組合子模體后探測(cè)器測(cè)量得到的所述第一標(biāo)定數(shù)據(jù)；

其中，所述多個(gè)組合子模體包括所述模體中相同材料的多個(gè)子模體組合后的組合子模體或所述模體中不同材料的多個(gè)子模體組合后的組合子模體。