[發明專利]掩模版及其制造方法、顯示面板及顯示設備在審
| 申請號： | 202111284965.4 | 申請日： | 2021-11-01 |
| 公開（公告）號： | CN114000102A | 公開（公告）日： | 2022-02-01 |
| 發明（設計）人： | 戴偉杰;劉明星;趙晶晶;馮士振 | 申請（專利權）人： | 昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/04 | 分類號： | C23C14/04;C23C14/12;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 王雪莎 |
| 地址： | 215300 江蘇省蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 模版 及其 制造 方法 顯示 面板 設備 | ||
1.一種掩模版，其特征在于，包括：
支撐架，所述支撐架的邊緣設置有下沉結構；
掩模版本體，固定在所述支撐架上；所述掩模版本體包括切割邊，所述切割邊置于所述下沉結構內。
2.根據權利要求1所述的掩模版，其特征在于，所述下沉結構包括第一子下沉結構，所述切割邊包括第一子切割邊；所述第一子切割邊固定于所述第一子下沉結構中。
3.根據權利要求2所述的掩模版，其特征在于，所述第一子切割邊與所述第一子下沉結構通過焊接固定，所述第一子下沉結構的深度大于所述第一子切割邊上的焊點直徑。
4.根據權利要求1所述的掩模版，其特征在于，所述下沉結構包括第二子下沉結構，所述切割邊包括第二子切割邊；所述第二子切割邊在所述支撐架上的懸空部分被下壓至所述第二子下沉結構內；所述第二子下沉結構的寬度大于所述第二子切割邊上的毛刺直徑，且所述第二子下沉結構的寬度小于或等于所述第二子下沉結構的深度。
5.一種掩模版的制造方法，其特征在于，包括：
制作支撐架和掩模版本體；其中，所述支撐架的邊緣設置有下沉結構；
將所述掩模版本體固定在所述支撐架上，其中，所述掩模版本體包括切割邊，所述切割邊置于所述下沉結構內。
6.根據權利要求5所述的制造方法，其特征在于，所述下沉結構包括第一子下沉結構，所述切割邊包括第一子切割邊；所述將所述掩模版本體固定在所述支撐架上，包括：
將所述掩模版本體放置在所述支撐架上，使得所述第一子切割邊與所述第一子下沉結構對應；
通過第一下壓裝置，將所述第一子切割邊下壓至所述第一子下沉結構內；
對所述第一子切割邊和所述第一子下沉結構進行焊接，使得所述掩模版本體焊接固定在所述支撐架上。
7.根據權利要求6所述的制造方法，其特征在于，所述下沉結構包括第二子下沉結構；所述對所述第一子切割邊和所述第一子下沉結構進行焊接之后，所述制造方法還包括：
對所述掩模版本體的余料進行切割，得到第二子切割邊；
通過第二下壓裝置，將所述第二子切割邊在所述支撐架上的懸空部分下壓至所述第二子下沉結構內。
8.根據權利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述第一下壓裝置的形狀為棱錐；所述第二下壓裝置的底面寬度小于所述第二子下沉結構的寬度。
9.一種顯示面板，其特征在于，包括發光層，所述發光層是采用權利要求1-4中任一項所述的掩模版將發光材料蒸鍍至玻璃基板得到的。
10.一種顯示設備，其特征在于，包括權利要求9所述的顯示面板。
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