[發(fā)明專利]一種五軸聯(lián)動(dòng)加工中心配套冷卻系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111280252.0
• 申請(qǐng)日: 2021-10-29
• 公開（公告）號(hào): CN113770802B
• 公開（公告）日: 2023-08-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姚琪;王發(fā)勝;董展昭;張佩;宋淼;徐浩宇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 天津祝融精密機(jī)械有限公司
• 主分類號(hào): B23Q11/10
• 分類號(hào): B23Q11/10
• 代理公司: 河南商盾云專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 41199
• 代理人: 朱秀秀

1.一種五軸聯(lián)動(dòng)加工中心配套冷卻系統(tǒng)，包括設(shè)置于主軸外側(cè)壁上的冷卻箱(1)，其特征在于：所述冷卻箱(1)頂部設(shè)有進(jìn)水管(2)和排水管(3)，所述進(jìn)水管(2)貫穿冷卻箱(1)頂部并延伸至冷卻箱(1)內(nèi)，所述排水管(3)通過管道與噴嘴(10)連通，所述冷卻箱(1)底部開設(shè)有排污孔，所述排污孔內(nèi)設(shè)有排污閥(4)，所述冷卻箱(1)內(nèi)壁滑動(dòng)連接有兩層過濾網(wǎng)(5)，所述過濾網(wǎng)(5)包括外框架(6)；所述外框架(6)內(nèi)通過扭簧轉(zhuǎn)動(dòng)連接有多條呈直線陣列分布的過濾條(7)，所述過濾條(7)包括圓柱形彈性層(701)，所述圓柱形彈性層(701)內(nèi)設(shè)有隔層(702)，所述隔層(702)將圓柱形彈性層(701)分割成上腔室(8)和下腔室(9)，所述上腔室(8)一端頂部通過第一導(dǎo)管與供氣裝置連接，所述上腔室(8)一端還通過第二導(dǎo)管與補(bǔ)充液輸送裝置連接，所述上腔室(8)另一端頂部通過第一排液管和第一電磁閥(12)與補(bǔ)充液回收裝置連接，所述第一導(dǎo)管內(nèi)設(shè)有進(jìn)氣閥(11)，所述第二導(dǎo)管內(nèi)設(shè)有第一進(jìn)液閥(14)，所述下腔室(9)一端底部通過第三導(dǎo)管與磁流體輸送裝置連接，所述下腔室(9)一端底部還通過第四導(dǎo)管與補(bǔ)充液輸送裝置連接，所述下腔室(9)另一端底部通過第二排液管和第二電磁閥(13)與磁流體回收裝置連接；所述第三導(dǎo)管內(nèi)設(shè)有第二進(jìn)液閥(15)；所述第四導(dǎo)管內(nèi)設(shè)有第三進(jìn)液閥(16)；所述外框架(6)上設(shè)有距離傳感器，所述距離傳感器用于測(cè)量過濾網(wǎng)(5)到冷卻箱(1)底部距離，所述磁流體輸送裝置內(nèi)的磁流體平均密度大于冷卻液密度，且所述補(bǔ)充液輸送裝置內(nèi)的補(bǔ)充液密度與磁流體平均密度相同；

當(dāng)?shù)讓铀鲞^濾網(wǎng)(5)上的距離傳感器檢測(cè)到的距離值小于進(jìn)水管(2)底端與冷卻箱(1)底端的距離時(shí)，通過控制底層所述過濾網(wǎng)(5)上的第二進(jìn)液閥(15)開啟，使所述磁流體輸送裝置逐漸向底層過濾網(wǎng)(5)的下腔室(9)內(nèi)充入第二預(yù)設(shè)量的磁流體，同時(shí)開啟所述第一電磁閥(12)，使所述補(bǔ)充液回收裝置把底層過濾網(wǎng)(5)的上腔室(8)內(nèi)氣體通過補(bǔ)充液回收裝置排出，當(dāng)?shù)讓铀鲞^濾網(wǎng)(5)上的距離傳感器檢測(cè)到的距離值等于“0”時(shí)，關(guān)閉底層所述過濾網(wǎng)(5)上的第一電磁閥(12)和第二進(jìn)液閥(15)，開啟所述排污閥(4)，使底層所述過濾網(wǎng)(5)下部的雜質(zhì)排出，控制底層所述過濾網(wǎng)(5)上第二電磁閥(13)開啟，同時(shí)控制開啟所述第三進(jìn)液閥(16)，使所述下腔室(9)內(nèi)的磁流體在單位時(shí)間內(nèi)的排出量與下腔室(9)內(nèi)的補(bǔ)充液在單位時(shí)間內(nèi)的補(bǔ)充量保持相等，使吸附在所述過濾網(wǎng)(5)上的鐵磁性雜質(zhì)從排污閥(4)排出。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種五軸聯(lián)動(dòng)加工中心配套冷卻系統(tǒng)，其特征在于：當(dāng)對(duì)兩層所述過濾網(wǎng)(5)之間的鐵磁性雜質(zhì)清理時(shí)，控制底層過濾網(wǎng)(5)上的進(jìn)氣閥(11)開啟，當(dāng)?shù)讓铀鲞^濾網(wǎng)(5)上的距離傳感器檢測(cè)到的距離等于預(yù)設(shè)值時(shí)，控制所述進(jìn)氣閥(11)關(guān)閉，開啟底部過濾網(wǎng)(5)上的第一進(jìn)液閥(14)，向底層所述過濾網(wǎng)(5)內(nèi)充入第三預(yù)設(shè)量的補(bǔ)充液。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述一種五軸聯(lián)動(dòng)加工中心配套冷卻系統(tǒng)，其特征在于：在向底層所述過濾網(wǎng)(5)內(nèi)充入第三預(yù)設(shè)量的補(bǔ)充液過程中，當(dāng)所述距離傳感器檢測(cè)到的距離值小于預(yù)設(shè)值時(shí)，控制底層所述過濾網(wǎng)(5)上的進(jìn)氣閥(11)開啟，使底層所述過濾網(wǎng)(5)與頂層過濾網(wǎng)(5)保持接觸的同時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，控制頂部所述過濾網(wǎng)(5)上的第二電磁閥(13)開啟，同時(shí)控制頂部所述過濾網(wǎng)(5)上的第三進(jìn)液閥(16)開啟，使所述下腔室(9)內(nèi)的磁流體在單位時(shí)間內(nèi)的排出量與下腔室(9)內(nèi)的補(bǔ)充液在單位時(shí)間內(nèi)的補(bǔ)充量保持相等，最終使吸附在頂層所述過濾網(wǎng)(5)上的鐵磁性雜質(zhì)被轉(zhuǎn)移至底層過濾網(wǎng)(5)的下腔室(9)上，然后對(duì)底層所述過濾網(wǎng)(5)下部的雜質(zhì)清理便可完成兩層過濾網(wǎng)(5)之間的鐵磁性雜質(zhì)清理。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種五軸聯(lián)動(dòng)加工中心配套冷卻系統(tǒng)，其特征在于：當(dāng)所述噴嘴(10)開啟時(shí)，所述冷卻箱(1)內(nèi)部冷卻液向上流動(dòng)，從而帶動(dòng)底層所述過濾網(wǎng)(5)向上移動(dòng)，底層所述過濾網(wǎng)(5)向上移動(dòng)并使外框架(6)對(duì)冷卻箱(1)內(nèi)側(cè)壁清理。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種五軸聯(lián)動(dòng)加工中心配套冷卻系統(tǒng)，其特征在于：所述噴嘴(10)設(shè)置于冷卻箱(1)底部，所述噴嘴(10)通過角度調(diào)節(jié)組件與冷卻箱(1)側(cè)壁連接。