[發明專利]絮凝反應裝置及絮凝池

有效

• 申請號: 202111279057.6
• 申請日: 2021-10-31
• 公開（公告）號: CN113860452B
• 公開（公告）日: 2023-08-25
• 發明（設計）人: 楊建峽;余云飛;趙二華;鄭界;陳思雨
• 申請（專利權）人: 中冶賽迪技術研究中心有限公司
• 主分類號: C02F1/52
• 分類號: C02F1/52
• 代理公司: 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司 11129
• 代理人: 張子飛

1.一種絮凝反應裝置，其特征在于：包括絮凝組件和提升攪拌機構，所述絮凝組件至少包括導流筒和導流罩；所述導流筒設置于絮凝池內且具備一反應腔，所述導流筒上還開設有連通反應腔的第一敞口和第二敞口；所述提升攪拌機構至少包括驅動源和攪拌葉，所述攪拌葉置于反應腔內并由驅動源驅動；所述第一敞口用于與絮凝池的進水端相連通；所述導流罩設置于所述導流筒具有第二敞口一端，且所述導流罩與第二敞口的周緣之間存有第一液流間隙；所述第一敞口的口徑不大于第二敞口的口徑，所述反應腔為徑向封閉的連續腔，所述第一敞口和第二敞口分別位于反應腔的兩端；所述反應腔為由第二敞口沿軸向朝向第一敞口逐漸縮口的錐形腔；所述導流罩至少包括設置于所述第二敞口頂部的擋板，所述擋板沿徑向的周緣朝向導流筒設置方向延伸形成阻擋壁，使得所述阻擋壁與擋板之間形成扣合于第二敞口的回流腔，所述第一液流間隙即形成于回流腔與第二敞口的周緣之間，所述擋板上具有液流通道；所述回流腔的軸向尺寸與反應腔的軸向尺寸的比值范圍為0.5~1：1；所述進水端與第一敞口的周緣之間存有第二液流間隙；所述導流筒和導流罩均固定于絮凝池本體上，所述絮凝組件為若干組，若干組絮凝組件沿進水端的水流方向間隔布置，若干組絮凝組件沿軸向間隔的等間距布置，且相鄰兩組絮凝組件中，位于頂部絮凝組件中反應腔的第二敞口與位于底部絮凝組件中反應腔的第一敞口的直徑比值范圍介于1~1.2：1，位于頂部絮凝組件中反應腔的第二敞口不小于位于底部絮凝組件中反應腔的第一敞口，以使得若干組絮凝組件的反應腔自下而上直徑越來越大。

2.一種絮凝池，其特征在于：包括絮凝池本體、絮凝劑加藥管、進水管、污泥回流管和如權利要求?1?所述的絮凝反應裝置，所述絮凝池本體上形成有絮凝腔室，所述絮凝劑加藥管和污泥回流管均連通至進水管，所述進水管的進水端連通于所述第一敞口。

3.根據權利要求?2?所述的絮凝池，其特征在于：所述進水管設置于絮凝池本體軸向的底部，且所述進水管的出水方向沿軸向豎直向上；所述絮凝本體軸向的底部還布置有第一隔墻，所述第一隔墻將絮凝腔室分隔成反應區和處理區，所述絮凝反應裝置安裝于反應區，所述第一隔墻沿軸向的高度至少為絮凝腔室內有效水深的1/2。

4.根據權利要求?3?所述的絮凝池，其特征在于：所述絮凝本體軸向的頂部還布置有第二隔墻，所述第二隔墻將所述處理區分成連通反應區的沉降區和連通排水口的上升區，所述排水口位于絮凝池本體軸向的頂部；沿軸向所述第二隔墻的底部和絮凝池本體的底部之間存有過水通道，所述過水通道連通沉降區和上升區。