[發(fā)明專(zhuān)利]波導(dǎo)模式激勵(lì)結(jié)構(gòu)、方法及其應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111265586.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-10-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114050407B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-09-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳鵬;袁斌;喻忠軍 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院空天信息創(chuàng)新研究院;廣東大灣區(qū)空天信息研究院 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01Q1/38 | 分類(lèi)號(hào): | H01Q1/38;H01Q21/00;H01P7/10 |
| 代理公司: | 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 樊曉 |
| 地址: | 100190 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 波導(dǎo) 模式 激勵(lì) 結(jié)構(gòu) 方法 及其 應(yīng)用 | ||
1.一種波導(dǎo)模式激勵(lì)結(jié)構(gòu),包括:
第一金屬層、介質(zhì)層和第二金屬層,其中,貫穿介質(zhì)層形成有過(guò)孔;
其中,第一金屬層包括平面?zhèn)鬏斁€(xiàn)、短路末端,其中,所述短路末端形成于所述平面?zhèn)鬏斁€(xiàn)的第一側(cè),所述平面?zhèn)鬏斁€(xiàn)的第二側(cè)與所述平面?zhèn)鬏斁€(xiàn)的第一側(cè)相對(duì)應(yīng),位于所述第一金屬層的邊緣;
介質(zhì)層位于所述第一金屬層上側(cè);
第二金屬層位于所述介質(zhì)層上側(cè),包括耦合窗口,所述耦合窗口的內(nèi)側(cè)邊緣靠近所述短路末端;
其中,所述耦合窗口內(nèi)部包括U形膜片和緊耦合枝節(jié)陣列,所述U形膜片的開(kāi)口側(cè)朝向所述平面?zhèn)鬏斁€(xiàn),所述緊耦合枝節(jié)陣列位于所述U形膜片的開(kāi)口側(cè),所述緊耦合枝節(jié)陣列與所述U形膜片不接觸;
其中,所述緊耦合枝節(jié)陣列包括多個(gè)緊耦合枝節(jié),所述緊耦合枝節(jié)的長(zhǎng)邊方向以相同的距離錯(cuò)開(kāi);以及
所述多個(gè)緊耦合枝節(jié)的個(gè)數(shù)大于等于3,且所述緊耦合枝節(jié)陣列關(guān)于所述平面?zhèn)鬏斁€(xiàn)左右對(duì)稱(chēng);
短路過(guò)孔,所述短路過(guò)孔貫穿所述介質(zhì)層,與所述U形膜片的未開(kāi)口側(cè)接觸,且位于所述平面?zhèn)鬏斁€(xiàn)的中心軸延長(zhǎng)線(xiàn)上,所述短路過(guò)孔為金屬化過(guò)孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波導(dǎo)模式激勵(lì)結(jié)構(gòu),其中,所述U形膜片與所述耦合窗口整體貼合,且關(guān)于所述平面?zhèn)鬏斁€(xiàn)左右對(duì)稱(chēng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波導(dǎo)模式激勵(lì)結(jié)構(gòu),還包括波導(dǎo),其中,所述耦合窗口的尺寸與所述波導(dǎo)的尺寸相同,所述波導(dǎo)與所述耦合窗口垂直端接。
4.一種波導(dǎo)模式激勵(lì)結(jié)構(gòu)的制備方法,包括:
在介質(zhì)層的兩側(cè)分別形成第一金屬層和第二金屬層,其中,貫穿介質(zhì)層形成有過(guò)孔;
在所述第一金屬層上形成平面?zhèn)鬏斁€(xiàn),以及位于所述平面?zhèn)鬏斁€(xiàn)的第一側(cè)的短路末端,其中,所述短路末端形成于所述平面?zhèn)鬏斁€(xiàn)的第一側(cè),所述平面?zhèn)鬏斁€(xiàn)的第二側(cè)與所述平面?zhèn)鬏斁€(xiàn)的第一側(cè)相對(duì)應(yīng),位于所述第一金屬層的邊緣;
在所述第二金屬層上形成耦合窗口,以使所述耦合窗口的內(nèi)側(cè)邊緣靠近所述短路末端;
在所述耦合窗口內(nèi)形成U形膜片和緊耦合枝節(jié)陣列,以使所述U形膜片的開(kāi)口側(cè)朝向所述平面?zhèn)鬏斁€(xiàn),所述緊耦合枝節(jié)陣列位于所述U形膜片的開(kāi)口側(cè),所述緊耦合枝節(jié)陣列與所述U形膜片不接觸;
其中,在所述耦合窗口內(nèi)形成所述緊耦合枝節(jié)陣列,包括:
形成多個(gè)緊耦合枝節(jié),所述多個(gè)緊耦合枝節(jié)沿著所述緊耦合枝節(jié)的長(zhǎng)邊方向以相同的距離錯(cuò)開(kāi);以及
形成的所述多個(gè)緊耦合枝節(jié)個(gè)數(shù)大于等于3,且所述緊耦合枝節(jié)陣列關(guān)于所述平面?zhèn)鬏斁€(xiàn)左右對(duì)稱(chēng);
貫穿所述介質(zhì)層形成有短路過(guò)孔,以使所述短路過(guò)孔與所述U形膜片的未開(kāi)口側(cè)接觸,且位于所述平面?zhèn)鬏斁€(xiàn)的中心軸延長(zhǎng)線(xiàn)上;以及對(duì)所述短路過(guò)孔進(jìn)行金屬化,形成金屬化短路過(guò)孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其中,在所述耦合窗口內(nèi)形成所述U形膜片,以使所述U形膜片與所述耦合窗口整體貼合,且關(guān)于所述平面?zhèn)鬏斁€(xiàn)左右對(duì)稱(chēng)。
6.一種波導(dǎo)模式激勵(lì)器件,包括采用如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的波導(dǎo)模式激勵(lì)結(jié)構(gòu)的集成器件。
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