[發明專利]一種量子點的清洗方法及制備方法在審
| 申請號: | 202111246931.6 | 申請日: | 2021-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN113801654A | 公開(公告)日: | 2021-12-17 |
| 發明(設計)人: | 孫培川;宋斌;梁凱旋;姚琪 | 申請(專利權)人: | 合肥福納科技有限公司 |
| 主分類號: | C09K11/02 | 分類號: | C09K11/02;C09K11/56;C09K11/88;B08B3/08;B82Y20/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 呂露 |
| 地址: | 230000 安徽省合肥市新站*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 量子 清洗 方法 制備 | ||
1.一種量子點的清洗方法,其特征在于,所述量子點的清洗方法包括:將量子點分散在第一非配位溶劑中,加入第一配位溶劑,在80~120℃下攪拌反應20~40min;
所述量子點的配體為三正辛基氧膦和/或正磷酸十八酯;
所述第一配位溶劑的摩爾數為所述量子點的陽離子的摩爾數的2~3倍;
所述第一配位溶劑為油酸和/或油酸鋅。
2.根據權利要求1所述的量子點的清洗方法,其特征在于,所述量子點為Ⅱ-Ⅵ族量子點和/或Ⅲ-Ⅴ族量子點。
3.根據權利要求1所述的量子點的清洗方法,其特征在于,將所述量子點分散在所述第一非配位溶劑后,所述量子點的陽離子在所述第一非配位溶劑中的濃度為0.25~0.5mol/L。
4.根據權利要求1所述的量子點的清洗方法,其特征在于,所述第一非配位溶劑包括十八烯、正己烷、正辛烷和氯仿中的任意一種或多種。
5.根據權利要求1所述的量子點的清洗方法,其特征在于,所述反應在惰性氣體氛圍下進行。
6.根據權利要求1~5任一項所述的量子點的清洗方法,其特征在于,所述在80~120℃下攪拌反應20~40min后,向制得的第一溶液中加入非極性溶劑和極性溶劑,并進行離心沉淀得到第一沉淀物,將所述第一沉淀物分散在非極性溶劑中進行離心除雜得到上清液,向所述上清液中加入極性溶劑進行離心沉淀得到第二沉淀物,將所述第二沉淀物分散于目標溶劑中,制得分散于所述目標溶劑的量子點;
可選地,所述非極性溶劑和所述第一溶液的體積比為0.8~1.2:1;
可選地,所述極性溶劑和所述第一溶液的體積比為2~2.5:1;
可選地,所述非極性溶劑包括正己烷、環己烷和乙酸乙酯中的任意一種或多種;
可選地,所述極性溶劑包括醇類溶劑。
7.一種量子點的制備方法,其特征在于,所述量子點的制備方法包括制備所述量子點,再將所述量子點按照權利要求1~6任一項所述的量子點的清洗方法進行清洗,所述量子點通過以下方法制得:
將含陽離子的前驅體溶液和含陰離子的前驅體溶液混合并在280~310℃下保溫,形成具有量子點納米晶核的反應液,檢測所述反應液中的量子點的波長移動到目標位置后停止反應,制得含有所述量子點的溶液,對所述量子點的溶液進行離心沉淀制得所述量子點;
所述含陽離子的前驅體溶液包括第二配位溶劑,所述第二配位溶劑為三正辛基氧膦和/或正磷酸十八酯。
8.根據權利要求7所述的量子點的制備方法,其特征在于,所述含陽離子的前驅體溶液中的陽離子的摩爾數是所述含陰離子的前驅體溶液中的陰離子的摩爾數的1.1~1.5倍。
9.根據權利要求7所述的量子點的制備方法,其特征在于,所述含陽離子的前驅體溶液通過以下方法制得:
將含陽離子的前驅體、所述第二配位溶劑和第二非配位溶劑混合并在100~180℃下反應0.5~3h;
可選地,所述第二非配位溶劑的摩爾數為所述含陽離子的前驅體中的陽離子的摩爾數的2~3倍;
可選地,所述含陽離子的前驅體中的陽離子和所述第二配位溶劑的摩爾體積比為0.25~0.5:1mol/L。
10.根據權利要求7所述的量子點的制備方法,其特征在于,對所述量子點的溶液進行離心沉淀的方法包括:向所述量子點的溶液中加入非極性溶劑和極性溶劑,離心沉淀得到所述量子點。
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