[發(fā)明專利]一種LED燈用藍(lán)寶石晶片的打磨工藝

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111243881.6
• 申請(qǐng)日: 2021-10-26
• 公開（公告）號(hào): CN113681378B
• 公開（公告）日: 2022-07-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐鵬飛;王文知;王巖;羅帥;季海銘
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇華興激光科技有限公司
• 主分類號(hào): B24B7/22
• 分類號(hào): B24B7/22;B24B41/06;B24B57/02;B24B49/00;B24B49/16;C09K3/14
• 代理公司: 江蘇長(zhǎng)德知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32478
• 代理人: 劉威威

1.一種LED燈用藍(lán)寶石晶片的打磨工藝，其特征在于，包括以下步驟：

S1、將待磨晶片縱向的固定在緊固圈內(nèi)；

S2、蒙有研磨墊的磨盤從待磨晶片的兩側(cè)以同速異向的方式打磨，并于打磨時(shí)持續(xù)從頂部向打磨面添加研磨液，所述打磨包括第一階段的粗磨和第二階段的精磨，與粗磨對(duì)應(yīng)的研磨液的粒度為微米級(jí)，與精磨對(duì)應(yīng)的研磨液的粒度為納米級(jí)；

S3、取出藍(lán)寶石晶片，洗凈即可；

所述緊固圈由半圓形的固定圈和活動(dòng)圈組成，固定圈傾斜的固定在基座的頂部，且固定圈內(nèi)設(shè)中空腔，一端連通固定圈與待磨晶片的接觸弧面上的若干導(dǎo)液孔，另一端連通設(shè)于基座內(nèi)的導(dǎo)液泵，導(dǎo)液泵的導(dǎo)液管經(jīng)換向閥分別接第一蓄液池和第二蓄液池，第一蓄液池內(nèi)蓄有對(duì)應(yīng)粗磨的研磨液，第二蓄液池內(nèi)蓄有對(duì)應(yīng)精磨的研磨液；

所述基座設(shè)置在蓄液池內(nèi)，蓄液池以基座為中心，對(duì)稱的分隔為第一蓄液池和第二蓄液池；基座內(nèi)設(shè)第一電機(jī)，第一電機(jī)軸轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)繞基座設(shè)置的轉(zhuǎn)盤，經(jīng)轉(zhuǎn)盤聯(lián)動(dòng)攔液板，使得攔液板可切換的遮擋第一蓄液池和第二蓄液池；

磨盤分別由第二電機(jī)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，第二電機(jī)固定在帶壓力傳感器的液壓桿的端部，液壓桿由支撐柱支撐的設(shè)置在蓄液池的兩側(cè)；

所述納米級(jí)的研磨液的組份包括基體和填料：填料包括粒子為球形的納米氧化鈦、納米氧化鋅、納米氧化鋁、納米氧化硅中的至少二種；基體包括丙烯酸酯共聚物。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的打磨工藝，其特征在于，所述微米級(jí)的研磨液的粒度為1.5um。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的打磨工藝，其特征在于，所述納米級(jí)的研磨液的粒度為20-40nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的打磨工藝，其特征在于，所述基體和填料的質(zhì)量比為1：（1-3）。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的打磨工藝，其特征在于，所述第一階段的打磨，磨盤的轉(zhuǎn)速階梯性的提速至30轉(zhuǎn)/min，提速的階梯為5轉(zhuǎn)/min，每階打磨10min，至30轉(zhuǎn)/min后打磨30min；磨盤與打磨面的壓力恒定為150-200g/cm²。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的打磨工藝，其特征在于，所述第二階段的打磨，磨盤的轉(zhuǎn)速階梯性的提速至50轉(zhuǎn)/min，提速的階梯為5轉(zhuǎn)/min，每階打磨10min，至50轉(zhuǎn)/min后打磨30min；磨盤與打磨面的壓力恒定為100-150g/cm²。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的打磨工藝，其特征在于，所述第二階段的打磨還包括降速打磨，即階梯性的降速至0轉(zhuǎn)/min，降速的階梯為10轉(zhuǎn)/min，每階打磨5min, 磨盤與打磨面的壓力恒定為50-100g/cm²。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的打磨工藝，其特征在于，所述磨盤的盤面溫度為25-35度。