[發明專利]一種沉陷區防止不均勻沉降的方法及其風機基礎結構在審
| 申請號: | 202111243430.2 | 申請日: | 2021-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN113774955A | 公開(公告)日: | 2021-12-10 |
| 發明(設計)人: | 楊薛亮;冷增輝;楊庭富;何瀅;陳紹志;李肄昊;吳軍 | 申請(專利權)人: | 中國電建集團貴州工程有限公司 |
| 主分類號: | E02D27/44 | 分類號: | E02D27/44;E02D17/02;E02D31/00;E02D3/12;E02D35/00;E02D15/02;E02D33/00 |
| 代理公司: | 貴州派騰知識產權代理有限公司 52114 | 代理人: | 朱雪瓊 |
| 地址: | 550000 貴州*** | 國省代碼: | 貴州;52 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 沉陷 防止 不均勻 沉降 方法 及其 風機 基礎 結構 | ||
1.一種沉陷區防止不均勻沉降的方法及其風機基礎結構,其特征在于:包括基坑(1)、壓實地基(2)、頂升預留槽(3)、糾偏方箱(4)、墊層(6)、風機基礎(7)、高壓注漿軟管(8),以及以下步驟:
步驟S1:風機基坑開挖,在沉陷區先采用機械開挖,并在最后剩余200mm至300mm土層時改用人工開挖,形成圓形的基坑(1),并對基坑(1)底部進行壓實,形成壓實地基(2);
步驟S2:糾偏方箱施工,在基坑(1)邊緣底部開設頂升預留槽(3),所述頂升預留槽(3)內沿周向均勻澆筑多個糾偏方箱(4),所述糾偏方箱(4)的長方體;
步驟S3:墊層(6)澆筑,在基坑(1)底平面進行澆筑形成墊層(6),墊層(6)的圓心與糾偏方箱(4)圍成的圓的圓心重合,所述墊層(6)的抗壓強度大于1.6MPa;
步驟S4:風機基礎鋼筋綁扎,在所述墊層(6)先進行基礎底層鋼筋的綁扎,然后綁扎鋼筋馬凳,最后綁扎中間層及面層鋼筋,形成風機基礎(7)的待澆筑空間;
步驟S5:高壓注漿軟管(8)敷設,高壓注漿軟管(8)敷設與所述步驟S4的風機基礎鋼筋綁扎同步進行,在風機基礎(7)的待澆筑空間上敷設多根高壓注漿軟管(8),高壓注漿軟管(8)的注漿端位于風機基礎(7)的待澆筑空間上端,所述高壓注漿軟管(8)的出漿端穿過墊層(6)后連通到墊層(6)底部;
步驟S6:風機基礎(7)澆筑,采用斜面分層澆筑,分層厚度控制在500mm以內,上層混凝土應在下層混凝土初凝前澆筑,基礎澆筑中要對混凝土進行充分的振搗棒,振搗棒要深入下層混凝土l50mm以上,混凝土澆筑到頂后,表面應壓實抹光;
步驟S7:風機基礎(7)糾偏,在風機基礎(7)上安裝風機并投入運行一段時間后,根據沉降情況進行風機基礎(7)的糾偏。
2.如權利要求1所述的一種沉陷區防止不均勻沉降的方法及其風機基礎結構,其特征在于:所述糾偏方箱(4)有20至30個,糾偏方箱(4)沿基坑(1)邊緣均勻分布,所述糾偏方箱(4)內設有頂升機構(5),頂升機構(5)的移動端與墊層下端面連接(6)。
3.如權利要求1所述的一種沉陷區防止不均勻沉降的方法及其風機基礎結構,其特征在于:所述頂升預留槽(3)側面設有活動側板(14),活動側板(14)外部與基坑(1)的傾斜邊沿相連接。
4.如權利要求1所述的一種沉陷區防止不均勻沉降的方法及其風機基礎結構,其特征在于:所述高壓注漿軟管(8)的注漿端均勻地設于風機基礎(7)的中間圓柱上端面中部,且高壓注漿軟管(8)的注漿端設有頂部膠泥封堵。
5.如權利要求4所述的一種沉陷區防止不均勻沉降的方法及其風機基礎結構,其特征在于:所述高壓注漿軟管(8)包括多根內圈粗管(9)和多根外圈細管(10),所述內圈粗管(9)和外圈細管(10)均以風機基礎(7)的軸線為中線,呈環形陣列排布,且外圈細管(10)靠近風機基礎(7)的外延,內圈粗管(9)的管徑比外圈細管(10)的管徑大,所述內圈粗管(9)的數量為6至12根,外圈細管(10)的數量為60至90根。
6.如權利要求1所述的一種沉陷區防止不均勻沉降的方法及其風機基礎結構,其特征在于:所述墊層(6)上設有定位孔(11),高壓注漿軟管(8)的出漿端位于定位孔(11)中,高壓注漿軟管(8)的出漿端設有PVC套管(12),PVC套管(12)位于定位孔(11)中,且定位孔(11)與PVC套管(12)之間的空隙中設有泡沫填充物(13)。
7.如權利要求1所述的一種沉陷區防止不均勻沉降的方法及其風機基礎結構,其特征在于:所述風機基礎(7)上設有沉降觀測檢測機構和高壓注漿機構,所述沉降觀測檢測機構、頂升機構(5)和高壓注漿機構分別與上位機相連接。
8.如權利要求7所述的一種沉陷區防止不均勻沉降的方法及其風機基礎結構,其特征在于:所述上位機包括遠程計算機,所述遠程計算機能夠對整個大片的沉陷區的風機基礎結構的下沉角度大小值進行集中測量反饋控制。
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