[發明專利]一種細干粒巖板表面微光處理方法

有效

• 申請號: 202111241338.2
• 申請日: 2021-10-25
• 公開（公告）號: CN114057397B
• 公開（公告）日: 2023-02-17
• 發明（設計）人: 蕭禮標;李惠文;程海龍;董軍樂;徐維鵬;黎伯云
• 申請（專利權）人: 蒙娜麗莎集團股份有限公司
• 主分類號: C03C8/02
• 分類號: C03C8/02;C04B41/86
• 代理公司: 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261
• 代理人: 曹芳玲;牛彥存

本發明公開一種細干粒巖板表面微光處理方法。所述方法包括以下步驟：利用巖板基料壓制成磚坯；在磚坯表面施面釉；在施面釉后的磚坯表面噴墨打印設計圖案；在噴墨打印設計圖案后的磚坯表面施干粒釉；所述干粒釉的礦物組成包括：以質量百分比計，高溫干粒13~18%；低溫干粒3~5%；高溫緞光釉1.5~2.5%；將施干粒釉后的磚坯燒成，獲得表面微光的細干粒巖板。所述方法通過調整干粒釉的組成使出窯產品形成磨砂釉面。

技術領域

本發明涉及一種細干粒巖板表面微光處理方法，屬于陶瓷磚生產加工領域。

背景技術

隨著巖板在裝飾材料中的推廣應用，人們對家裝應用的巖板提出更高要求，常規緞光巖板和拋釉面巖板已經無法滿足裝飾材料的應用。近年來細干粒釉面的陶瓷產品引爆巖板家具市場，其形貌特征表現為超細顆粒磨砂釉面。另外，細干粒釉面的陶瓷產品細膩質感提升了巖板裝飾檔次，得到廣大消費者的認可，但是仍存在干粒堆積不均勻、高溫干粒間的肉眼不可見的間隙導致干粒產品在使用過程中容易藏污納垢、出窯產品手感粗糙、光澤度差異大、防滑性能差的缺陷。這些性能缺陷導致細干粒釉面的陶瓷產品在市場推廣受阻。

發明內容

針對上述問題，本發明提供一種細干粒巖板表面微光處理方法，所述方法通過調整干粒釉的組成使出窯產品形成磨砂釉面，此外還利用輕刷將燒成后不平整的干粒釉面調整為相鄰干粒的間距接近等微米級分布，所得干粒面產品不易藏污，釉面光澤度為6～8度，燈光照射在釉面形成均勻漫反射，可以營造舒適溫馨的人居環境，且釉面質感更加細膩，增加了巖板的高級感。

第一方面，本發明提供一種細干粒巖板表面微光處理方法。所述方法包括以下步驟：利用巖板基料壓制成磚坯；

在磚坯表面施面釉；

在施面釉后的磚坯表面噴墨打印設計圖案；

在噴墨打印設計圖案后的磚坯表面施干粒釉；所述干粒釉的礦物組成包括：以質量百分比計，高溫干粒13～18％；低溫干粒3～5％；高溫緞光釉1.5～2.5％；

將施干粒釉后的磚坯燒成，獲得表面微光的細干粒巖板。

較佳地，所述干粒釉的化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂：55～57％、Al₂O₃：17～19％、堿土金屬氧化物：14～18％、堿金屬氧化物：4～6％、ZnO：3～4％。

較佳地，高溫干粒的始融溫度為920～950℃；優選地，高溫干粒的化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂：56～58％、Al₂O₃：18～20％、堿土金屬氧化物：13～17％、堿金屬氧化物：4～6％、ZnO：3～4％。所述高溫干粒的硅含量高、鋁含量低、高溫熔劑多，利于氣體排出，促進獲得質感更佳的干粒釉面。

較佳地，低溫干粒的始融溫度為900～930℃；優選地，低溫干粒的化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂：52～54％、Al₂O₃：16～18％、堿土金屬氧化物：15～19％、堿金屬氧化物：6～8％、ZnO：3～4％。

較佳地，高溫緞光釉的始融溫度為870～900℃；優選地，高溫緞光釉的化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂：49～51％、Al₂O₃：18～20％、堿土金屬氧化物：19～22％、堿金屬氧化物：4～6％。所述高溫緞光釉與高溫干粒和低溫干粒組合形成干粒釉，能夠提高對坯體及釉料的排氣效果，釉面質量高，防污性能好。

較佳地，高溫緞光釉的始融溫度低于高溫干粒；優選地，高溫緞光釉和高溫干粒的始融溫度差值控制在40～60℃。