[發(fā)明專利]一種細(xì)干粒巖板表面微光處理方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111241338.2 | 申請(qǐng)日： | 2021-10-25 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN114057397B | 公開（公告）日： | 2023-02-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 蕭禮標(biāo);李惠文;程海龍;董軍樂;徐維鵬;黎伯云 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 蒙娜麗莎集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C03C8/02 | 分類號(hào)： | C03C8/02;C04B41/86 |
| 代理公司： | 上海瀚橋?qū)＠硎聞?wù)所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲;牛彥存 |
| 地址： | 528211 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 細(xì)干粒巖板 表面 微光 處理 方法 | ||
1.一種細(xì)干粒巖板表面微光處理方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：
利用巖板基料壓制成磚坯；
在磚坯表面施面釉；
在施面釉后的磚坯表面噴墨打印設(shè)計(jì)圖案；
在噴墨打印設(shè)計(jì)圖案后的磚坯表面施干粒釉；所述干粒釉的礦物組成包括：以質(zhì)量百分比計(jì)，高溫干粒13~18%；低溫干粒3~5%；高溫緞光釉1.5~2.5%；
高溫干粒的始融溫度為920~950℃；所述高溫干粒的化學(xué)組成包括：以質(zhì)量百分比計(jì)，IL：0.2~0.6%、SiO2：56~58%、Al2O3：18~20%、SrO：4~5%、CaO：3~4%、MgO：1~2%、K2O：3~4%、 Na2O：1~2%、ZnO：3~4%、BaO：5~6%、Fe2O3：0.1~0.2%；
低溫干粒的始融溫度為900~930℃；所述低溫干粒的化學(xué)組成包括：以質(zhì)量百分比計(jì)，IL：0.3~0.7%、SiO2：52~54%、Al2O3：16~18%、SrO：3~4%、CaO：3~4%、MgO：0.1~0.5%、K2O：2~3%、Na2O：4~5%、ZnO：3~4%、BaO：9~10%、Fe2O3：0.1~0.2%；
高溫緞光釉的始融溫度為870~900℃；所述高溫緞光釉的化學(xué)組成包括：以質(zhì)量百分比計(jì)，IL：6~8%、SiO2：49~51%、Al2O3：18~20%、CaO：9~10%、MgO：5~6%、K2O：1~2%、Na2O：3~4%、ZrO2：0.01~0.04%、BaO：5~6%、Fe2O3：0.1~0.2%；
將施干粒釉后的磚坯燒成，獲得表面微光的細(xì)干粒巖板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述干粒釉的化學(xué)組成包括：以質(zhì)量百分比計(jì)，SiO2：55~57%、Al2O3：17~19%、堿土金屬氧化物：14~18%、堿金屬氧化物：4~6%、ZnO：3~4%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，高溫緞光釉和高溫干粒的始融溫度差值控制在40~60℃。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述干粒釉的施加方式為噴釉，比重為1.21~1.23 g/cm3，施釉量為70~90 g/m2。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，最高燒成溫度為1200~1220℃，燒成周期為135~165min。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述制備方法還包括使燒成后陶瓷磚的干粒釉面上相鄰干粒的間距接近等微米級(jí)分布的輕刷處理。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述細(xì)干粒巖板的釉面光澤度為6~8度。
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