[發明專利]一種三層共擠高耐磨聚醚醚酮復合薄膜及其制備方法有效
| 申請號: | 202111236737.X | 申請日: | 2021-10-23 |
| 公開(公告)號: | CN113954471B | 公開(公告)日: | 2022-07-05 |
| 發明(設計)人: | 林善華;張筍 | 申請(專利權)人: | 佛山市達孚新材料有限公司 |
| 主分類號: | B32B27/28 | 分類號: | B32B27/28;B32B27/06;B32B27/18;B32B27/20;B32B33/00;C08L61/16;C08L83/04;C08K3/36;C08K7/18;C08K3/04;C08J5/18;C01B32/16;B29C48/21;B29L7/00 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 三層 共擠高 耐磨 聚醚醚酮 復合 薄膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種三層共擠高耐磨聚醚醚酮復合薄膜,其特征在于:包括芯層和分別復合于芯層上、下表面的耐磨外層,所述芯層主要由PEEK樹脂制備而成;所述耐磨外層由以下質量百分比的原料制備而成:1.8-2.5%的納米二氧化硅母粒、2.0-4.0%的超高分子量硅酮母粒、0.8-10.0%的功能助劑、余量為PEEK樹脂;所述功能助劑包括0.3-2%的抗氧化劑1024和0.5-2%的抗氧化劑DLTP;所述芯層的厚度與單層所述耐磨外層的厚度比為8:1;所述三層共擠高耐磨聚醚醚酮復合薄膜的制備方法,包括以下步驟:
步驟一,將PEEK樹脂置于110-120℃下干燥至少4小時,備用,將納米二氧化硅母粒、超高分子量硅酮母粒置于75-85℃下干燥至4小時,備用,將完成干燥的PEEK樹脂和納米二氧化硅母粒、超高分子量硅酮母粒、功能助劑,按照配比投入高速混料機混合均勻,得混合料;
步驟二,將步驟一中制備的混合料投入單螺桿擠出機A,得改性PEEK熔體,將芯層樹脂原料投入單螺桿擠出機B,得芯層樹脂熔體,單螺桿擠出機溫度A溫度設置為360±5℃,轉速為10r/min;單螺桿擠出機B溫度設置為380±5℃,轉速為40r/min,擠出機A中的改性PEEK熔體經過連接管到模頭分配器,然后平均分到模頭分配器上下兩個流道,模頭分配器中間流道為芯層樹脂熔體,三層熔體通過模頭復合共擠流延到壓輥、鑄片輥、剝離輥,模頭溫度380±5℃,壓輥的溫度為180℃,鑄片輥溫度為200-220℃,剝離輥溫度為200℃,壓輥、鑄片輥和剝離輥之間的速度比例是1:1:1;
步驟三,經過剝離輥剝離下來的薄膜經經牽引輥牽引,自動測厚儀測量厚薄均勻度,冷卻定型,收卷,得成品。
2.根據權利要求1所述的一種三層共擠高耐磨聚醚醚酮復合薄膜,其特征在于:所述耐磨外層由以下質量百分比的原料制備而成:1.8-2.2%的納米二氧化硅母粒、2.8-3.2%的超高分子量硅酮母粒、0.3-2%的抗氧化劑1024、0.5-2%的抗氧化劑DLTP、90.0-95.0%的PEEK樹脂。
3.根據權利要求1所述的一種三層共擠高耐磨聚醚醚酮復合薄膜,其特征在于:所述芯層由以下質量百分比的原料制備而成:92-98%的PEEK樹脂、余量為第一光預聚物;所述功能助劑包括抗氧化劑1024、抗氧化劑DLTP、光引發劑、第二光預聚物;所述耐磨外層由以下質量百分比的原料制備而成:2.0%的納米二氧化硅母粒、3.0%的超高分子量硅酮母粒、0.4%的抗氧化劑1024、0.6%的抗氧化劑DLTP、90-92%的PEEK樹脂、0.1-0.5%的光引發劑、1.5-3.9%的第二光預聚物。
4.根據權利要求1所述的一種三層共擠高耐磨聚醚醚酮復合薄膜,其特征在于:所述芯層由以下質量百分比的原料制備而成:90-95%的PEEK樹脂、1.0-2.0%的第一光預聚物、余量為球形氧化鋁-碳納米管填料;所述功能助劑包括抗氧化劑1024、抗氧化劑DLTP、球形氧化鋁-碳納米管填料、光引發劑、第二光預聚物;所述耐磨外層由以下質量百分比的原料制備而成:2.0%的納米二氧化硅母粒、3.0%的超高分子量硅酮母粒、0.4%的抗氧化劑1024、0.6%的抗氧化劑DLTP、84-90%的PEEK樹脂、3-6%的球形氧化鋁-碳納米管填料、0.1-0.5%的光引發劑、余量為第二光預聚物。
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