[發明專利]一種高分子材料鍍膜工藝

在審

• 申請號: 202111194214.3
• 申請日: 2021-10-13
• 公開（公告）號: CN114000104A
• 公開（公告）日: 2022-02-01
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 深圳市恒鼎新材料有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/10;C23C14/08;C08J7/06
• 代理公司: 北京沁優知識產權代理有限公司 11684
• 代理人: 金慧玲

一種高分子材料鍍膜工藝，包括鍍氮氧化硅膜層步驟，在待加工件表面鍍氮氧化硅膜層作為后續鍍膜層的打底層，鍍氮氧化硅膜層步驟包括如下子步驟：A1、向鍍膜腔室中通入氬氣和氮氣的混合氣體，氬氣：氮氣為1:8?3:1；A2、調整真空度為0.1?1.33Pa；A3、打開硅靶電源對待加工件進行鍍膜，鍍膜的膜層厚度為2nm?200nm，此膜層作為氮氧化硅膜層與待加工件高分子材料層的界面結合層。本發明用氮氧化硅膜層作為打底層，不會偏黃，膜層小于20nm則幾乎無任何色相，不會改變待加工件的顏色，膜層厚度大于20nm，則打底層本身就可以作為光學膜系設計中的高折射率膜層。

技術領域

本發明涉及表面處理技術領域，尤其是一種高分子材料鍍膜工藝。

背景技術

高分子材料作為與鋼鐵和玻璃陶瓷并列的重要基礎材料，與人們的日常生活密切相關，高分子材料獨特的結構和易改性、易加工特點，使其具有其他材料不可比擬、不可取代的優異性能，從而廣泛用于科學技術、國防建設和國民經濟各個領域，并已成為現代社會生活中衣食住行用各個方面不可缺少的材料，目前，國內外產線實施的高分子材料鍍膜工藝多為NCVM工藝和其他常規鍍光學膜工藝；

NCVM工藝：目前市面上常見的鍍膜工藝，其做法通常是在高分子材料(如UV油漆、UV油墨、塑膠片材)表面蒸鍍一層銦、錫或銦錫合金(膜厚通常在20-2000nm之間)，然后在蒸鍍的金屬層表面涂覆一層UV油漆或者一層PU+一層UV對金屬層進行保護，利用金屬層的高反射率得到具有金屬外觀效果的涂層體系。該工藝方法只能做有限的金屬效果，不能得到光學增亮效果或者光學幻彩效果，且該方法必須在蒸鍍金屬后加高分子層對蒸鍍金屬進行保護。

高分子材料常規鍍光學膜工藝：該方法通常是在高分子材料(如UV油漆、UV油墨、塑膠片材)表面蒸鍍/濺射鍍一層硅、一氧化硅、硅+一氧化硅混合物、硅+一氧化硅+二氧化硅混合物作為附著力打底層(膜厚通常在1-10nm之間)，然后在硅或硅氧打底層上面蒸鍍/濺射鍍折射率透明材料(通常是氧化硅、氧化鈮、氧化鋯、氧化鈦等)的復合疊加膜層(折射率膜層厚度范圍可以從50nm-2000nm之間)作為光學增反或者增透膜層，然后在光學膜層表面涂覆高分子材料對光學膜層進行保護，利用高低折射率材料的光學搭配得到具有光學增亮效果或者光學幻彩的效果。該工藝方法只能用硅或硅氧混合材料打底，會導致鍍光學膜層之前待加工件就已經發黃，且透過率也會下降。該方法打底采用硅或硅氧混合材料打底后，對表面的光學膜層支撐不夠，導致所得到的光學膜層耐磨性能不好，所以，根據此狀況，需設計一種高分子材料鍍膜工藝。

發明內容

本發明的目的在于克服現有技術的不足，提供一種高分子材料鍍膜工藝。

本發明解決其技術問題是采取以下技術方案實現的：

一種高分子材料鍍膜工藝，包括鍍氮氧化硅膜層步驟，在待加工件表面鍍氮氧化硅膜層作為后續鍍膜層的打底層，所述氮氧化硅膜層中，氧和氮的原子數比例范圍為1:20-1:1。

優選的，所述氮氧化硅膜層中，所述鍍氮氧化硅膜層步驟包括如下子步驟：

A1’、向鍍膜腔室中通入氬氣、氧氣和氮氣，氧和氮的原子數比例范圍為1:20-1:1；

A2’、調整真空度為0.1-1.33Pa；

A3’、打開硅靶電源對待加工件進行鍍膜，鍍膜的膜層厚度為2nm-200nm，此膜層作為氮氧化硅膜層與待加工件高分子材料層的界面結合層。

優選的，包括鍍氮氧化硅膜層步驟后的鍍光學膜層步驟，鍍光學膜層步驟包括鍍低折射率膜層子步驟和鍍高折射率膜層子步驟，所述第折射率子步驟包括如下步驟：

B1、向鍍膜腔室中通入氬氣和氮氣的混合氣體，氬氣：氮氣為1:8-3:1；

B2、打開硅靶電源對待加工件進行鍍膜，鍍膜的膜層厚度為10nm-200nm氧化硅膜層，此氧化硅膜層膜層作為光學膜層中的低折射率膜層。