[發明專利]一種電子元器件保護膜的制備系統及方法

有效

• 申請號: 202111193871.6
• 申請日: 2021-10-13
• 公開（公告）號: CN114082592B
• 公開（公告）日: 2023-01-17
• 發明（設計）人: 張永宏;馬紅;趙銀華
• 申請（專利權）人: 江蘇亞龍新材料科技有限公司
• 主分類號: B05C1/12
• 分類號: B05C1/12;B05C9/04;B05C9/14;B05C13/02;B05D3/04;C09J7/40
• 代理公司: 南京新慧恒誠知識產權代理有限公司 32424
• 代理人: 胡玲玲

1.一種電子元器件保護膜的制備系統，包括基膜放卷輥（1）、離型膜放卷輥（2）、箱體和收卷輥（3），其特征在于，所述箱體包括烘干室（5）和涂覆室（6），所述涂覆室（6）固定設置于烘干室（5）的上部右側；

涂覆室（6）的內部設置有隔板（7），所述隔板（7）將涂覆室（6）由下至上依次分隔為第一涂覆室和第二涂覆室；

所述烘干室（5）的內部設置有第一烘干機構、第二烘干機構和貼合機構，所述第一烘干機構包括沿基膜（8）移動方向依次設置的第一導向輥Ⅰ（9）、第一導向輥Ⅱ（10）、第一導向輥Ⅲ（11）和壓輥組Ⅰ（12），所述第一導向輥Ⅰ（9）和第一導向輥Ⅱ（10）分別設置于烘干室（5）上部的右側和左側，所述第一導向輥Ⅲ（11）和壓輥組Ⅰ（12）分別設置于第一導向輥Ⅱ（10）的上方和第一導向輥Ⅰ（9）的上方；

所述第二涂覆室內的右側由下至上依次設置有涂覆導向輥Ⅰ（13）和涂覆導向輥Ⅱ（14）；

所述第二烘干機構包括沿基膜（8）移動方向依次設置的第二導向輥Ⅰ（15）、第二導向輥Ⅱ（16）、第二導向輥Ⅲ（17）、第二導向輥Ⅳ（18）和第二導向輥Ⅴ（19），所述第二導向輥Ⅰ（15）和第二導向輥Ⅱ（16）分別設置于烘干室（5）上部的右側和左側，且均位于第一導向輥Ⅲ（11）和壓輥組Ⅰ（12）的上方，所述第二導向輥Ⅲ（17）和第二導向輥Ⅳ（18）分別設置于第二導向輥Ⅱ（16）和第一導向輥Ⅰ（9）的下方，所述第二導向輥Ⅱ（16）和第二導向輥Ⅲ（17）均位于第一導向輥Ⅱ（10）和第一導向輥Ⅲ（11）的左側，所述第二導向輥Ⅴ（19）位于第二導向輥Ⅲ（17）的下方；

所述貼合機構包括沿基膜（8）移動方向依次設置的多個壓輥組Ⅱ（20）、貼合導向輥Ⅰ（21）、貼合導向輥Ⅱ（22）和貼合導向輥Ⅲ（23），所述貼合導向輥Ⅰ（21）和貼合導向輥Ⅲ（23）由上至下依次設置于烘干室（5）的右側下部，多個所述壓輥組Ⅱ（20）等間隔設置于第二導向輥Ⅴ（19）和貼合導向輥Ⅰ（21）之間，所述貼合導向輥Ⅱ（22）設置于第二導向輥Ⅴ（19）的下方；

所述基膜（8）經基膜放卷輥（1）放卷后進入第一涂覆室中進行第一次涂料涂覆；涂覆后的基膜（8）進入烘干室（5）中，經第一導向輥Ⅰ（9）底部移動至第一導向輥Ⅱ（10）底部，繞經第一導向輥Ⅱ（10）至第一導向輥Ⅲ（11）頂部，繞經第一導向輥Ⅲ（11）至壓輥組Ⅰ（12）之間通過，完成第一次烘干處理；烘干后的基膜（8）進入第二涂覆室中進行第二次涂料涂覆，然后經涂覆導向輥Ⅰ（13）的底部繞至涂覆導向輥Ⅱ（14）頂部；涂覆后的基膜（8）進入烘干室（5）中，經第二導向輥Ⅰ（15）頂部移動至第二導向輥Ⅱ（16）頂部，繞經第二導向輥Ⅱ（16）至底部第二導向輥Ⅲ（17），繞經第二導向輥Ⅲ（17）至第二導向輥Ⅳ（18）頂部，繞經第二導向輥Ⅳ（18）至第二導向輥Ⅴ（19）頂部，完成第二次烘干處理；離型膜（34）經離型膜放卷輥（2）放卷后進入烘干室（5）中，繞經第二導向輥Ⅴ（19）至多個壓輥組Ⅱ（20）之間，以使基膜（8）和離型膜（34）粘合在一起；保護膜繞經貼合導向輥Ⅰ（21）至貼合導向輥Ⅱ（22）頂部，繞經貼合導向輥Ⅱ（22）至貼合導向輥Ⅲ（23）頂部，完成第三次烘干處理，最后被收卷至收卷輥（3）上。

2.根據權利要求1所述的一種電子元器件保護膜的制備系統，其特征在于，所述第一涂覆室和第二涂覆室中均包括有涂覆機構，所述涂覆機構包括儲料槽（24）和涂料輥（25），所述涂料輥（25）的下部設置于儲料槽（24）內并浸于儲料槽（24）內的涂料中，所述儲料槽（24）內設置有加熱機構和液位傳感器，所述涂料輥（25）的頂部與基膜（8）的底部緊密接觸。

3.根據權利要求2所述的一種電子元器件保護膜的制備系統，其特征在于，所述涂覆室（6）的右側壁下部設置有基膜第一進口，所述烘干室（5）右側壁的上部由上至下的設置有基膜第二進口、基膜出口和基膜第三進口，烘干室（5）的左側壁下部設置有離型膜進口，右側壁下部設置有保護膜出口。

4.根據權利要求3所述的一種電子元器件保護膜的制備系統，其特征在于，所述基膜第一進口和第一涂覆室中的涂料輥（25）之間設置有壓輥組Ⅲ（26），所述基膜出口和第二涂覆室中的涂料輥（25）之間設置有壓輥組Ⅳ（27）。