[發(fā)明專利]一種電子元器件保護(hù)膜的制備系統(tǒng)及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111193871.6 | 申請日: | 2021-10-13 |
| 公開(公告)號: | CN114082592B | 公開(公告)日: | 2023-01-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張永宏;馬紅;趙銀華 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇亞龍新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | B05C1/12 | 分類號: | B05C1/12;B05C9/04;B05C9/14;B05C13/02;B05D3/04;C09J7/40 |
| 代理公司: | 南京新慧恒誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32424 | 代理人: | 胡玲玲 |
| 地址: | 214500 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電子元器件 保護(hù)膜 制備 系統(tǒng) 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種電子元器件保護(hù)膜的制備系統(tǒng),包括基膜放卷輥、離型膜放卷輥、箱體和收卷輥,箱體包括烘干室和涂覆室,涂覆室固定設(shè)置于烘干室的上部右側(cè),涂覆室的內(nèi)部設(shè)置有隔板,隔板將涂覆室由下至上依次分隔為第一涂覆室和第二涂覆室,烘干室的內(nèi)部設(shè)置有第一烘干機(jī)構(gòu)、第二烘干機(jī)構(gòu)和貼合機(jī)構(gòu)。本發(fā)明可完成涂覆防靜電涂料、涂覆膠液、烘干和離型膜貼合處理工序,不僅節(jié)省了設(shè)備的占地面積,降低了工人的勞動量和生產(chǎn)成本,且有效提高了工作效率和產(chǎn)品質(zhì)量。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于保護(hù)膜加工技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種電子元器件保護(hù)膜的制備系統(tǒng)及方法。
背景技術(shù)
保護(hù)膜按照用途可以分為電子元器件保護(hù)膜、汽車保護(hù)膜、家用保護(hù)膜、食品保鮮保護(hù)膜等,其中電子元器件保護(hù)膜廣泛應(yīng)用于FPC、PCB及電子元器件生產(chǎn)過程中的表面材料保護(hù)和防止靜電的發(fā)生,電子元器件保護(hù)膜為了配合各種電子元器件的使用,需要進(jìn)行膠液和抗靜電涂料的涂覆,涂覆完成之后需要分別進(jìn)行烘干處理,以使膠液和抗靜電涂料牢固附和在保護(hù)膜表面,其中的涂覆和烘干處理需要分開處理,需要的設(shè)備較多,工序比較復(fù)雜,工作成本高,鑒于此,有必要研究一種電子元器件保護(hù)膜的制備系統(tǒng)及方法。
發(fā)明內(nèi)容
為解決現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明的目的在于提供一種電子元器件保護(hù)膜的制備系統(tǒng)及方法,可完成涂覆防靜電涂料、涂覆膠液、烘干和離型膜貼合處理工序,不僅節(jié)省了設(shè)備的占地面積,降低了工人的勞動量和生產(chǎn)成本,且有效提高了工作效率和產(chǎn)品質(zhì)量。
為了實現(xiàn)上述目標(biāo),本發(fā)明采用如下的技術(shù)方案:
一種電子元器件保護(hù)膜的制備系統(tǒng),包括基膜放卷輥、離型膜放卷輥、箱體和收卷輥,箱體包括烘干室和涂覆室,涂覆室固定設(shè)置于烘干室的上部右側(cè),涂覆室的內(nèi)部設(shè)置有隔板,隔板將涂覆室由下至上依次分隔為第一涂覆室和第二涂覆室,烘干室的內(nèi)部設(shè)置有第一烘干機(jī)構(gòu)、第二烘干機(jī)構(gòu)和貼合機(jī)構(gòu),第一烘干機(jī)構(gòu)包括沿基膜移動方向依次設(shè)置的第一導(dǎo)向輥Ⅰ、第一導(dǎo)向輥Ⅱ、第一導(dǎo)向輥Ⅲ和壓輥組Ⅰ,第一導(dǎo)向輥Ⅰ和第一導(dǎo)向輥Ⅱ分別設(shè)置于烘干室上部的右側(cè)和左側(cè),第一導(dǎo)向輥Ⅲ和壓輥組Ⅰ分別設(shè)置于第一導(dǎo)向輥Ⅱ的上方和第一導(dǎo)向輥Ⅰ的上方,第二涂覆室內(nèi)的右側(cè)由下至上依次設(shè)置有涂覆導(dǎo)向輥Ⅰ和涂覆導(dǎo)向輥Ⅱ,第二烘干機(jī)構(gòu)包括沿基膜移動方向依次設(shè)置的第二導(dǎo)向輥Ⅰ、第二導(dǎo)向輥Ⅱ、第二導(dǎo)向輥Ⅲ、第二導(dǎo)向輥Ⅳ和第二導(dǎo)向輥Ⅴ,第二導(dǎo)向輥Ⅰ和第二導(dǎo)向輥Ⅱ分別設(shè)置于烘干室上部的右側(cè)和左側(cè),且均位于第一導(dǎo)向輥Ⅲ和壓輥組Ⅰ的上方,第二導(dǎo)向輥Ⅲ和第二導(dǎo)向輥Ⅳ分別設(shè)置于第二導(dǎo)向輥Ⅱ和第一導(dǎo)向輥Ⅰ的下方,第二導(dǎo)向輥Ⅱ和第二導(dǎo)向輥Ⅲ均位于第一導(dǎo)向輥Ⅱ和第一導(dǎo)向輥Ⅲ的左側(cè),第二導(dǎo)向輥Ⅴ位于第二導(dǎo)向輥Ⅲ的下方,貼合機(jī)構(gòu)包括沿基膜移動方向依次設(shè)置的多個壓輥組Ⅱ、貼合導(dǎo)向輥Ⅰ、貼合導(dǎo)向輥Ⅱ和貼合導(dǎo)向輥Ⅲ,貼合導(dǎo)向輥Ⅰ和貼合導(dǎo)向輥Ⅲ由上至下依次設(shè)置于烘干室的右側(cè)下部,多個壓輥組Ⅱ等間隔設(shè)置于第二導(dǎo)向輥Ⅴ和貼合導(dǎo)向輥Ⅰ之間,貼合導(dǎo)向輥Ⅱ設(shè)置于第二導(dǎo)向輥Ⅴ的下方。
優(yōu)選地,前述第一涂覆室和第二涂覆室中均包括有涂覆機(jī)構(gòu),涂覆機(jī)構(gòu)包括儲料槽和涂料輥,涂料輥的下部設(shè)置于涂料槽內(nèi)并浸于涂料槽內(nèi)的涂料中,儲料槽內(nèi)設(shè)置有加熱機(jī)構(gòu)和液位傳感器,涂料輥的頂部與基膜的底部緊密接觸。
再優(yōu)選地,前述涂覆室的右側(cè)壁下部設(shè)置有基膜第一進(jìn)口,烘干室右側(cè)壁的上部由上至下的設(shè)置有基膜第二進(jìn)口、基膜出口和基膜第三進(jìn)口,烘干室的左側(cè)壁下部設(shè)置有離型膜進(jìn)口,右側(cè)壁下部設(shè)置有保護(hù)膜出口。
更優(yōu)選地,前述基膜第一進(jìn)口和第一涂覆室中的涂料輥之間設(shè)置有壓輥組Ⅲ,基膜出口和第二涂覆室中的涂料輥之間設(shè)置有壓輥組Ⅳ。
進(jìn)一步優(yōu)選地,前述壓輥組Ⅰ、壓輥組Ⅱ、壓輥組Ⅲ和壓輥組Ⅳ均包括上壓輥和下壓輥,可對基膜起到固定的作用,避免基膜在移動過程中出現(xiàn)偏移和翻邊的現(xiàn)象。
具體地,前述基膜放卷輥、離型膜放卷輥和收卷輥分別對應(yīng)設(shè)置于基膜第一進(jìn)口、離型膜進(jìn)口和保護(hù)膜出口的外側(cè)。
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