[發(fā)明專利]柔性折疊X射線探測器及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111188593.5 | 申請日: | 2021-10-12 |
| 公開(公告)號: | CN114038866A | 公開(公告)日: | 2022-02-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 史思罡;楊炯燦;孫建軍;金利波;羅宏德 | 申請(專利權(quán))人: | 上海奕瑞光電子科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/146 | 分類號: | H01L27/146;G01N23/04 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 盧炳瓊 |
| 地址: | 201201 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 柔性 折疊 射線 探測器 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明提供一種柔性折疊X射線探測器及其制備方法,通過在襯底上形成柔性基底層、柔性感光陣列層、閃爍體層及柔性封裝層后,在進行折疊操作后,形成位于襯底上的探測器堆疊結(jié)構(gòu),從而本申請在將一塊探測器進行折疊后,可實現(xiàn)雙能乃至多能的探測結(jié)果,從而可減少探測器數(shù)量,提高探測效率,且可以根據(jù)需要劃分更多的能量區(qū)間,為更多能量信息的引入提供了條件,以提供更細的能譜區(qū)分,該探測器對于噪聲的抑制更為有效,能夠有效提高圖像質(zhì)量,且為柔性探測器,可便捷的對曲面的待測物體進行檢測,從而本申請可提供一種工藝簡單、成本低、操作便捷、圖像質(zhì)量較高的X射線探測器。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于X射線探測器領(lǐng)域,涉及一種柔性折疊X射線探測器及其制備方法。
背景技術(shù)
X射線輻射成像利用X射線短波長、易穿透的性質(zhì),不同原子序數(shù)、密度和厚度材料對X射線吸收不同的特點,通過探測透過物體的X射線的強度來成像。體積小、重量輕、移動便攜的數(shù)字X射線探測器廣泛應(yīng)用于醫(yī)療診斷、工業(yè)檢測和安全檢查,逐漸取代了以膠片為記錄介質(zhì)的傳統(tǒng)X射線成像系統(tǒng)。
X射線探測器概括的說就是一種采用半導(dǎo)體技術(shù)將X射線能量轉(zhuǎn)換為電信號,產(chǎn)生X射線圖像的檢測器。其從能量轉(zhuǎn)換的方式可以分為兩種:間接轉(zhuǎn)換型探測器和直接轉(zhuǎn)換型探測器。其中非晶硅探測器為間接式探測器,主要是將閃爍體層(碘化銫或硫氧化釓)、成像傳感器(光電二極管PD及薄膜晶體管TFT)和信號處理電路板進行組裝集成。
在X射線探測器的應(yīng)用中,對于密度較小、厚度較薄的物品的檢測中,單能譜探測已難以滿足檢測需求,從而雙能譜探測越來越受到人們的關(guān)注,但現(xiàn)有的雙能成像系統(tǒng)一般為采用兩塊探測器的集成結(jié)構(gòu),即雙能成像系統(tǒng)中具有高能探測器及低能探測器,以分別探測高能X射線和低能X射線,但該種雙能探測器由于需要設(shè)置多個系統(tǒng),多套讀出電路,從而制造成本較高,且系統(tǒng)與系統(tǒng)之間存在差異性,制備工藝復(fù)雜,以及難以對具有曲面的待測物體進行檢測。
因此,提供一種柔性折疊X射線探測器及其制備方法,實屬必要。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點,本發(fā)明的目的在于提供一種柔性折疊X射線探測器及其制備方法,用于解決現(xiàn)有技術(shù)中雙能X射線探測器結(jié)構(gòu)及工藝復(fù)雜、難以獲得高質(zhì)量圖像的問題。
為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的,本發(fā)明提供一種柔性折疊X射線探測器的制備方法,包括以下步驟:
提供襯底;
于所述襯底上形成柔性基底層;
于所述柔性基底層上形成柔性感光陣列層,所述柔性感光陣列層包括電連接的光電二極管及薄膜晶體管;
于所述柔性感光陣列層上形成閃爍體層,所述閃爍體層中具有顯露所述柔性感光陣列層的溝槽;
形成覆蓋所述閃爍體層及溝槽的柔性封裝層;
將部分所述柔性基底層與所述襯底進行剝離;
基于所述溝槽,進行折疊,并將X射線濾過層置于所述柔性封裝層內(nèi),形成位于所述襯底上的探測器堆疊結(jié)構(gòu);
去除顯露的所述襯底,形成所述柔性折疊X射線探測器。
可選地,所述溝槽的數(shù)目包括2個-5個,且根據(jù)所述溝槽的數(shù)目進行對應(yīng)的折疊操作。
可選地,所述溝槽在所述感光陣列層上形成的投影區(qū)中未設(shè)置所述光電二極管及薄膜晶體管。
可選地,形成所述閃爍體層的方法包括鍍膜法或貼合法。
可選地,位于所述溝槽兩側(cè)的所述閃爍體層具有相同或不同材質(zhì)。
可選地,所述X射線濾過層包括鎢金屬X射線濾過層。
可選地,所述柔性基底層包括PI柔性基底層,且剝離所述柔性基底層與所述襯底的方法包括激光剝離法。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





