[發明專利]一種真空鍍膜機的旋轉載片裝置

在審

• 申請號: 202111184455.X
• 申請日: 2021-10-12
• 公開（公告）號: CN113943931A
• 公開（公告）日: 2022-01-18
• 發明（設計）人: 黃鵬飛;楊濤
• 申請（專利權）人: 江蘇晉譽達半導體股份有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/30;C23C14/14
• 代理公司: 蘇州金項專利代理事務所(普通合伙) 32456
• 代理人: 金星

本發明公開了一種真空鍍膜機的旋轉載片裝置，包括上腔體和自轉架，自轉架上設置有固定槽，上腔體上設置有旋轉動力裝置，所述固定槽包括內圈固定槽和外圈固定槽，自轉架包括架體，架體的頂部中心設置有連接法蘭，旋轉動力裝置的動力端與連接法蘭可拆卸連接，上腔體上設置有遮擋部分內圈固定槽和部分外圈固定槽的遮擋裝置，該遮擋裝置遮擋外圈固定槽的面積大于遮擋內圈固定槽的面積。該旋轉載片裝置能夠方便自轉架的整體取出，同時還能提高內圈基片和外圈基片整體的均勻性。

技術領域

本發明涉及一種旋轉載片裝置，用于真空鍍膜機上使用。

背景技術

真空鍍膜機是半導體材料制作過程中一種常用的設備，目前主要有電子束蒸發法，其主要原理是在真空條件下利用電子束進行直接加熱蒸發材料，使蒸發材料氣化并向基片移動，在基底上凝結形成薄膜的方法。電子束蒸發沉積法可以制備高純薄膜，同時在同一蒸發沉積裝置中可以安置多個坩堝，實現同時或分別蒸發，沉積多種不同的物質。通過電子束蒸發，任何材料都可以被蒸發。電子束蒸發可以蒸發高熔點材料，蒸發熱效率高、束流密度大、蒸發速度快，制成的薄膜純度高、質量好，厚度可以較準確地控制，可以廣泛應用于制備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。而目前的真空鍍膜機主要包括鍍膜腔，鍍膜腔的頂部為上腔體且安裝了自轉架，基片放置在自轉架上旋轉，而鍍膜腔的底部則放置了電子槍和坩堝，金屬蒸發后沉積在自轉架的基片上。然由于自轉架上的基片是繞其旋轉中心圓周布置的，因此，按照布置的直徑不同，基片形成了內圈基片和外圈基片，而在單位時間內，內外圈基片行走的路徑長度是不相同的，就會造成鍍膜厚度的不均。另外目前的旋轉載片裝置自轉架的更換相對較復雜，因此在每次換片時的時間較長，影響了真空鍍膜的效率。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是：提供一種真空鍍膜機的旋轉載片裝置，該旋轉載片裝置能夠方便自轉架的整體取出，同時還能提高內圈基片和外圈基片整體的均勻性。

為解決上述技術問題，本發明的技術方案是：一種真空鍍膜機的旋轉載片裝置，包括上腔體和轉動安裝于上腔體的自轉架，所述自轉架上設置有至少兩圈用于固定基片的固定槽，所述上腔體上設置有驅動自轉架旋轉的旋轉動力裝置，所述固定槽包括同心設置的若干個內圈固定槽和若干個外圈固定槽，所述自轉架包括球面狀的架體，所述架體的球心與真空鍍膜機的靶材位置重合，所述架體的頂部中心設置有連接法蘭，所述旋轉動力裝置的動力端與連接法蘭可拆卸連接，所述上腔體上設置有尺寸大于自轉架直徑的換片口，所述換片口上可拆卸固定有換片門，所述上腔體上設置有遮擋部分內圈固定槽和部分外圈固定槽的遮擋裝置，該遮擋裝置遮擋外圈固定槽的面積大于遮擋內圈固定槽的面積。

作為一種優選的方案，所述連接法蘭包括筒體和設置于筒體上的下連接法蘭部和上連接法蘭部，所述架體的旋轉中心處設置有插入孔，所述筒體由上而下插入所述插入孔內且下連接法蘭與架體螺栓固定，所述旋轉動力裝置的動力端上設置有掛桿，所述上連接法蘭與所述掛桿可拆卸連接。

作為一種優選的方案，所述掛桿包括連接桿部和設置于連接桿部下部的第一鉤掛桿部和第二鉤掛桿部，第一鉤掛桿部和第二鉤掛桿部之間的間距大于上連接法蘭的間距，所述第一鉤掛桿部和第二鉤掛桿部的下部分別設置有第一掛鉤部和第二掛鉤部，所述上連接法蘭放置于第一掛鉤部和第二掛鉤部上且通過壓板螺栓固定。

作為一種優選的方案，所述第一掛鉤部和第二掛鉤部的上表面設置有方便上連接法蘭放置的定位凹槽。

作為一種優選的方案，所述遮擋裝置包括若干個固定于上腔體上的支座，每個支座上均擺動安裝有擺桿，所述擺桿上固定有用于遮擋片，所述遮擋片徑向延伸，遮擋片上具有用于遮擋外圈固定槽的外遮擋部和用于內圈固定槽的內遮擋部，外遮擋部的面積大于內遮擋部的面積，所述擺桿由偏擺動力裝置驅動偏擺。

作為一種優選的方案，所述偏擺動力裝置包括豎直安裝于上腔體上的直線動力裝置，所述直線動力裝置的輸出端固定有驅動齒條，所述擺桿的一端設置有與驅動齒條嚙合的齒輪，所述支座上設置有限制擺桿擺動角度的限位結構。