[發(fā)明專利]一種具有紅外低發(fā)射率的隱身涂層及其制備方法與應(yīng)用

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202111169775.8
• 申請日: 2021-10-08
• 公開（公告）號: CN113897574A
• 公開（公告）日: 2022-01-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張小鋒;殷舉航;劉敏;鄧春明;鄧暢光;鄧子謙;毛杰
• 申請（專利權(quán)）人: 廣東省科學(xué)院新材料研究所
• 主分類號: C23C4/10
• 分類號: C23C4/10;C23C4/073;C23C4/134;C23C4/02;C23C14/08;C23C14/16;C23C14/02;F41H3/00
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 覃蛟

1.一種具有紅外低發(fā)射率的隱身涂層，其特征在于，所述隱身涂層包括YSZ陶瓷層，所述YSZ陶瓷層具有羽毛柱狀晶，且羽毛柱狀晶之間的間隙不超過1μm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隱身涂層，其特征在于，所述羽毛柱狀晶之間的間隙為圓形孔隙；

優(yōu)選地，所述YSZ陶瓷層的孔隙率小于5％；

優(yōu)選地，所述YSZ陶瓷層的厚度為150-200μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的隱身涂層，其特征在于，所述隱身涂層還包括用于設(shè)置于基底及所述YSZ陶瓷層之間的NiCoCrAlY粘結(jié)層；

優(yōu)選地，所述NiCoCrAlY粘結(jié)層的厚度為150-200μm；

優(yōu)選地，所述基底的溫度為1200-1600℃；

優(yōu)選地，所述基底的材料為合金材料；

更優(yōu)地，所述合金材料包括Ni、Co、Cr、Mo、Al和Ti中的至少一種。

4.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的隱身涂層的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：制備所述YSZ陶瓷層。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其特征在于，采用等離子噴涂-物理氣相沉積方式制備所述YSZ陶瓷層，制備過程中，噴涂距離為600-800mm；

優(yōu)選地，所述YSZ陶瓷層的制備條件還包括：噴涂氣體包括氬氣和氦氣，所述氬氣的流量為30-40L/min，所述氦氣的流量為50-70L/min，噴涂功率為100-130Kw。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其特征在于，先于基底表面沉積NiCoCrAlY粘結(jié)層，再于所述NiCoCrAlY粘結(jié)層的表面沉積所述YSZ陶瓷層；

優(yōu)選地，沉積所述YSZ陶瓷層之前，還包括對所述NiCoCrAlY粘結(jié)層進(jìn)行拋光處理；

優(yōu)選地，拋光至所述NiCoCrAlY粘結(jié)層的摩擦系數(shù)為1-2μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述NiCoCrAlY粘結(jié)層的制備條件包括：噴涂氣體包括氬氣和氫氣，所述氬氣的流量為50-70L/min，所述氫氣的流量為5-10L/min，噴涂電流為600-700A，噴涂距離為200-300mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法，其特征在于，在沉積所述NiCoCrAlY粘結(jié)層之前，還包括對所述基底進(jìn)行前處理；

優(yōu)選地，前處理包括：對所述基底的待沉積面進(jìn)行超聲清洗處理，隨后再進(jìn)行噴砂粗化處理；

優(yōu)選地，超聲清洗處理所用試劑包括丙酮和酒精；

優(yōu)選地，噴砂粗化處理?xiàng)l件包括：噴砂壓力為0.2-0.4MPa，噴砂角度為50-70°，噴砂距離為100-120mm，噴砂時間為1-2min；

優(yōu)選地，噴砂粗化處理所用砂為46#棕剛玉砂。

9.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的隱身涂層的應(yīng)用，其特征在于，所述隱身涂層用于作為飛行器的紅外隱身涂層。

10.一種飛行器，其特征在于，所述飛行器具有如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的隱身涂層。